172499. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés fotomaszkok ellenőrzésére kivonásos eljárással
7 172499 8 Ebben az esetben a 31 detektálási síkban létrejövő h (x,y) interferenciakép komplex téreloszlása a nyalábok lineáris kombinációja lesz: h(x,y) « af(x,y) + bgíx.yje1* A 8,17 sugárgyengítő elem, valamint a 18 fáziskülönbség szabályozó elem megfelelő beállításával elérhető, hogy a 31 detektálási síkban a 15 etalon fotomaszk (1. ábra) és a 28 vizsgálandó fotomaszk (3. ábra) különbségével arányos eloszlás jöjjön létre. Ilyenformán ha a 15 etalon fotomaszk és a 28 vizsgálandó fotomaszk teljesen azonos, akkor a 31 detektálási síkban a 27 rekonstruált etalon sugár és a 29 vizsgálandó tárgysugár tökéletesen kioltja egymást. Ha viszont a 28 vizsgálandó fotomaszk a 15 etalon fotomaszktól eltér, akkor a 31 detektálási síkban a kioltás nem lesz tökéletes és a 31 detektálási síkban az eltéréssel arányos sugárintenzitás érzékelhető. így a 31 detektálási síkban található összintenzitás érzékelésével a hibás és a hibátlan fotomaszkok egymástól elkülöníthetők. A 28 vizsgálandó fotomaszk (3. ábra) és a 15 etalon fotomaszk (1. ábra) közötti eltérések - hibák - két csoportba sorolhatók: amplitúdó hibák és fázishibák. A fázishibák az áthaladó sugár fáziselosztását modulálják. Az amplitúdó-hibák az áthaladó sugár amplitúdó eloszlását modulálják. Ezenkívül a hibák osztályozhatók abból a szempontból is, hogy a 28 vizsgálandó fotomaszkon a hiba a felhasználás szempontjából zavaró, vagy nem zavaró helyen található. A fotomaszkokon levő fázishibák nem zavarók. Nem zavarók továbbá azok az amplitúdóhibák sem, amelyek olyan — a tervezéskor meghatározható - helyeken találhatók, ahol az elkészült integrált áramkörök működési paramétereit nem befolyásolják. A hibák osztályozásához az szükséges, hogy a különbségi elosztás a 31 detektálási síkban leképezve jelenjen meg. A leképezhető elemekkel kiegészített elrendezés egy példakénti kiviteli alakját a 4. ábra szemlélteti. A 30 etalon hologram felvételekor a 15 etalon fotomaszk által modulált sugár először egy 33 első gyűjtőlencsébe jut és ezután érkezik a 25 hologramsíkba. Ellenőrzéskor a 28 vizsgálandó fotomaszk által modulált sugár is értelemszerűen ugyanezen az úton halad. A 27 rekonstruált etalon sugár és a 29 vizsgálandó tárgysugár a 25 hologramsík után helyezett 34 második gyűjtőlencsén keresztül érkezik a 31 detektálási síkba. A 33 első és 34 második gyűjtőlencse helyének és fókusztávolságának megválasztásával biztosítható, hogy a 31 detektálási síkban a különbségi eloszlás megfelelően nagyítva és leképezve jelenjen meg. Célszerű a 33 első gyűjtőlencsét a tárgysík közelébe a 34 második gyűjtőlencsét pedig a 25 hologram sík közelébe helyezni, mert így biztosítható, a lehető legjobb felbontó képesség. A 30 etalon hologram felvétele célszerűen a 33 első gyűjtőlencse hátsó fókuszsíkjában történik. A 33 első és a 34 második gyűjtőlencse fókusztávolságai, valamint elhelyezkedésük egyértelműen meghatározza a 31 detektálási sík helyét, valamint az elérhető nagyítást. A leképzés a 31 detektálási sík és a 14 tárgysík pontjai között kölcsönösen egyértelmű megfeleltetést létesít. Ilyen módon a 31 detektálási síkban található különbségi képen detektálható, hibajel helyének meghatározásából következtetni lehet arra, hogy a hiba a 28 vizsgálandó fotomaszkon hol található. Az amplitúdó- és fázishibák megkülönböztetésére a 18 fáziskülönbség szabályozó elem állandó változtatásával időben változó fáziskülönbséget kell létrehozni a 27 rekonstruált etalon sugár és a 29 vizsgálandó tárgysugár között. Ekkor a 31 detektálási síkban létrejövő h(x,y,t) interferenciakép a változó fáziskülönbségnek megfelelően a következő összefüggéseknek megfelelően változik: h(x,y,t) «=af(x,y)+ bei(^Og(xy) ahol tp (t) az időben változó fáziskülönbség. Ha a 15 etalon fotomaszk (l.ábra) és a 28 vizsgálandó fotomaszk között kizárólag fázishiba jellegű eltérés van, akkor a 31 detektálási sík minden egyes pontjában elérhető a teljes kioltás a fáziskülönbség megfelelő változtatásával. Amplitúdó hiba esetén az amplitúdó hibáknak megfelelő helyen a kioltás nem lesz teljes bármilyen fáziskülönbség beállítása esetén sem A gyártás szempontjából nem zavaró helyen előforduló amplitúdó hibák okozta különbségi jel detektálása kiküszöbölhető pl. úgy, hogy a detektálási síkba az áramkör tervezésével párhuzamosan megtervezhető, megfelelően nagyított maszkot helyezünk. Az 5. ábra olyan példakénti elrendezést mutat, mely lehetővé teszi egy hologramról több, egymástól független rekonstruált etalon sugár rekonstruálását, kihasználva a holografikus rögzítőanyagoknak azt a tulajdonságát, hogy ugyanarra a holografikus rögzítő anyagra több etalon fotomaszkról készíthetünk felvételt olyan módon, hogy minden egyes felvétel készítésekor a holografikus rögzítő anyagot más és más szögből érkező referencia sugárral világítjuk meg. A referencia sugár ágban a 36 első, a 39 második és 42 harmadik sugárosztókkal előállítunk pl. három 38 első, 41 második és 44 harmadik referencia sugarakat, amelyek más és más szögből világítják meg a 25 hologram síkban elhelyezett 26 holografikus rögzítő anyagot. A referencia sugár ágban elhelyezett 37 első, 40 második és 43 harmadik elektromechanikus fényzárral pedig biztosítani lehet, hogy az egyes felvételek készítésekor mindig csak egyetlen és éppen a megfelelő referencia sugár érkezzen a hologram síkba. Az első hologram felvétel készítésekor a tárgy síkban elhelyezzük a 15 első etalon fotomaszkot, és a 37 első elektromechanikus fényzár nyitásával és a másik kettő zárásával biztosítjuk, hogy csak a 38 első referencia sugár érkezzen a 25 hologram síkba. A 8,17 gyengítők segítségével beállítjuk a felvétel készítéshez szükséges intenzitásértéket és a 3 elektromechanikus fényzár megfelelő ideig tartó kinyitásával az első etalon maszkról holografikus felvételt készítünk. Ezután a 14 tárgysíkban elhelyezzük a második etalon fotomaszkot és az előbbiekhez hasonlóan járunk el azzal a különbséggel, hogy most csak a 40 második elektromechanikus fényzár van 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 4
