85312. lajstromszámú szabadalom • Eljárás a vashabgrafit képződés megakadályozására szilíciumtartalmú vasöntvény ötvözetek előállítására

melynek vas-, szén- és siliciumtartalmát anoletikai vizsgálat alapján pontosan ismernünk kell, ennek megfelelően kiszámított mennyiségű, tetszőleges származású 5 szénszegény vassal egyetlen, a szénben ví*tó dúsítás lehetőségét kizáró kemencében olykép ömlesztünk össze, hogy égyré&zt jeléi-jük .. a . sasrállóságihoz szükséges siliciumtartalmat és hogy másrészt az öm-10 leszték vashabgrafit képződése nélkül merevedjék meg. = Az eljárás ezen változatának foganatosítására "bármely tetszőleges oly olvasztókemencét használhatunk,- mely lehetővé 15 teszi a széniben való dúsítás nélküli ömlesztést, lényeges ugyanis itt, hogy a széntartalom minden körülmények között az eutektikai határon belül maradjon, hogy ilyenformán az ömleszték lehűlése alkal-20 mával vasihabgrafitképződés gyanánt jelentkező minden szénkicsapódás megaka-L dályoztassék. Alkalmazhatók tehát pl. a következő kemencék az elektromos kemence, az olajkemence, a tégely- vagy 25 tégelymentes kemence, a Martinkeménce. Elektromos kemencében pl. együttesen < vagy egymásután összeömlesztünk: 1. 54% vasból. 45% siliciumból és 0.7% szénből álló ötvözet 40 kg-ját és 80 2. 0.1% siliciumot és 0.1% szenet tartalmazó folytvas 60 kg-ját. A tapasztalat alapján megbecsülendő és az illető kemencének megfelelő tűzi fogyaték tekintetbevételével ilyenformán oly 35 ötvözet jön létre, mely tartalmazza a vasállósághoz szükséges siliciumot és emellett vashabgrafit képződése nélkül merevedik meg. Ezen fogana.tosítási mód főelőnye, hogy csak egyetlen ömlesztőkészülékkel dolgozunk, úgy hogy elmaradnak azon nagy hátrányok, melyek annak a szükségességéből adódnak, hogy két különböző ömlesztőfolyamatot' pontosan olykép' kell vezetni, hogy mindkettő pontosan ugyanazon pilla- 45 natban fejeződjék be. Silicideknek elektromos kemencében vagy másúton való előállítására irányuló egyéb eljárásokkal szemben a jelen találmány szerinti új eljárás azt a lényeges különbséget mutatja, 50 hogy ennél az eljárásnál nem általában siliciumötvözeteket állítunk ;elő, hanem már meglevő, túlnagy százaléktartalmú vassiliciumötvözetekből a kívánt százaléktartalommal pontosan hiró ötvözeteket 55 állítjuk elő. Szabadalmi igény: Eljárás vashabgraíitképződés megakadályozására nagy mértékben saválló, siliciumtart alrmi vasöntvényötvözetek elő- 60 állításánál a 80475., sz. törzsszabadalom szerint, azáltal jellemezve, hogy a siliciumtartalmú pótvasötvözetet a kupolakemenoe helyett más oly ömlesztőtérben olvasztjuk meg, mely a 65 szénben való dúsítást kizárja, vagy pedig a pótvasötvözetet ezen célra a szénszegény vas kiszámított mennyiségével együttesen vagy egymásután ugyanazon ömlesztőtérben, tehát ugyan- 70 csak a szénben való dúsítás lehetőségének kizárásával ömlesztjük meg. Pallas nyomda, I5i:ilup:;*t.