172498. lajstromszámú szabadalom • Eljárás vezető alakzatnak félvezető vagy szigetelő hordozóra történő felvitelére
3 172498 4 Előnyösen alkalmazható a találmány szerinti eljárás olyan esetekben, amikor egyéb technológiai szempontok, pl. a hordozó porózus, durva felülete vastagabb fotorezisztlakk réteg alkalmazását teszik szükségessé,Ha ilyen esetben higanygőz lámpa szó- 5 kásos teljes spektrumával végezzük a megvilágítást, a kapott fotorezisztlakk struktúra szélei nem lesznek eléggé élesek, és ez egyrészt a fotorezisztlakk széleinél a védőréteg kisebb vastagsága miatt alámarást eredményez, másrészt kisméretű alakzatok- 10 nál megnehezíti a méretellenőrzést. Úgy véljük, hogy a nagyobb hullámhosszúságú monokromatikus fénnyel történő megvilágítás kedvező hatása annak tulajdonítható, hogy a fotorezisztlakk réteg transzmissziója nagyobb hullámhosszokon nagyobb. 15 A találmány szerint 2—3 fim csíkszélességü alakzatok különleges maszk alkalmazása nélkül is jól előállíthatok, és a kapott alakzat méretei a megvilágítási időtől (integrált intenzitás) kevésbé függe- 20 nek, pl. az optimális megvilágítási idő két-háromszorosa nem okoz mérettorzulást, míg 1 fim vastagságú fotorezisztlakk réteg alkalmazása esetén így már nem kapunk használható képet. 25 A találmányt a továbbiakban példák alapján ismertetjük. 1. példa 30 Felületi akusztikus szűrőstruktúra készítése „lift off” módszerrel PZT kerámián. Cseppentő segítségével adott mennyiségű Shipley gyártmányú 1350 H fotorezisztlakkot viszünk a 35 kerámia felületére, majd vízszintes helyzetben néhány percig szobahőmérsékleten szárítjuk. A lakk mennyiségét úgy választjuk meg, hogy vastagsága a kerámián 6-7 fim legyen. Beszárítást 80 C°-on szárítószekrényben végezzük. Ezután az elrendezést 40 435,8nm-es interferencia szűrőn át HBO 200 higanygőz lámpával megvilágítjuk. Az Elektromatt (NDK) gyártmányú pozicionálón a megvilágítási idő 25-40 sec. Előhívás és 80 C°-on 5 percig történő szárítás után a felületre Cr—A1 vezető réteget pá- 4i rologtatunk, majd a mintát forró acetonban főzzük. A kioldódó lakkréteg a felesleges fémet eltávolítja, a visszamaradó vezető alakzat kontúrjai élesek, jól definiáltak. A készített struktrúra csíkszélessége 10 ± 0,2 fim volt. 50 2. példa Szilícium alapú CCD struktúrák készítése Shipley gyártmányú AZ 1350 H fotorezisztlakkal. A lakkozás centrifugával 2000 ford/percen történik 2-3/ma vastagságban. A megvilágítás Elektromatt (NDK) gyártmányú pozicionálón HBO 200 higanygőz lámpával 435,8 nm-es interferencia szűrőn át, 10 sec-ig a CCD maszksorozat fémezőmaszkjával történik. Résméret 2 fim. Előhívás után a maszk pontosan (lúba ± 0,1 Mm) leképzett képét kaptuk. A 140 C%m történő beégetés után marást végzünk H3P04-ben 70C°-on. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás vezető alakzatnak félvezető vagy szigetelő hordozóra történő felvitelére, amelynek során a hordozóra fotorezisztlakk réteget viszünk fel, a felvitt réteget a kívánt alakzatnak megfelelően megvilágítjuk, majd a fotorezisztlakk réteg megvilágított részeit eltávolítjuk, ezután az elrendezésre vezető réteget viszünk fel és a vezető rétegnek a fotorezisztlakk rétegen levő részeit a fotorezisztlakk leoldásával eltávolítjuk, azzal jellemezve, hogy legalább 2 Mm vastagságú fotorezisztlakk réteget viszünk fel és a fotorezisztlakk réteget 400-500 nm hullámhosszúságú monokromatikus fénnyel világítjuk meg. 2. Eljárás vezető alakzatnak félvezető vagy szigetelő hordozóra történő felvitelére, amelynek során a hordozóra vezető réteget majd fotorezisztlakk-réteget viszünk fel, a fotorezisztlakk réteget a kívánt alakzatnak megfelelően megvilágítjuk és a megvilágított részeit eltávolítjuk, ezután a vezető rétegnek a maradék fotorezisztlakk által nem fedett részeit marással vagy ion bombázással eltávolítjuk, azzal jellemezve hogy legalább 2 Mm vastagságú fotorezisztlakk réteget viszünk fel és a fotorezisztlakk réteget 400—500 nm hullámhosszúságú monokromatikus fénnyel világítjuk meg. 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítást módja, azzal jellemezve, hogy a fotorezisztlakkot 2—7 pm vastagságban visszük fel. 4. Az előző igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a megvilágítást higanygőz lámpa interferencia szűrővel kiszűrt 435,8 nm hullámhosszúságú fényével végezzük. A kiadásért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 784686 - Zrínyi Nyomda 2
