153342. lajstromszámú szabadalom • Eljárás poliamid alapú rugalmas, hideg alkoholokban oldahtó fotopolimer előállítására
MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADALMI LEÍRÁS SZOLGÁLATITALÄLMÄNY Bejelentés napja: 1965. VI. 28. (MU-319) Közzététel napja: 1966. VII. 22. Megjelent: 1967. III. 31. 153342 Szabadalmi osztály: 39 c Nemzetközi osztály: C 08 fi Deci mái osztályozás: Feltalálók; Szafner Alfréd vegyészmérnök, Dr. Geleji Frigyes vegyészmérnök, Dékány Gyula nyomdamérnok, Budapest Tulajdonos: Műanyagipari Kutató Intézet, Budapest Eljárás poliamid alapú rugalmas, hideg alkoholokban oldható fotopolimer előállítására A teJákaány eljárás paöanaad alapú rugalmas, hideg alkohoäoikban oldható nyomdaÉpaci foto polimer előéAlítására. A találmány szerinti eljárással élőállított fotopdláJtnerek ultraibolya fénnyel megvilágított helyein rugalmas^ alkoholban többé nem oldódó reliefek képződnek, amelyek mellől a meg nem világított részek alkoholos kezeléssel kioldihiatQk. A nyomdaapartian az utóbbi években egyre nyüvánvalóbbá válik &e & törekvés, hogy a nyoEaofannafeeat használt ólomötvfeefceket nagy példányszámok nyomását tehetővé tevő, kisebb fajsúlyú, nagyobb kopásállóságú és a hagyományos ötvöaeÉetoél olcsóbb műanyagokkal és egyszerűbb eljárásokkal helyettesítsék. Számos szabadalmi leírás ós egyéb publikáció ismertet olyan rendszeréket, amelyek adott hullámhoszszűságú fénnyel való megvilágítás hatására eredeti tulajdonságaikat megváltoztatják. Egyik törekvés az, hogy bizonyos oldószerekben eredetileg oldódó műanyagréteg a megvilágított részeken elveszítse oldhatóságát és így oldószeres kezelés után... a megvilágított... területnek megfelelő relief maradjon vissza. A másik törekvés éppen ellenkező hatást igyekszik kihasználni; itt oldószerekben nem oldódó olyan polimerrendsztert hoznak létre, amely adott hullánhosszúságú fénnyel megvilágítva a megvilágított részeken oldhatóvá válik és oldószerrel kezelve a kívánt nyomórelief előhívható. Az ilyen tárgyú szabadíalmaík némelyike, pl, az 1136 721, 1103019, 1096197, 1140 704 sz. nyugatnémet, a 501003, 795 961, valamint a 707 912 sz, brit, továbbá a 2 365 416 sz. USA szabadalmak olyan poljaimidiokat ajánlanak fényérzékeny rétegek készítésére, amelyeknek: meg nem világított részei esalk meleg aiWwnoiakhan vagy különleges agresszív oldószerekben oldhatók. Esek a leírások nagy súlyt helyeznek a különféle térhálósító és fényérzékenyítő adalékanyagokra, de fägyaknen kívül hagyják azt a tényt, hogy a fényérzékeny réteg fő tömegét 'kitevő alap polimer kedvezőtlen tulajdonságai gátolják az eljárások gyakorlati alkalmazhatóságát. A meleg alkoholokban vagy agresszív oldószerekben való oldás során részben a megvilágított felülebeik, is oldódnak, ami száradáskor a reliefek zsugorodásához, ill. vetemedéséhez vezet. Az ismert eljárások további hátránya, hogy a fényérzékeny rétegként alkalmazott poliamidok olvadáspontja viszonylag magas és a hőhatásra érzékeny tárbálósító monomereknek a polimer amiedékbe való •bekeverése a monomerek polimerizációjánafc veszélyével jár. Ennek kiküszöbölésére a legtöbb eljárás költséges oldószeres rétegkialakítási módszert ajánl. Az eddig ismert eljárások hátránya még az is, hogy a poliamid csak korlátozott mértékben oldja a térhálósítás.i célból bekevert monomereket, ezért a beoldott 'monomerek 'egy része a 153342