165401. lajstromszámú szabadalom • Berendezés aluminium felületen kis oxidhidrát tartalmú aluminiumoxid előállítására - különösen alacsony húzószilárdságú aluminiumfólia folyamatos oxidálására

MAGYAR N É2PÍCÖZT ARS AS AG OBSZÄGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADALMI LEÍRÁS SZOLGÁLATI TALÁLMÁNY 165401 A bejelentés napja: 1971. XI. 2. A közzététel napja: 1974. III. 28. (ME—1433) Megjelent: Nemzetközi osztályozás C 23 b 9/02 Feltalálók: Drexler Tibor vegyésztechnikus. 20% Füzes Attila elektrotechnikus, 20% Holier Ottó oki. gépészmérnök, 20% Lőrincz László oki. vili. mérnök, 20% Simon József oki. vegyész, 10% Szekrényes József elektrotechn. 10% Budapest. Tulajdonos: Mechanikai Művek, Budapest Berendezés alumínium felületen kis oxidhidrát-tartalmú alumíniumoxid előállítására — különösen alacsony húzószilárdságú alumínium fólia folyamatos oxidálására A találmány szerinti berendezés alumínium, különösen egész keresztmetszetében szivacsos szerkezetű és emiatt alacsony húzószilárdságú alumínium fólia folyamatos oxidálására vonatkozik, az oxidréteg tulajdonságát tekintve kis oxidhidrát-tartalmú, megfelelő közegben egy irányban elektrolitikusan záró tulajdonságú, gyakorlatilag hibamentes és a felület minden pontján azonos vastagságú alumíniumoxid kialakítását célozza a hasonló feladatot teljesítő ismert berendezések energiaszükségletéhez képest jelentősen csökkentett energiafelhasználással. Szivacsos szerkezetű fólia alatt a teljes keresztmetszetében statisztikus irányítottsága kapilláris járatokkal rendelkező 250 jW-nál nem vastagabb és rendszerint nagy tisztaságú alumínium fóliát értünk. Az alacsony húzószilárdság a csökkent keresztmetszet eredményeként áll elő és feldolgozási nehézséget jelent; az ismertetésre kerülő eljárásnál 0,i8 kg/10 mm szélesség a húzószilárdság legalacsonyabb értéke. A kis oxidhidratftartalcmu, egy irányban elektrolitikusan záró tulajdonságú alumíniumoxid réteg alatt olyan kristályos és amorf módosulatokat tartalmazó alumíniumoxid réteget értünk, mely kis mennyiségű kristályrácsba épült vizet és amorf oxidhidrátot tartalmaz. A rétegbe beépült víz a hidróniumionok vezetését teszi lehetővé, és ezért az oxidréteg hidrónium-165401 10 15 20 25 30 ionokat tartalmazó speciális elektrolitokban egy irányban vezető tulajdonságot mutat. Az oxidhidrát k4

s mennyisége a réteg stabilitását ered^ ményezi szerkezeti vizet tartalmazó elektrolitok hidratáló hatásával szemben. A teljes felületen egyenletes vastagságú és egy irányban elektrolitikus vezetéssel szemben szigetelő tulajdonságú oxidréteg kialakítására ismertek eljárások és berendezések. Ezek az oxidáló közeg (elektrolit) kémiai és fizikai paramétereit határozzák meg, a berendezések felépítésének az oxidációs lépcsők (kádak száma, feszültségelosztás) megadásán kívül nem tulajdonítanak fontos szerepet. A találmány azon a felismerésen alapul, hogy a szivacsos szerkezetű és alacsony húzószilárdságú alumínium fóliákon hibáhelymentes, alacsony oxidhidráV-tartalmú és alkalmas elektrolitban egy irányban elektrolitikusan záró tulajdonságú oxidréteg előállítása, csak olyan összetett eljárást megvalósító berendezéssel oldható meg jó minőségű végterméket biztosító módon, mely szerint az ismert és általánosan alkalmazott oxidálást célszerűen legfeljebb kétlépcsős, majd ezt térben és időben elválasztva, de célszerűen azonos berendezésen az oxidréteg lehetséges hibahelyeinek kijavítása és azoxidhidráttartalom csökkentése kémiai és>flzíkai behatások kombinációjával követi. Az összetett eljárás