154154. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és összetett anyag átlátszó rendszeresen áthaladó energiamennyiség állandósítására a rendszer áteresztőképességének változóvá tételével
154154 11 12 get- vittünk fel ismert eljárással, melynél ezüstamimónium komplex vegyületét aldehid dal redukáltuk, még pedig a komplex vegyület oldalának és a redúkálószer oldatának egyidejű raporlasztásiával. A (felvitt réteg vastagságát a felvitel köziben optikai átvilágítással ellenőriztük. ,. Az ezüstözött lapot sötét kamráiba helyeztük, melyben klórgáz és nyomokban (kb. egy ezredrész) vízgőz cirkulált. A művelet 35°-on 10 percig tartott. Az így képződött ezüst-klorid réteget ezután, még mindig a sötét kamráiban, porlasztással ónoixidréteggel vontuk be, melyet pontosan stöohiiometrikus mennyiségben kaptunk meg óntetrakiorid acetomos oldatának oxiidiálása útján. Az utóbbi réteggel elért vastagság 1500 angstrom, volt. Az így bevont lap két oldalát ismert módon vékony rézielektródákkal szegélyeztük. Az így bevont lap két oldalát isimert módon vékony rézelektródákfcal szegélyeztük. Amikor1 az elektródák nincsenek -áramforráshoz kötve, a napsugárzás a fényáteresztést mindössze 10 másodpercnyi ildő után. 15%-ra csökkenti. A fényáteresztés 20 másodpercnyi sötét kamrai tartózkodás, után 88%-ot ér el és ezen az értéken állandósul. Ha most az elektródákat az áramforrásra kötjük, még pedig úgy, hogy az áram a hőmérsékletet 80°-ra emelje, akikor azonos besugárzási viszonyok között a fényáteresztés nem csökken 50% alá. Ha most a lapot 80°-on sötét kamráiba helyezzük, a fényáteresztés már 10 másodperc múlva 88%. 3. példa: Megint előállítottuk az 1. példa szerinti) üveglapot, azonban a 3 SáO-réteg (1. ábra) felvitele után e réteget 450°-on oxigénatmoszférával hoztuk érintkezésibe. Az SiO réteg kilenc tizede SiOj-dá alakult át. Az oxidált 3 réteget befedtük a 4 kalciumszilikát réteggel. Az üveglap átláts-ziatlanodása ugyanolyan volt, mint az 1. példában, azonban a reakció meglassult, mert azonos besugárzási viszonyok közlött a fényáteresztés 50 mp múlva 16%-on állandósult és 2 perc imúlva vett fel 80% értéket. E tény azzal magyarázható, hogy a klór és a bróm nem csak -adszorbeálódott az 5 határrétegben, hanem a 3 réteg belsejébe is behatolt ill. bediffundált, ami sokkal lassabb folyamát, mint az. adszorpció. 4. példa: Üveglap egyik oldalát gáznemű fiuórhidrogénsawal enylhén érdesítettük, majd megtisztítottuk és 100 mikron vastag réteggel vontuk be, melyet úgy kaptunk, hogy az említett oldalt diklór^diimetil-szilán gőzöknek tettük ki, majd higanyjodidot és ehhez adbtt egy mólrszázialék rézkloridot vittünk fel. Az így kapott üveglap reakciója napsugaraik behatásakor 2 mp múlva fejeződött be, sötét kamrában pedig 4 mp-ig tartott. Ezenkívül 500 és 650 millimikron hullámhoszszúságú sugárzás elegendő a változó áteresztőképesség mechanizmusának kiváltására 5 mp besugárzási idő után. 5. példa: 10 A 2. ábra a találmány fofotropizált kettős üveglap vázlatos metszete. A 10 üvegfal két db 10a és 10b lapból áll, melyeket 12 kerületükön egymáshoz, forrasztunk. A 200 angstrom vastagságú 13 ezüstklo-15 rid réteget az 1. példában isimertetett halogénező művelettel a 10a, 10b lapok egyesítése előtt visszük fel a 10b lapra a 10 üvegfal belsejében. Légköri nyomásnál a, 10 üvegfal 14 belseje 10 higanyoantiméter parciális nyomású klórt tar-20 talmaz. Ezen a nyoimáson a klór gyakorlatilag színtelen. A nyomás többi részét a jelenlevő nitrogén adja. Amikor az ezüsMdorid réteget 300 és 500 millimikron huMmhosszúsiágú bármilyen su-25 gárzás éri, a 13 réteg annál fokozóttalbbán elsötétül, minél intenzívebb a sugárzás. Az átlátszóság, ill. fényáteresztés a látható színkép valamennyi hullámhosszánál csökken, miáltal a 10 üvegfal, amikor átlátszóságát vizsgáljuk, szür-30 kés színárnyalatot mutat. A 10 üvegfal ismét teljesen, színtelenné válik 30 mp múlva, ha a besugárzás megszűnik. Fáradsági jelenség nem mutatkozik. Itt a 14 üreg nitrogén és klór atmoisizférája játsza a tároló réteg szeriepét, 35 amennyiben reverzibilisen visszatartja a klórt, mely a 13 réteget képező ezüstklorid felbomlásakor fejlődött. A találmány természetesen nieim szorítkozik a közölt példákra és bizonyos módosítások a 40 találmány keretének átlépése nélkül lehetségesek. Szabadalmi igénypontok: 45 1. Eljárás változó elektromágneses sugárzás hatásának kitett, magában véve is jelentős átlátszóságú legalább egy lápot tartalmazó rendszerien áthaladó energiamennyiség állandósítá-50 sara, azzal jellemezve, hogy a lapra, eső sugárzás útjába a lappal gyakorlatilag párhuzamos két felülettel határolt, folytonos kiterjedésű olyan közeget helyezünk, amely a sugárzás erősségének függvénylében', reverzibilisen fel-55 bontható kémiai anyagot tartalmaz, melynek legalább egyik bomlási termieké módosítja az említett közeg áteresztőképességét az elektromágneses színkép hullámlhosszaival szemben, és hogy az, említett közegnek legalább egyik 60 felületét magában véve is jelentős átlátszóságú olyan réteggel hozzuk érintkezésbe, amely a sugárzás hatására képződött bomlási termékeknek legalább egyikét reverzibilisen tárolja. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganato-65 sítási módja, azzal jellemezve, hogy a reverzi-10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 6
