116651. lajstromszámú szabadalom • Eljárás finoman felosztott fémrétegek előállítására

* -.) 1 : .'i . • P> ... vi Megjelelt 1 9#f3í. évi Augus^tiis hó -i —| „ '' 116651. s?,AM. Vll/d. OSZTÁLY. — L. 6892. ALAPSZÁM. Eljárás finoman fejosztott fémrétegek előállítására. Itadioaktiengrefeellschaft D. S. Loewe Berlín-Steglitz. A bejelentés napja 1935. évi május hó 31-ike. Németországi elsőbbsége 1934. évi június hó 1-je, A találmány fémrétegeknek szigetelőanyagokon, mint pl. csillámon vagy hasonlókon való előállítására alkalmas eljárásra vonatkozóik, mimellett a fémréteg leg-5 finomabb, egymástól szigetelt részecskékből áll és némileg mozaikszerű rácsot alkot egyes fémcseppecskékből. Ily fajta rácsokat hizonyos távolhalátó-képfelvételi eljárásoknál alkalmaznak, melyeknél az át-10 viendő képeket ikonoszkopkamra segítségével veszik fel. Miután az egyes fémrészecskék alkalmas kezeléssel fényérzékennyé vannak téve, a mozaikrács oly elemi-fotocellák felületszerű gyűjteményét 15 ábrázolja, melyek a mindenkori megvilágításnak megfelelő villamos töltéseket állítanak elő. E töltések aztán tovább haszr nálhatók fel alkalmas módon az adó vezérlésére. 20 A legfinomabb fémrészecskékből álló réteg előállítása jelentékeny nehézségekkel kapcsolatos, úgy a szigettelő közbenső réteg anyagának megválasztása, mint a szigetalakítás eljárása szempontjából. 25 Kívánatos, a szigetelő közbenső rétegként csillámot használni. Enneik az anyagnak a használata azonban a fémrétegnek egyes elemi részecskékre való felosztására valamely hevítést eljárás ^Lkaltmazásia 30 esetén nehézségekkel jár, hőállóságának hiánya és felületének szerkezete miatt. Vésőgépekkel. vagy kénpai kezeléssel végzett felosztás esetén ugyanúgy sokszor nem sikerül, a csekély adhéziós erő miatt, meg-85 felelő felosztású fémréteget előállítani. Továbhi szigetképzési eljárás az, hogy vékony, pl. csilláimra lecsapott ezüstréteget felváltva oxidálunk és redukálunk, célszerűen ködfény kisül és útj án felváltva bevezetett oxigén, ilkütőteg hidrogén afcmosz- 40 férában, körülbelül 1 mm. Hg. nyomásnál. A váltakozó oxMálás, illetőleg redukálás bizonyos mértékig, alkalmas hőkezeléssel is helyettesíthető; ennél az ezüstözött lemezt oxigénben mindenekelőtt az ezüst- 45 oxid képződési hőfokára hevítjük, azután, vákuumban továhb hevítjük addig, míg az ezüstoxid disszociált ezután a hőfokot ismét csökkentjük, s i. t. A ködfénykisülési eljárásnál célszerűen a szemcsézendő (gra- 50 nulálandó) ezüstréteget anódiként kapcsolt lemezzel állítjuk szembe, kátédként kapcsolt rácsalakú elektród közbekapcsolá&a mellett. Eközben az ezüstrétfeg nincsen elektromos vezetői összeköttetésben a kan 55 tóddal. Az ezüstréteg katódként is kapcsolható volna, azonban ennek az a hátránya mutatkozott, hogy az oxidálási ós redukálási folyamat a réteghez való hoz^ávezetés közelében erősebiben megy végbe, 60 mint más helyeken. Az eljárás utolsó fokozataként a finom ezüstrészecskék előállítása után, célszerűen gyönge oxidációt végeznek, mert ily módon lehetséges, előnyösen alkalmas réteget létesíteni a fotoérzé- 65 kenység céljaira. Az 1. ábra a ködfénykisülési eljárás kivitelére alkalmas elrendezést szemléltet. (5) anódként kapcsolt elektródával szemben (6) rácsszerű katód fekszik. A szemcsézendő (7) fémréteg az alkgknas 70 gáztöltésnél ki$ejlődő ködfénykisülés körw > zetében van elrendezve. A (7) fémrétég a (8) alapon foglal helyet. Mindezek az eljárások nem adnak kielégítő eredményeket. Legcélszerűbbnek tűnik 75 még a hevítés! eljárás. Ennél dielektromos