144333. lajstromszámú szabadalom • Eljárás Seignette kristály lemezek megmunkálására

Megjelent: 1958. szeptember 15-én. ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADALMI LEÍRÁS 144.333. SZÁM 21. a4

. 1—13. OSZTÁLY — LE—269. ALAPSZÁM Eljárás Seignette kristály lemezek megmunkálására Lendvay János kutató mérnök, Budapest Bejelentés napja: 1957. február 9. Ismeretes, hogy a Seignette kristály egyes metszetei különösen nagy piezzo-elektromos hatást mutatnak. Ezek alkalmassá teszik, hogy különböző helyeken indikátorként alkalmazzák. Közismert alkalmazási területei, a kristály pickup, kristály mikrofon, kristály hangszóró, gyorsulásmérők stb. Ezen felhasználási területek különböző nagyságú és vastagságú kristály lemezeket követelnek meg. Az ^érzékenység növelése céljából több vékony lemezt ragasztanak össze, amely alkalmazás megkívánja, hogy az egyes vékony lapkák felülete pontos és egyenletes sík felület legyen, az élek és sarkok pontos kiképzésével. Äz eddig ismert módszerek a lemezek felületi kiképzését oldószer alkalmazásával eszközölték oly módon, hogy a kristályt oldó folyadékot egy sík felületre öntötték és ezen csiszolták a kristály lapkákat gépi vagy kézi módszerrel. Ezen eljárás hátránya az, hogy az oldás a sarkokon gyorsabb és a felületen a nyomás következtében kipréselődő oldószer az éleken összegyűlik és nem kívánt oldódást idéz elő. Ennek következtében az élek és sarkok nem tartják meg a kívánt formát és méretet. Egy másik megoldás szerint a kristály lapot álló vagy mozgó felületű csiszoló papíron csiszolják. Ebben az esetben azonban a kristályt nagy erővel kellett a felülethez nyomni, ami gyakori törést okozott és ugyancsak nem biztosította az élek és sarkok pontos kiképzését. Ezen hátrányok kiküszöbölését célozza jelen bejelentés tárgya. Egy síkot képező tetszés szerinti pl. üveg felületre silicium carbid vagy egyéb csiszolóport helyezünk és ezt egy sem a kristályt, sem a csiszolóport nem oldó folyadékkal pl. parafin olajjal keverjük. Az alkalmazott olajnak hűtő és kenő szerepe van. Ezen eljárással a kristály lapkát a követelményeknek megfelelő nyomással és mozgatással csiszoljuk. Ezen munka úgy géppel, mint kézzel eszközölhető. Gyorsabb csiszolás (nagyolás) esetén durvább csiszolóport (300-as) finom csiszoláshoz (400— 600-as) csiszolóport használunk. A csiszolás alatt oldódás nem történik és így az elérhető pontosságot a gép esetén, ennek pontossága, kézi csiszolás esetén az egyéni ügyesség határozza meg. A kenő és hűtő folyadék alkalmazása folytán az anyag könnyen csúszik és a kristály mozgatásához kisebb nyomóerő kell, amiáltal a törési % lényegesen csökken. Csiszolás után a kenő és hűtő anyag mosás útján gyorsan eltávolítható. Egyes esetekben a felület fokozottabb finom kiképzése szükséges. Ezen műveletet vagy maratással észközöljük olymódon, hogy a csiszolt kristályt, a kristály anyagát oldó és nem oldó folyadék elegyébe mártjuk, vagy az ilyen elegygyel átitatott felületen végig simítjuk. Seignette kristály esetében a felület finomítására alkohol 60—80%-os vizes oldatát alkalmazzuk. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás Seignette kristály lemezek megmunkálására azzal jellemezve, hogy,a kristály felület csiszolására a kristály anyagát nem oldó folyadék és 300—600-as finomságú csiszolópor keverékét alkalmazzuk. 2. Az 1. igénypontban védett eljárás azzal jellemezve, hogy "az oldószer parafinolaj és a csiszolópor siliciumkarbid. 3. Eljárás Seignette kristály lemezek megmunkálására azzal jellemezve, hogy a sziszolt felület finomítására alkohol és víz 60—80%-os oldatát alkalmazzuk. A kiadásért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 258. Terv Nyomda, 1958. — Felelős vezető: Gajda László