174750. lajstromszámú szabadalom • Eljárás nagy hőállóságú szitamaszk előállítására
MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG SZABADALMI LEÍRÁS SZOLGÁLATI TALÁLMÁNY 174750 Bejelentés napja: 1976. X. 29. (Hl—450) Nemzetközi osztályozás: G 03 C 1/74 ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL Közzététel napja: 1979. VIII. 28. Megjelent: 1980. IX. 30. Feltalálók: Szabadalmas: Dr. Ligeti Róbertné oki. vegyészmérnök, 25%, Híradástechnikai Ipari Kutató Intézet, Estók Sándor oki. vegyészmérnök, 25%, Budapest Seyfried Éva okL vegyészmérnök, 50%, Budapest Eljárás nagy hőáUóságú szitamaszk előállítására 1 A találmány nagy hő és vegyszerállóságú szitamaszkok előállítására vonatkozik. A találmány szerint előállított szitamaszk 300 °C-ig használható. A kitűzött feladatot úgy oldjuk meg, hogy a fényérzékenyített és a szitára felhordott 100- 5-130/an poliamidsav réteget szobahőmérsékletű nagytisztaságú nitrogénáramban szárítjuk, majd fotolitográfiai úton a maszkon az ábrát kialakítjuk és a stabilizálás után, két lépcsőben hőkezeljük. Közismert, hogy a szitanyomtatási technika a 10 múlt század végén nyert ipari felhasználást. A magas-, mély-, illetve síknyomtatás után a negyedik nyomdaipari technológiává vált. A gyakorlati élet legkülönbözőbb területein alkalmazzák, főleg ott, ahol valamilyen felületre — papír, fém üveg, mű- 15 anyag, stb. - egyszerűbb ábrát vagy valamilyen feliratot kell felvinni. Az utóbbi időkben a szitanyomtatási technika a híradástechnikai ipar területén is széleskörű felhasználást nyert. A nyomtatott áramkörök, a vastag-, 20 és vékonyréteg áramkörök elterjedésével a szitanyomtatási technológia jelentősége növekedett, ugyanis valamely szigetelő hordozóra különböző ellenállás, illetve vezetőrétegek egyszerű módon történő felvitelét tette lehetővé. A szitamaszkokkal 25 kapcsolatban az ipari felhasználók szigorú követelményeket támasztanak. Ezek a következők: Egyenletes bevonatvastagság, a kontaktus oldalon sima, egyenletes felszín, a szitamaszkoló anyag erőteljes tapadása a szitaszálakhoz, jó oldószerálló- 30 2 ság, a szitamaszkok egyszerű és gazdaságos elkészíthetősége. A szitanyomtatásban használt szitaszövetek anyaga, a korábban alkalmazott természetes alapú textileken kívül ma főleg poliamid (nylon), poliészter vagy fém, pl. acél, illetve bronz. Az ábraleképzés pontosságát döntő módon befolyásolja a szitaszövet finomsága. A szitaszöveten történő ábrakialakítás többféle úton mehet végbe. Legegyszerűbb, egyben legkevésbé precíz módszer, az ábra mechanikus kivágása és szitaszövetre ragasztása. Ez a módszer a híradástechnikai iparban, pontatlansága miatt nem alkalmazható. A pontossági igények növekedésével előtérbe került a maszkok fotomechanikus kialakítása. E fotomechanikai eljárás alapját képezi az a tény, hogy bizonyos szerves anyagok, pl. polivinil alkohol, polivinil acetát, stb. fényérzékenyítő anyaggal, pl. bikromáttal alkotott keverékei az ultraibolya fényre érzékenyek. A megvilágított részek a szerves vegyidet polimerizálódása következtében (pl. polivinil alkohol, poliamidsav) vagy pedig a szerves vfegyület depolimerizálódása következtében (pl. azovegyületek bomlása) szelektív oldószerre nézve kevésbé oldhatóvá, illetve oldhatóbbá válnak a megvilágítatlan területeknél. A fényérzékenyített maszkoló anyag és az ábrakialakítási műveletek - megvilágítás, előhívás - sorrendje alapján beszélhetünk direkt, illetve indirekt maszkkialakítási módszerekről. 174750
