165718. lajstromszámú szabadalom • Maratószer aluminiumrétegek felületi mintázatának kialakítására
MAGTAR NÉPKÖZTÁRSASÁG ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADALMI LEÍRÁS Bejelentés napja: 1972. VII. 21. (MO-840) Német Demokratikus Köztársaság-beli elsőbbsége: 1971. VII. 23. (WPC 23 f 156 676) Közzététel napja: 1974. V. 28. Megjelent: 1976. VII. 30. 165718 Nemzetközi osztályozás: C 23 f 1/02 Feltalálók: ULLMANN Peter vegyészmérnök, CLAXJSNITZER Peter vegyészmérnök, Drezda, Német Demokratikus Köztársaság Tulajdonos: Arbeitsstelle für Molekularelektronik Drezda, Német Demokratikus Köztársaság Maratószer alumínium rétegek felületi mintázatának kialakítására A találmány alumíniumrétegek felületi szerkezetének a kialakítására alkalmas, főleg a félvezetőtechnikában alkalmazható maratószerre vonatkozik, amellyel a fotolitográfiai eljárás során a vékony alumíniumrétegre felvitt maratómaszknak megfelelően a fémrétegnek a maszk által nem fedett részeit le lehet maratni. Félvezető rendszerek, főleg integrált áramkörök előállításakor szilíciumlapokat különböző eljárásoknak vetnek alá. Miután a szilíciumlapon az áramkört elemeket diffúzió útján előállították, az elemek kapcsolási rajz szerinti összekötéséről kell gondoskodni. E célból először lapot teljes egészében alumíniumréteggel vonják be, utána az alumíniumrétegből annyit maratnak ki, hogy az alumínium csak ott marad meg, ahol az elemek között vezető kapcsolat kell legyen. A többi felületrészről az alumíniumot le kell maratni. A szükséges alumínium mintázatnak megfelelő maratómaszkot viszik fel a felületre, mégpedig oly módon, hogy az alumíniumréteget fotolakk-réteggel látják el ezt a fotolakk-réteget sablonon át exponálják, majd előhívják. Az előhívás után már csupán azokon a helyeken maradt meg a lakk, ahol vezető alumíniumrétegre van szükség. A marató folyamat során a lakk-réteggel nem rendelkező területrészekről oldódik az alumínium, a lakkal fedett területeken megmarad. A lakkmaszk előállítására két eljárás ismert. A félvezető áramköri elem elkészítéséig a technológiától függően néha egymás után mindkét eljárást is alkalmazzák. Negatív-fotolakk alkalmazása esetén exponáló sablonon keresztül a lakkot azokon a helyeken expo-5 nálják, ahol a marató folyamat során az alumíniumnak nem szabad oldódnia. Exponáláskor a fotolakk polimerizálódik, és az ezt követő előhívási eljárás alatt nem oldódik ki, a nem exponált területekkel ellentétben. 10 Ezzel szemben a pozitív-fotolakkot azokon a helyeken exponálják, amelyekről az alumíniumréteget a felületkezelési folyamat során eltávolítani kívánják. Előhívás után a lakk csak a nem exponált területeken maradt meg. 15 Alumíniumrétegek felületi maratására elvileg mind savak mind lúgok alkalmazhatók. A negatív-fotolakkból készült maszkok savas maratószerrel szemben mutatott ellenállóképessége 20 lényegesen jobb, mint a lúgos maratószerekkel szembeni. Pozitív-fotolakkból készült maszkok lúgos közegekben teljesen feloldódnak. Tudnivaló, hogy nagyon kis méretű alumínium-mintázat előállításakor a hidrogénfejlődést messzemenően vissza 25 kell szorítani, mert a felületeken tapadó gázbuborékok helyén a marás folyamata nagy késedelemmel indul meg. Ismert olyan marató eljárás, amely során káliumhidroxid-oldatot és peroxoszulfátot alkalmaznak. 30 Ez a szer ugyan minden gázfejlődés nélkül mar, de 165718 1
