110247. lajstromszámú szabadalom • Eljárás elektróda-struktura előállítására

— 3 -lemezen az egyéni gömböcskék között bi­zonyos mennyiségű szabad (30) cézium kondenzálódik, aminek következménye, hogy a szomszédos gömböcskék között el-5 vezetőpályák keletkeznek, amelyeknek ve­zetőképessége elég nagy ahhoz, hogy az üzemet igen károsan befolyásolja. A találmányszerinti javított eljárás egyik legfontosabb fokozata mármost az 10 oxidált ezüstrészecskék közötti szabad cé­ziumkondenzátum, valamint a részecské­ken lévő céziumfölösleg egyidejű eltávolí­tása, úgyhogy ez ötödik fokozat befejezése után a részecskéknek lehető legnagyobb 15 fokú fényérzékenységük legyen. E célból a csövet állandó működésű, nagy vá­kuumot szolgáltató szivattyúval kötjük össze és 200—225 C° hőmérsékleten hevít­jük, illetve sütjük mindaddig, amíg a 20 gömböcskéknek lehető legnagyobb fokú fényérzékenységük van, amit a fényérzé­keny felület sárgásbarna (buff) színe mu­tat. A sütési (baking) hőmérsékletet ez­után 100—150 C°-ra csökkentjük és a sü-25 tést, valamint az evakuálást V2—1 óra hosszat folytatjuk. A második, alacso­nyabb hőfokon végrehajtott sütés hatása az, hogy a csillámlemezen az egyéni, szomszédos (24) részecskék között lévő 30 (30) céziumkondenzátumot teljesen eltá­volítjuk, anélkül, hogy a részecskéken lévő cézium eltávolítása folytatódnék, ami azoknak fényérzékenységi fokát lényege­sen megváltoztatná. E fokozat végrehaj-85 tásánál — amint említettük — ajánlatos, hogy a hőmérsékletet közvetlenül azon időpontot megelőzőleg csökkentsük, amelyben a részecskéknek fényérzékeny­ségi foka a lehető legnagyobb és hogy a 40 második, alacsonyabb hőmérsékleten végrehajtott sütési periódusra hagyjuk azon igen kis mennyiségű cézium eltávo­lítását, ami a részecskék fényérzékenysé­gének a lehető legnagyobb fokra való eme-45 léséhez szükséges. Másszóval az első, magasabb hőmérsék­leten végrehajtott sütési periódusban a részecskéken lévő céziumfelesleget (6. ábra) gyorsan eltávolítjuk, hogy azokat 50 lényegileg a legnagyobb érzékenység pont­jára hozzuk, amikor is a (24) gömböcské­ken lévő céziumréteg (7. ábra) mintegy atómvastagságú lesz és a csillámlemezen, a szomszédos részecskék között helyet fog-55 laló szabad (30) cézium legnagyobb része szintén elpárolog és elszívódik. A második és aránylag hosszú, alacsonyabb hőmér­sékleten foganatosított sütési periódus fo­lyamán a szabad cézium nyomai, amelyek a részecskék között még jelen lehetnek, el- 60 távolíttatnak, a céziumnak a részecskék­ről való számbajövő és nem kívánatos to­vábbi eltávolítása nélkül, ami azok lehető legnagyobb, kívánatos fényérzékenységét lecsökkentené. 65 Az egész sütési periódus alatt a cső nya­kában elhelyezett, szokásos elektronkilö­velő fémtestet (metál electron gun) nagy­frekvenciájú mező útján a céziumpárolgás kezdeti hőmérsékleténél kellőképen na- 70 gyobb hőmérsékleten tartjuk, amivel a cé­ziumgőznek az elektronkilövelő test fém­részein való kondenzálódását elkerüljük. E fokozattal az egész műveletet befejez­zük és a csövet elzárjuk. 75 Az esetben, ha a második fokozat után, amelyben az ezüstvegyületet fémezüstre redukáljuk és a csillámlemezen egyéni (24) ezüstgömböcskéket képezünk (4. ábra), a gömböcskéknek felületegységenkénti 80 száma nem elegendő az üzemi követelmé­nyek kielégítésére, akkor ajánlatos, hogy az ezüstvegyületrétegnek porlasztás útján való felvitelét és e rétegnek egyéni göm­böeskék alakjában ezüstre való redukálá- 85 sát magában foglaló eme fokozatot meg­ismételjük mindaddig, amíg felületegysé­genként a kívánt számot kapjuk. A máso­dik fokozat mindegyik megismétlésekor az előzetesen képezett gömböcskék között 90 új ezíistgömböcskék képződnek, amelyek mindegyike mintegy új ezüsttel épül fel. Miután a második fokozatot szükség sze­rinti számban megismételtük, a gömböcs­kék oxidálását célzó harmadik fokozatot 95 és ezeknek fényérzékennyé tételére való negyedik és ötödik fokozatot foganatosít­juk, amint fent ismertettük. Az első fokozat foganatosításánál fém­vegyület alkalmazása helyett magát a 100 tiszta fémet közvetlenül is felvihetjük, hogy a szigetelő aljzaton vékony réteget képezzünk. Ezt bármilyen megfelelő mó­don elvégezhetjük, mint pl. az ú. n. Bra­sliear-féle eljárás szerinti vegyi lecsapás- 105 sal, olvasztott fémcseppek vakuumban fo­ganatosított elgőzöltetésével, részleges vákuumban való permetezéssel, vagy az li. 11. Schoop-féle eljárás szerinti fémfecs­kendezéssel. Ezután a második fokozatot 110 és a további oxidáló és fényérzékennyé tevő fokozatokat a fent leírt módon hajt­juk végre. A fent megadott hőmérsékleti, nyomási és időértékeket csak példaképen adtuk 115 meg, úgyhogy azok távolról sem minden­kor betartandó értékek és a különleges feltételektől függően nagy körzetben vál-

Next

/
Oldalképek
Tartalom