153342. lajstromszámú szabadalom • Eljárás poliamid alapú rugalmas, hideg alkoholokban oldahtó fotopolimer előállítására

153342 arról leválasztjuk. így egyetlen műveletben fényérzékeny fotopolimer-fóliát vagy lemezt nyerünk, amely sík lapok között pontos méretre préselve és hordozó rétegre felragasztva alkalmas nyomóreliefek előállítására. Az így 5 készült poliamid alapú fotopolimer-réteget ultraibolya fénnyel filmen vagy sablonon keresztül megvilágítva, majd a felületet alacsony széniatomszámú alkohollal, pl. metanollal vagy etanollai 'hidegen kezelve, a sablonnak vagy 10 filmnek megfelelő nyomórelief alakul ki, amely kitűnően alkalmazható textiliák nyomására is. 2. példa 15 4 kg az 1. példa 'szerinti C-mietil-s-kaprolafctámot, 3 kg SIH-sót, 1 kg AH-sót és 2 kg «-feaprolaktámot 230—250 C°-on 20 órán át polikondenzálunk, majd a polimerből granulátumot készítünk. Az 1. példa szerinti adalékanya- 20 gokat 80 C" és 100 C° közötti ihőmérsékletre fűtött keverő extruderbem oldjuk be a polimerbe, majd a polimer ömledékéből az 1. példa szerinti módon képezzük a fotopolimer lemezeket. Az így előállított fotopolimerből készült 25 nyomóformák rendkívül rugalmasak, és ezért előnyösen alkalmazhatók durva felületek, pl. kairtonlemezek, bútoripari falemezek vagy textiliák nyomására. 30 3. példa 3 kg az 1. példa szerinti C-metil-£-kaprolak- " •támot, 3 kg SH-iSÓt, 1 kg AH-sót és 3 kg «^amindkaprolaktámot 230—250 C°-on 20 órán 35 át polikondenzálunk, majd a polimerből granulátumot, ill. azt megőrölve port készítünk. A polimer porihoz hozzákeverünk 500 g hexahidro-'l,3,5^trijakril triazint, 200 g triallilcianurátot és 400 g N,N-metilénbiszakrilamidot, va- 40 lamint 100 g benzofenont és 30 g hidrokinont, majd a porkeveréket a 2. példa szerinti módon oldjuk be a polimerbe. A polimer ömledékéből készült fotopolirner lemezből az 1. példa szerinti módon nyomóformákat alakítunk ki. Az 45 így kapott nyomóformák főleg finom, felületű papír nyomására alkalmazhatók előnyösen. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás poliamid alapú, hideg alkoholokban oldható, rugalmas fotopolirnerefc előállítására, amelyre jellemző, hogy poliamidképző alapanyagok és 20'—70 súly% C-alkil-í-kaprolaktám polifcondenzációjával nyert polimer ömledékében térhálósítóként allil- vagy akrilgyökkel szimmetrikíiisan szubsztituált triazin-származékokat önmagukban vagy egyéb isimért térhálósítófckal együtt, továbbá fényiniciáitorokat és adott esetben hőstabilizátorokat oldunk fel, majd a poMmerömledéket klisécélokra alkalmas formára alakítjuk. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, melyre jellemző, hogy poliamidképző alapanyagokként s-kaprolaktámiot, hexametiléndiammóniumadipátot, hexametiléndiiammómumszebacátot, 11-amino-undekánsavat, ill., ezek keverékét alkalmazzuk. 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, amelyre jellemző, hogy C-aikil-s-kaprolaktámfcént az <*-, ß-, 7-, s-, vagy ^-jelzésű szénatomjain metil-, etil-, vagy n-propil csoportokkal szubszitituált e-kaprolaktámot használunk. 4. Az 1—3. igénypontok; bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, amelyre jellemző, hogy a triazin-származékok mellett térnálósító szerként egy vagy több —CO—iNH— csoportot tartalmazó akrilszármazékot alkalmazunk. 5. Az 1—4. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, amelyre jellemző, hogy fényiniciátorként két aromás magot öszszékötő ketoncsoportot tartalmazó vegyületeket alkalmazunk. 6. Az 1—5. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, amelyre jellemző, hogy hőstabilizátorként aromás gyűrűn 2 vagy 3 hidroxilcsoportot tartalmazó vegyületeket alkalmazunk. A. kiadásért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója. 6706007. Zrínyi (T) Nyomda, Budapest V., Balassi Bálint utca 21—23./ :Í