163585. lajstromszámú szabadalom • Eljárás (CISZ-1,2-epoxipropil)-foszfonsav alkáliföldfém és benzilaminsójának előállítására
163585 7 8 vagy szétválaszthatok diasztereomer só képzés útján egy optikailag aktív sót képezve egy vegyület, pl. egy bázis segítségével. Például, ha a foszfonsav optikailag aktív formáinak keverékét összehozzuk egy bázissal, amely optikailag aktív centrummal rendelkezik, két diasztereomer képződik, amelyeknek különböző tulajdonságai vannak és így egyébként ismert módszerekkel, pl. frakcionált kristályosítással szétválaszthatok. Megfelelő, optikailag aktív bázisként említendő példák: kinin, brucin, (±)-a-fenetilamin, (—)-<x-fenetilamin, (H-)-amfetamin és más ismert bázisok. Ezenkívül az enantiomer keverékek szétválaszthatok egyéb ismert módszerekkel is, mint pl. a sztereoizomer észterek, amidok stb. elkülönítése útján, vagy biológiai eljárásokkal, amelyek vagy az észterek, amidok szelektív lehasítását, vagy az egyik enantiomer izomer elbontását eredményezik. A (cisz-l,2-epoxipropil)-foszfonsav észter- és amidszármazékok, amelyeket a találmány szerinti eljárással (cisz-l,2-epoxipropil)-foszfonsav sóivá alakítunk, előállíthatók a megfelelő cisz-propenil-foszfonsav vegyületből epoxidálás segítségével vagy olyan 1,2-diszubsztituált etilfoszfonsav kezelésével, amelyben a szubsztituensek egyike hidroxilgyök vagy egy más, de funkcióját tekintve az oxiszubsztituenssel egyenértékű gyök, a másik szubsztituens pedig egy lehasadó csoport, amely megfelelő körülmények között alkalmas az epoxid gyűrű zárásának létrehozására. A cisz-propenilfoszfonsav vegyületek előállíthatók a megfelelő 1-propinilfoszfonsav vegyületek szelektív redukciójával, például nemesfém vagy Raney nikkel jelenlétében végzett hidrogénezéssel egyébként ismert eljárás szerint. A cisz-propenilfoszfonsav vegyületek ugyancsak ismert eljárással a szabad savból is előállíthatók; cisz-propenilfoszfonsav kapható propinilfoszfonsav szelektív redukciója segítségével. A cisz-1-propenilfoszfonsav megfelelő vegyülettel történő reakcióban bázis jelenlétében dihalogeniddé alakítható, például tionilhalogenid reakciójával piridin jelenlétében. Megfelelő szerekként említhetők a savhalogenidek, például a tionilklorid, foszforpentaklorid, foszforil-klórbromid és hasonlók. A reakciót előnyösen, bár nem feltétlenül, közömbös, szerves oldószerek jelenlétében valósítjuk meg, így szénhidrogének, például benzol, toluol, xilol, pentán, hexán, vagy éterek, például dietiléter, vagy halogénezett szénhidrogének, például kloroform, metilénklorid és hasonlók jelenlétében. A halogénezés hőmérséklete —10 C° hőmérséklettől az elegy forráshőmérsékletéig változhat. A kívánt cisz-1-propenilfoszfonsav származékok előállítása céljából a cisz-1-propenilfoszfonsav dihalogenidet megfelelő reagensekkel hozzuk reakcióba. Ennek megfelelően a diészterek előállítása céljából a dihalogenidet a megfelelő alkohollal reagáltatjuk, például alkil-alkoholokkal, aril-alkoholokkal, aralkil-alkoholokkal, alkaril-alkoholokkal stb., tercier bázis jelenlétében. A tercier bázisok alkalmazása lehetővé teszi, hogy az észterezési reakciót enyhe körülmények között hajtsuk