172284. lajstromszámú szabadalom • Eljárás vékony hengeres rétegek mágneses paramétereinek formálására
3 172284 4 nek legalább egyik komponensét az elektrokémiai eljárással történő rétegfelvitel folyamán az elektrolitikus közegben mágneses tér hatásának és hőkezelésnek vet* jük alá. A találmány szerint a formálandó többrétegű struktúrát a mágneses tér hatásának és a hőkezelésnek az egymás után elhelyezett elektrolitikus cellákban egymás után kialakított komponens-rétegek leválasztásai közötti időszakaszokban vetjük alá. A találmány szerinti eljárás megvalósítható oly módon is, hogy az elektrolitikus cellákban, amelyekben az egyes rétegeket a mágneses tér befolyására és hőkezelés hatása alatt választjuk le, folyamatosan alkalmazzuk a mágneses teret és a hőkezelést, minek következtében a mágneses és hőhatásnak kitett munkadarabon az elektrolitikus közegben mágnesesen még nem formált mágneses réteg jön létre. Ugyancsak a találmány szerinti eljárás egy másik foganatositási módja abban áll, hogy a kialakítandó többrétegű mágneses struktúra egyik komponensének kialakításakor — ahol is a többrétegű struktúrát több elektrolitikus cellában végezzük — az elektromágneses teret és a hőkezelést az egymás után felvitt komponensek leválasztásai közötti időszakaszokban alkalmazzuk. A mágneses hatásnak és a hőkezelésnek kitett munkadarab pl. az elektrolitikus cellán kívüli védő atmoszférában helyezhető el, miáltal formálatlan mágneses struktúra alakítható ki. A találmány szerinti eljárás előnye az, hogy a mágneses paraméterek formálása a mágneses réteg felviteli eljárása folyamán, vagy pedig a mágneses rétegnek a támhuzalra való felvitele folyamán valósítható meg. A találmány szerinti eljárás foganatositási módjait az alábbi példák alapján ismertetjük részletesebben. 1. példa 0,1 mm átmérőjű berilliumbronz-huzalt vezetünk öt egymás mellett elrendezett elektrolitikus cellán át, amelyek közül három cellában vas-nikkel-réteget, közöttük pedig két nikkel-kobalt-réteget választunk le az alaphuzalra. A vas-nikkel-réteg valamint a nikkel-kobalt-réteg felvitelei közötti időszakaszokban 320 °C-ra melegítjük fel a huzalt ellenállás-kemencében. Ebbe a kemencébe nitrogén-hidrogén-keveréket áramoltatunk. A kemencében a huzalt a melegítéssel egyidejűleg egy 2000 A/m térerősségű, konstans kerületi irányú és 200 A/m térerősségű, konstans tengelyirányú mágneses tér hatásának tesszük ki. Az eredő mágneses térerő és a 320 °C hőmérséklet 40 sec ideig hat. Az eljárás eredményeként az anizotrop tengely irányváltozása 2,5°. 2. példa Az I. példa szerinti rétegekkel ellátandó berilliumbronz-huzal kezelése során, a nikkel-kobalt-réteg és a vas-nikkel-rétegek felvitele közötti időszakaszokban 100 °C hőmérsékletű hőkezelést alkalmazunk 1,3 A egyenárammal, amelyet a huzalon folyatunk át, miközben tengelyirányban szinuszos alakban változó, 50 Hz frekvenciájú és 4500 A/m amplitúdójú mágneses tér hatásának tesszük ki. A mágneses tér és a hőmérséklet a berilliumbronz-huzalra 20 sec ideig hat. 3. példa 0,1 mm átmérőjű ezüstbronz-huzalt két nikkel-vas-kobalt-réteggel vonunk be elektrolitikus cellákban, és 5 eközben a huzal kerülete mentén szinuszos alakban változó 1, 8 A amplitúdójú és 5 kHz frekvenciájú váltakozó mágneses tér hatásának tesszük ki a huzalt 45 sec ideig. A kezelés eredményeképpen a Hk érték 80 A/m értékkel, míg a Hc paraméter 45 A/m értékkel nőtt a ki[10 indulási értékhez képest. 4. példa Berilliumbronz-huzalt kezelünk vas-nikkel-kobalt-rétegek felvitele folyamán, amelyet öt elektrolitikus cel- 15 Iában végzünk, és eközben a huzal kerülete mentén ható 1500 A/m amplitúdójú állandó mágneses tér hatásának, valamint tengelyirányban ható, • szinuszosan változó 4000 A/m amplitúdójú váltakozó mágneses tér hatásának tesszük ki. A kezelés eredményeként a Hk para[20 méter 100 A/m, míg a Hc paraméter 60 A/m értékkel csökken. Szabadalmi igénypontok [25 1. Eljárás vékony hengeres rétegek mágneses paramétereinek formálására, amelynek során mágneses hőkezelést hajtunk végre, azzal jellemezve, hogy a koercitív erőtér intenzitásának, az anizotrop tér intenzitásának, valamint az anizotrop tengely irányának széles hatá- 30 rok közötti változtatására a többrétegű struktúrának megmunkálási soron való elektrokémiai leválasztásakor a kialakítandó többrétegű mágneses struktúra legalább egyik komponensét 30—400 °C hőmérsékletű hőkezelésnek, és egyidejűleg mágneses tér hatásának tesszük 35 ki; és hogy legalább az egyik komponenst a koercitív térerő és az anizotrop tér intenzitásának növelésére a huzal kerülete mentén ható, legalább 2500 A/m amplitúdójú mágneses tér hatásának és egy legalább 2500 A/m effektiv értékű amplitúdónak megfelelő váltakozó 40 mágneses tér hatásának tesszük ki; továbbá, hogy a koercitív erőtér intenzitásának és az anizotrop tér intenzitásának csökkentését úgy végezzük, hogy a tengelyirányú és a huzal kerülete mentén ható mágneses terek eredőjeként adódó mágneses téren vezetjük át a 45 huzalt oly módon, hogy közben a mágneses tér egyik komponensének amplitúdóját változtatjuk; és hogy az anizotrop tengely irányát a hordozóhuzal tengelyirányához képest konstans szögben alkalmazott mágneses tér hatása alatt állítjuk be. 50 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosításának módja azzal jellemezve, hogy a formálandó többrétegű struktúrát alkotó réteg legalább egyik komponensét az elektrokémiai leválasztás során az elektrolitikus közegben egyidejűleg tesszük ki a mágneses tér hatásának és 55 a hőkezelésnek. 3. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosításának módja azzal jellemezve, hogy a formálandó többrétegű struktúra legalább egyik komponensét az egyes komponenseknek elektrolitikus cellákban egymást követő 60 leválasztása közötti időszakaszokban alkalmazott mágneses tér és hőkezdés hatásának tesszük ki. A kiadásért {del: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 79.6718.66-42 Alföldi Nyomda, Debrecen — Felelős vezető: Bankó István igazgató 2
