152462. lajstromszámú szabadalom • Eljárás fotopolimerklisék előállítására

152462 A találmány szerinti eljárás foganatosítására az alábbi kiviteli példákat adjuk meg. 1. példa: S 15 g dioxánban 5 g dietilaminoetilmetakrilát homopolimért, 2,5 g metakrilsavat és 0,15 g benzoinmetilétert oldunk, majd ezt az oldatot 7,5 g olyan telítetlen poliészterrel elegyítjük, amelyet a szokásos módon 24,22 súly% maiéin- 10 savanhidxidből, 31,1 súly% ftálsavanhidridből, 7,49 súly% szebaemsavból, 21,46 súly% etilénglikolból, 15,72 súly% dietilénglikolból és 0,03 súly% hidrokinonból készítettünk. Az így nyert oldatot 10X14 cm méretű el- 15 oxált alumíniumlemezre öntjük, majd az oldószert szobahőfokon elpárologtatjuk. így száraz tapintású, 1 mm vastag fényérzékeny filmet nyerünk, amelyet ezután fényképészeti negatívval hozunk szoros érintkezésibe, majd 2000 wat- 20 tos higanygőz lámpával 50 cm távolságról 12 percen át megvilágítunk. Ezáltal a negatív film átlátszó részei alatt a fotopolimért oldhatatlanná tesszük. Megvilágítás után acetonos kezeléssel a fotopolimér változatlanul maradt 25 — oldható — részeit eltávolítjuk. Az alaplemezen maradt, domborzatosan kiemelkedő fotopolimér nyomtató kliséként alkalmazható. 2. példa: 30 10 g dioxánban 5 g dimetilaminoetilmetakrilát homopolimért, 2 g metakrilsavat és 0,08 g benzoinmetilétert oldunk, majd ezt az oldatot 1,5 g telítetlen, az 1. példában leírttal azonos poli- 35 észter gyantával elegyítjük. A továbbiakban az 1. példában ismertetett módon járunk el, de 12 perc helyett 8 perc megvilágítási időt alkalmazunk. A kapott fotopolimér klisé fényérzékenysége 40 nagyobb, mint az 1. példában leírté, rugalmassága valamivel kisebb. 3. példa: 15 g dioxániban 5 g dietilaminoetilmetakrilát homopolimért, 2,2 g metakrilsavat és 0,1 g benzoinmetilétert oldunk, majd ezt az oldatot 1,05 g telítetlen, az 1. példában leírttal azonos poliészter gyantával elegyítjük. Az így kapott keveréket az 1. példában ismertetett módon visszük fel az alaplemezre és 10 percen át világítjuk meg. A kapott polimer klisé nagy fényérzékenységű, rugalmassága megfelelő. A találmány szerinti eljárással előállított műanyag nyomóklisék rugalmasak, nem törékenyek, és nagy példányszámú nyomat élőállítására alkalmasak. Előállítási költségük nem nagyobb a régebbi, gyengébb minőségű nyomólemezekénél. Szabadalmi igénypont: Eljárás rugalmas fotopolimér lemezek előállítására polidialkil^amino-etil-metakrilátból és metakrilsavból készített fotopolimér só és fotoiniciátor elegyének felhasználásával, az elegynek vagy az elegy oldatának klisé^alátétre való felvitele, adott esetben az oldószer eltávolítása, az így nyert film felületére a készítendő klisé betűképének vagy rajzának megfelelő mintázatú sablon helyezése, az így letakart felület ultra-, ibolya fénnyel való besugárzása, majd a nem polimerizált részek oldószeres eltávolítása útján, amelyre jellemző, hogy a fotopolimér só és a fotoiniciátor elegyéhez 1—50 súly%, célszerűen 10—40 súly% mennyiségben térhálósító nélküli poliésztert adagolunk, és ultraibolya fénnyel való besugárzás hatására a fotopolimér sóval együtt a poliésztert is polimerizáljuk, miáltal oldhatatlan keverékpolimért állítunk elő. A kiadásért íelel: a közgazdasági és íogi Könyvkiadó igazgatója. 658963. Zrínyi (T) Nyomda, Budapest V., Balassi Bálint utca 21—23.