végre. Megfelelő tercier bázisok közé tartoznak a tercier aminők, így a trialkilaminok, például trietilamin, piridin, kollidin vagy a dialkilanilinek, például dimetilanilin stb. Ha tercier bázist használunk, a reakciót általában atmoszféra nyomáson hajtjuk végre úgy, hogy a reakció hőmérséklete —10 C° 5 és a reakcióelegy forráshőmérséklete között van. A savamidok előállítására a dihalogenidet primer vagy szekunder aminnal, például ammóniával, metilaminnal, dimetilaminnal, metoxiaminnal, morfolinnal stb. reagáltatjuk tercier bázis jelenlétében, 10 amely a hidrogénhalogenid megkötésére szolgál. Az észterhalogenidek vagy észteramidok előállítására a propenil-halogenidet egy mól alkohollal, ill. primer vagy szekunder aminnal reagáltatjuk tercier bázis jelenlétében. 15 Cisz-propenilfoszfonsav-diklorid előállítása 250 ml-es háromnyakú gömblombikba 6,1 g ciszpropenilfoszfonsavat, 60 ml vízmentes benzolt és 9,0 ml piridint adunk. Az elegyet 50 C° hőmérsékletre melegítjük, a melegítést megszüntetjük, majd 20 13,2 g tionilkloridot adunk az elegyhez cseppenként olyan ütemben, hogy azzal a reakcióelegy hőmérsékletét 50 C°-on tartsuk. Az elegyet szobahőmérsékletűre hűtjük és 2 órán át keverjük, majd leszűrjük. A szűrletet vákuumban 35 C° hőmérsékleten 25 bepárolva 4,5 g zavaros olajszerű anyagot kapunk. Desztilláció után nyerjük a tiszta cisz-propenilfoszfonsav-dikloridot, forráspont 67 C° (9—10 Hgmm nyomáson); nj,0 : 1,4885. A cisz-propenilfoszfonsavdiklorid, amelyet a fenti 30 módon állítunk elő, fontos közbenső termék a találmány szerinti eljárással átalakításra kerülő foszfonátok előállításában. így, a cisz-1-propenil-foszfonsavdikloridnak ekvivalens ammóniával lezajló reakciója cisz-1-propenilfoszfonkloridamidot ad, 35 ezt epoxidálva (cisz-l,2-epoxipropil)-foszfonkloridamidhoz jutunk. Ha cisz-propenilfoszfon-dikloridot ekvivalens izopropil-alkohollal reagáltatunk, 0-izopropil-cisz-1-propenilfoszfonklorid keletkezik, amelyet epoxi-40 dálva 0-izopropil-(cisz-l,2-epoxipropil)-foszfonkloridot kapunk. Dimetil-cisz-propenilfoszfonát előállítása 0,1 mól cisz-1-propenilfoszfonsavdikloridot és 0,2 mól trietilamint 100 ml benzolban állandóan 45 keverve 5 C° hőmérsékletre hűtünk. Az elegyhez ezután 0,2 mól metilalkoholt adagolunk olyan ütemben, hogy a hőmérséklet 5 C° és 10 C° között maradjon. Az adagolás befejezése után az elegyet szobahőmérsékleten 1 órán át keverjük. A kivált 50 trietilamin hidroklorid sót leszűrjük, az oldószert desztilláljuk; dimetil-cisz-propenilfoszfonát marad vissza. Dimetil-(cisz-1,2-epoxipropil)-foszfonát készítése Kloroformos peroxitrifluorecetsavat készítünk 55 Emmons [J. Am. Chem. Soc. 75, 4623 (1953)] módszere szerint. 0,044 mól peroxitrifluorecetsav 20 ml kloroformban készült oldatát hozzáadjuk 0,022 mól dimetil-cisz-1-propenilfoszfonát és 7 g szilárd dinátriumhidrogénfoszfát 30 ml kloroformban ké-60 szült oldatához. Az elegyet 16 órán keresztül 0 C° hőmérsékleten állni hagyjuk. A termék, a dimetil-(cisz-l,2-epoxipropil)-foszfonát desztillációval tisztítható. Forráspont: 70—72 C°/0,5 Hgmm. (cisz-1,2-Epoxipropil)-foszfondiamid előállítása 65 0,1 mól cisz-propenil-foszfonsav diklorid és 4
