104188. lajstromszámú szabadalom • Vákuumdisztilláló eljárás és berendezés

— 2 — zálófelületek átlagos távolsága nagyobb legyen, mint a szívóvezetéktől elforduló elgőzölögtetőíelületek és a hozzátartozó kondezálófelületek közötti átlagos távol-5 ság. A felületeket célszerűen többé kevésbé függélyesen rendezzük el. A rajz a berendezés egy példájának vázlatát függélyes metszetben mutatja; az evakuálandó (a) térben, mely (b) nyílás 10 révén van a vacuumszivattyúhoz kapcsolva, meleg (d) lapok és hideg (c) lapok vannak elrendezve. Ha az elgőzölögtetendő nyersanyagot a (dl) lemez felületén lecsurgatjuk, a lemez, mindkét oldalán 15 gőz- és gázmolekulák szabadulnak ki. Azok a gőzmolekulák, melyek a (dl) lemeznek a (cl) kondenzálólemez felé forduló oldalán szabadulnak fel, a (cl) lemezen kondenzálódnak; a (dl) és (cl) leme-20 zek közti távolság a molekulák szabad úthosszának nagyságrendjébe esik úgy, hogy a gőzmolekulák az egyik lemezről a másikra molekuláris sebességgel lépnek át; minthogy a desztillálandó anyag a 25 ídl) lemezen igen vékony rétegben folyik le, a diffúzió nem hat gátlólag íigy, hogy maga a desztiUálás is molekuláris sebességei megy végbe. A (dl) lemez két oldalán felszabadult 30 gázmolekulákat a jóval nagyobb számú gőzmolekulák a (cl) és (c3) hideg felüle. tek felé terelik; a gázmolekulák a (dl) és (cl) felületek közti térből csak oldalt tudnak kiszabadulni s ekkor a (c2) felé 35 irányuló gőzmolekulaáramba kerülnek, mely ugyanolyan irányú, mint a (dl) és (c3) felületek közötti gőzáram. Ez utóbbi gőzáramból a gázmolekulák ugyancsak csupán oldalt tudnak kilépni s így a (c4) 40 felé irányúló gőzáramba kerülnek. Látjuk, hogy ilyen módon a desztillálótérben lévő gázmolekulák a szivattyú felé menesztetnek. Más szavakkal, a (dl) lemezen felszabadult gázmolekulák csak a (dl, cl) 45 szakaszon Vannak a vacuumszivattyútól távolodó gőzmolekulák ütődésének alávetve, ellenben a többszörösen nagyobb (dl, c3) úton a gőzmolekulák a gázmolekulákra a szivattyú irányában hatnak. 50 Végeredményben tehát a gőzimolekulák a gázmolekulákra a szivattyú felé menesztő hatást fejtenek ki, ami a találmány szerinti berendezés egy lényeges célja. 55 Egy példaképpeni készülékben a 0.125 m3

köbtartalmú vacuumtérben 12 forró lemez 2 m2

összfűtőfelülettel és 13 hideg lemez kb. ugyanakkora összhűtőfelülettel volt. A (dl, cl) stb. távolságok 1 cm, a (dl, d3) stb. távolságok 5 cm voltak. A 60 nyersanyag egész nehéz kőolajdesztillátum volt, mely. igen vékony rétegben csurgott le a forró lemezeken. Az anyagnak el nem gőzölt részét a forró lemezek alsó éle mentén elrendezett vályúkban 65 fogtuk fel és kivezettük. Hasonló módon gyűjtöttük a hideg lemezeken kondenzálódott és lecsurgott desztillál,umot, A desztilláció közben a vacuumtérben 0.01— 0.001 mm Hg abszolút nyomást tartót- 70 tunk fenn. Ilyen körülmények között a molekulák szabad úthossza kb. 4 cm. Ha molekulák szabad úthossza 4 cm., az elgőzölögtető és a kondenzálófelületek közötti távolságok 0.4 és 40 cm között le- 75 hetnének, célszerű azonban ezen távolságokat 1 és 10 cm között választani, hogy nagyságrendjük a molekulák szabad úthosszával összhangban legyen. A (dl, cl) és a (dl, c3) távolságok 1, 80 ill. 5 cm, tehát a fenti követelménynek eleget tesznek. Ilyen körülmények között a fenti berendezésben a nyersanyag minőségétől függően és óránként az elgőzölögtető felület minden cm2

-éről 5—25 85 cm3

kondenzátumot termelhetünk. Ez utóbbiak nagy tisztaságúak, alacsony gŐzfeszültségüek s rendszerint majdnem vagy teljesen szagtalanok, úgyhogy gyógyászati célokra is használhatók. 90 Az eljárást és a berendezést a találmány keretén belül sokféleképpen módosíthatjuk. A fenti ismertetés a szakember részére lehetővé teszi a találmány keretén belül 95 az ilyen módosításokat. Különösen módosíthatók a nyersanyag és a kondenzátum táplálására és elvezetésére való berendezések, továbbá a lemezek hőmérsékei, a fűtés és a hűtés módja, a fűtő- és 1° hűtőfelületek sík hullámos vagy egyéb kiképezése; a hőmérsékek stb. megfelelő megválasztása • révén a berendezésben frakcionálási is végezhetünk. Szabadalmi igények: 10 1. Eljárás vaeuumdesztillálásra egy vacuumtérben, melyben elgőzölögtetőfelületek és kondenzálófelületek úgy vannak elrendezve, hogy két—két különnemű ilyen felület közötti távol- 11 ság a gőzmolekuláknak az üzemi viszonyok melletti szabad úthossza nagyságrendjén belül fekszik, mimellett a gőzmol'ekulák mindegyik elgőzölögtetőfelületről a hozzátartozó kondenzáló- 11 felület felé áramolnak, melyet az jellemez, hogy egymáshoz képest lépcső-