157949. lajstromszámú szabadalom • Stabil vékonyréteg ellenállása

MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADALMI LEÍRÁS Bejelentés napja: 1969. V. 21. (WE—400) Amerikai Egyesült Államdk-beli elsőbbsége: 1968. V. 22. (731 183) Közzététel napja: 1970. IV. 08. Megjelent: 1971. IV. 01. 157949 Nemzetközi osztályozás: H 01 c 7/00 ' '• V Feltaláló: Steidel Charles Archibald mérnök, Allentown, Pennsylvania, Amerikai Egyesült Államok Tulajdonos: Western Electric Company, Incorporated, New York, N. Y, Amerikai Egyesült Allamok Stabil vékonyréteg ellenállás A találmány tárgya stabil vékonyréteg ellenállás alkatrészek gyártásának technikájára, valamint az ehhez szükséges (készülékre vonatkozik. Részleteiben, a találmány olyan vékony réteges alkatrészek gyártásának technikájára vonatkozik, amelyek tantál-alumínium ötvözetből álló lecsapatott réteget tartalmaznak; ezek az alkatrészek különösen érdekesek ellenállásokként való felhasználásnál. Az alkatrészek és áramkörök miniatürizálása, amely kapcsolódik a modern elektronikus rendszerek növekvő bonyolultságával, ez ideig soha nem követelt megbízhatóságot igényel a vékony réteges alkatrészektől. Továbbá, a különleges földi és bolygóközi környezetek, amelyeket az űrkorszak hozott létre, tovább növelték az alkatrészek megbízhatóságával kapcsolatos problémák súlyát. Korábban a stabilitás, pontosság és miniatürizálás követelményeinek nagyobb részét egyidejűleg kielégítették azáltal, hogy tantál alkatrészeket használtak, amelyeknél elemi tantált, vagy annak vegyületét használták vékony réteg alakjában. A folyamatos kutatások ellenére a szakembereknek nem sikerült olyan anyag kifejlesztése, amely minőség szempontjából képes lenne versenyezni a tantállal vagy annak vegyületeivel. A találmány szerint ezt a célt érjük el azáltal, hogy tantál-alumínium ötvözeteket használunk lecsapatott alakban vékony réteg anyagként az említett alkatrészek számára. Ellenállásoknál, 5 amelyeket az ismertetett technikával gyártottunk, azt találtuk, hogy szokatlanul nagyfokú stabilitást mutattak és a tantál-nitrid struktúráknál jobbaknak bizonyultak. 10 Röviden összefoglalva, a találmány szerinti technika abból áll, hogy vékony rétegekben tantál-alumínium ötvözetet rakunk le alkalmas szubsztrátumra; az említett ötvözet 20—60 atom°/o alumíniumot tartalmaz és a lerakást rá-15 csapatási technikával végezzük, míg ezt követően a kívánt ellenállást hagyományos eljárással állítjuk elő. A találmány tárgyát képező megoldást az aláb-20 biakban példákénti kiviteli alak kapcsán, rajz alapján ismertetjük részletesebben. Az 1. ábra egy berendezés vázlatos elölnézete, amely alkalmas tantál-alumínium ötvözet réteg 25 előállítására a találmány szerint katódporlasztás útján. A 2A ... 2E. ábrák egy ellenállás találmány szerinti előállításának lépéseit mutatja nézeté-30 ben. 157949