159759. lajstromszámú szabadalom • Síknyomólemez készítésére alkalmas, fényérzékeny anyaggal bevonható réteghordozó
159753 5 6 diani, hogy a polívinilfoszfonsavnák az alumíniumfelületen való ismert .alkalmazása során a polivinilfoszfonsav az alumínium felületén az alumíniumoxidréteggel kémiailag reagálva megkötődik, hiszen« ilyen oxidréteg minden, a légkörrel érintkezésibe kerülő alumínium felületén' megtalálható. A várható az lett volna, hogy ha egy viszonylag vastag, anódosan készült alumíniumoxidréteget kémiai szerkezetét tekintve vinilgyantához hasonló polivinilfoszfonsavval kezelünk, az az alumíniumoxidréteg porózus felületét teljesen kitölti és így azok az értékes tulajdonságok, amelyekkel a viszonylag vastag alumíniumöxidréteg poirozitása következtében a fényérzékeny anyaggal való érzékenyítés során rendelkezik, elvesznek. Meglepő módon azt találtuk azonban, hogy a találmány szerinti réteghordozó előállításánál nem ez történik, hanem a viszonylag vastag (több mint 20-szor vastagabb, mint a levegőn képződő) porózus alumíniumoxidréteg értékes tulajdonságai megmaradnak, míg hátrányos tulajdonságai csaknem teljesen kiküszöbölődnek. A polivinilfoszfonsavas kezelés az alumíniumoxidfelület hidrafilitását oly mértékben javítja, hogy a találmány szerinti réteghordozóval előállított nyomólemezeik árnyalati eltéréseket nem mutatnak. Nagyfokú hidrofilitásuk miatt a nyomólemezek például olyan próbanyomósajitóban, ahol a nyomtatásnál a lemezek automatikus nedvesítése nem jön számításba, igen jól használhatók. A találmány szerinti réteghordozó további előnye, hogy az alumíniumoxidfeiület kémiai szempontból amfotér jellem gét a polivinilfoszfonsavas kezelés gyengén savas jellegűre változtatja, ami a másolóréteg meg nem világított helyeinek az eltávolítását számos esetben megkönnyíti, például akkor ha a másolóréteg savas alkatrészeket pl. fenolgyantákat vagy előnyösen savas kémhatású diazovegyületeket tartalmaz. A találmány szerinti réteghordozó előállítását közelebbről az alábbi példák szemléltetik. A példákban megadott %-értékek súly%,-ot jelentenek. 1. példa: Elektrolitikus úton érdessé tett, 0,008 mm Vastag oxidréteggel rendelkező alumíniumlemezt 4 percre 60 C°-os, tiszta vízben 0,1% polivinilfoszfonsavat tartalmazó oldalba merítünk. A polivinilfoszfonsav molekulasúlya 100 000 nagyságrendű. Ezután a, lemezt desztillált vízzel leöblítjük és 100 C°-on szárítjuk, majd 2% 2,3,4-trihidroxi-benzofenonnaftokinon-H(1.2)-diazid-(2)-5-szulfonsavésztert, 5%, novolakgyantát és 0,1% polivinilacetátgyantát tartalmazó etilénglikolmonometiléter-oldiattal bevonjuk. A használt novolakgyanta semleges, novolaktípusú fenolgyanta, mely kb. 108—118 C°-on olvad, a polivinilacetátgyanta 140—160 C° között lágyul és 20%-os etilacetátos oldatának viszkozitása 20 C°-on 110—150 cP. A felhordott réteget forró levegővel szárítjuk. Az így kapott anyag felhasználás előtt sötétben több hónapig minden károsodás nélkül tárolható. Felhasználáskor a fényérzékeny réteget diapozitív alatt megvilágítjuk és 3%-os trinátriumfoszíátoldattal áttöröljük, s ezzel a réteg megvilágított részeit maradék nélkül leoldjuk. Ezt követően a lemezt vízzel leöblítjük, 1%-os vizes foszforsavoldattal áttöröljük és zsíros festékkel megfestjük. Adott esetben a kép nem kívánt részeit a szokásos korrektúraszerekkel kezelve maradék nélkül eltávolítjuk. Ily módon ofíszetnyomáformát kapunk, amellyel nagy nyomdai példányszám állítható elő anélkül, hogy a nyomóforma képe gyengülne vagy a képalapot a festék színezné. 2. példa: Elektrolitikus úton érdessé tett, 0,0002 mm vastag oxidrétegű alumíniumszalagot 1,5% polivinilfoszfonsavat és 0,2% vinilfoszfonsavat tartalmazó 80 C°-os vizes oldaton 30 mp alatt áthúzunk. Az alumíniumszalagot vízzel leöblítjük, megszárítjuk és hengeres felhordással 0,8 súlyrész paraiformaldehid és difenilamin-4-d1 azóniurnklorid kondeiizátuimát és 0,5 súlyrész polivinilacetátot oldatban tartalmazó 100 súlyrész etiléngilikolmonometilétert rétegezünk rá. Az ily módon bevont szalagot forrón szárítjuk és nyomólemezekre vágjuk. Az így kapott nyomólemezanyag sötétben hosszú hónapokig tárolható anélkül, hogy felhasználhatósága észrevehetően romlana. Nyomóforma előállítása céljából a fényérzékeny nyomólemezt fényképészeti negatív alatt megvilágítjuk és 4% gumiarábikumot és 2i% magnéziumnitrátot tartalmazó vizes oldattal előhívjuk. Előhíváskor a réteg fény által nem ért részeit maradék nélkül eltávolítjuk, úgy, hogy a szabaddá tett alumíniumoxidfelület ezüstösen megjelenik. Ezt követően a fényben keményített képelemhelyeket az egész felület zsíros festékkel való áttörlésével megfestjük. Ily módon ofífszetnyomóformát kapunk, rnelylyel nagy példányszámú, kifogástalan minőségű lenyomat állítható elő. 3. példa: Az 1. példában leírt, elektrolitikus úton oxidréteggel ellátott és polivinilfoszfonsavval kezelt alumíniumlemezt fényérzékeny anyagként 2,6% l-^'-metilbenzol-l'-JSZulfonil-imino]-5g -2-(2"-etil^fenilaminoszulfonil)-benzoikinon-(l,4)-diazid-H(4)-ot és 0,6% 75—83 C° olvadáspontú, nem keményíthető semleges, novolaktípusú fenolgyantát tartalmazó etilénglikolmonometiléter-oldattal bevonunk és a felhordott „_ réteget megszárítjuk. Használatkor az így kapott anyagot negatív alatt megvilágítjuk és 1,8:%, nátriummetaszilikátot és 0,5% trinátriumfoszfátot tartalmazó lúgos vizes oldattal áttöröljük, miáltal a réteg 65 meg nem világított részeit kioldjuk. A lemezt 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 3