172499. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés fotomaszkok ellenőrzésére kivonásos eljárással
MAGYAR SZABADALMI 172499 NÉPKÖZTÁRSASÁG LEÍRÁS SZOLGÁLATI TALÁLMÁNY Nemzetközi osztályozás: w Bejelentés napja: 1976. V. 31. (MA-2783) Közzététel napja: 1978. III. 28. G 03 F 1/00, G 03 H 1/04 ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL Megjelent: 1979. I. 31. Feltalálók: Tulajdonos: Bencze György fizikus, Hámori András fizikus, MTA Központi Fizikai Kutató Intézete, Budapest Egyesült Izzólámpa és Villamossági Rt., Eljárás és berendezés fotomaszkok ellenőrzésére kivonásos eljárással 1 A találmány tárgya eljárás és berendezés fotomaszkok-előnyösen az integrált áramkörök gyártásánál alkalmazott fotomaszkok-ellenőrzésére kivonásos eljárással. Mint ismeretes az integrált áramkörök készítésé- 5 nél a félvezető anyagot fotoreziszttel vonják be, majd egy speciális fotografikus lemezen, az iparban használatos nevén fotomaszkon keresztül megvilágítják. A megvilágított fotorezisztet előhívják, például a megvilágítatlan részt eltávolítják, majd az 10 eltávolított részeken a félvezető anyagot megmunkálják, például maratják. A fotomaszk vonalak és más geometriai ábrák sokaságát tartalmazza. Általában a fotomaszkon több azonos ábra, az iparban használatos nevén maszkelem van, amelyek mind- 15 egyike egy külön áramkörhöz tartozik. A maszkelemek általában fotografikus úton, többszörös kicsinyítéssel, a több maszkelemet tartalmazó fotomaszkok pedig precíziós léptető szerkezet segítségével készülnek. A fotomaszkok előállítása tehát 20 költséges és időigényes, így célszerű egy fotomaszkot minél jobban kihasználni. Ugyanakkor a sérült fotomaszkokat a gyártásból ki kell vonni, használatuk ugyanis hibás integrált áramkörök gyártásához vezet. Mivel a modern integrált áramkörök- 25 ben igen nagyok a felbontási követelmények az ipari gyakorlatban a fotomaszkokat kontaktmásolással sokszorosítják, illetve kontaktmásolással viszik át a fotorezisztre. A fotomaszkok a kontaktmásolás közben érintkeznek egymással, illetve a foto- 30 2 reziszttel bevont félvezető anyaggal, így a fotomaszk a használat közben gyakran megsérül, ezenkívül szennyeződik is. Már a fotomaszkok gyártásakor is keletkezhetnek sérülések pl. karcok, buborékok, mikroszkopikus lyukak. A fentiekből következik, hogy igen nagy szükség van fotomaszkok hibáinak ellenőrzésére annak eldöntése érdekében, használható-e fotomaszk vagy sem. Az integrált áramkörök gyártásához szükséges fotomaszkok ellenőrzésére a hagyományos mikroszkópos eljáráson kívül különböző koherens optikai eljárások ismeretesek. Ezek egyik része az intenzitás térszűrést alkalmazza. Ilyen eljárást ismertet például a 3 743 423 sz. USA szabadalmi leírás, melynél a fotomaszkot térben koherens fénnyel világítják meg, mely a fotomaszkon való áthaladáskor diffraktálódik. A diffraktált fényt egy lencse segítségével síkbeli optikai térszűrőre fókuszálják, amelyen átlátszó alapon egymástól elhatárolt átlátszatlan területek helyezkednek el. Az átlátszatlan területek távolsága fordítottan arányos a fotomaszkon levő elemek távolságával. A szűrő térben modulálja a ráeső diffrakciós képet, és elnyomja a benne található periodikus információt. Az ilyenformán térben modulált fényt visszaképezik, melyből az összes periodikus információ hiányzik, így a kép intenzitáseloszlása a fotomaszkon található véletlenszerű hibáknak felel meg. 172499
