16010. lajstromszámú szabadalom • Fotomechanikus eljárás tökéletes alakú és az eredetihez teljesen hasonló plasztikus tárgyak előállítására

— 2 agyag réteget vagy más plasztikus anyagot nyomva egy pozitív (5) levonatot készítünk. Ezután a (C) gipszmintát selakkal bevonva, tekintet nélkül a teljes hasonlóságra vagy az (1) eredeti finom részleteire, de a szob_ rászat szabályait szem előtt tartva, kijavít juk, amennyiben a túlságosan mély részeket legczélszerűebben viasszal vagy más plasztikus anyaggal magasítjuk, a túlságosan magas részeket lefaragás által mélyítjük. Erre a kijavított (C) gipszmintára a (4) gipszforma segélyével készült (5) anyagmintát helyesen és megfelelően ráfektetjük és a gipszmintát gyönge nyomás által az agyagmintával egyesítjük. Ez legczélszerűebben oly módon történik, hogy a javított (C) gipszmintát hátulról a még a (4) gipszformában lévő (5) anyagmintára nyomjuk és az anyagmintát a gipszmintával egyidejűleg emeljük ki, esetleg ha szükséges utólag a gipszmintára nyomjuk. Az ily módon a (C) gipszmintára átvitt (5) agyagmintán az összes részek az alatta fekvő (C) gipszminta által meghatározott viszonylagos helyzetben maradnak. A (C) gipszmintából és az (5) anyagmintából álló mintát azután megfelelő retouche-sal lehet ellátni. Az új eljárás főjellemzője az, hogy a tetszőleges eredetiről fotografikus, illetve foto-mechanikus uton előállított (C) gipszminta az (1) eredeti fővonásainak helyes visszaadására, a másik ugyanazon (1) eredetiről előállított (5) agyagminta a finomabb vagy legfinomabb részletek visszaadására szolgál, és hogy eme két rész egyesítésével az (1) eredeti tökéletes képe létesíttetik. A föntebb leírt eljárás egy más kiviteli módja a következő : Közvetlenül egy (diapozitív segélyével előállított) negativ reliefből vagy egy gipszformából, mely (egy negativ kép segélyével előállított) pozitív relief után készül, megfelelő vékony rétegből egy pozitív levonatot készítünk, melynek anyaga, ha közvetlenül a gelatinreliefről dolgozunk, viasz vagy plasztrin (viaszszerű, SZÍVÓS képlékeny anyag) ha pedig gipszformából dolgozunk agyag lehet. Az egyik vagy másik módon (viaszból vagy plasztrinból illetőleg agyagból) készült levonatot valamely módon (pld. mintázólemezzel vagy mintázókéssel) hátulról előre nyomjuk, illetve utánmodelláljuk, míg az művészi szempontból az eredetinek meg nem felel és míg a gelatinreliefen túlságosan mélyen fekvő részek a kellő magasságig föl nem emeltettek, minek megtörténte után szükség esetén (mint az első sorban leírt eljárásnál) retochozzuk, hogy ily módon teljesen helyes, minden részében művészileg kiállított plasztikus mintát nyerjünk, mely azután, a legtöbb esetben újból — forma előállítása czéljából történő — leöntése után fémből vagy más önthető illetve képlékeny anyagból előállított minták készítésére szolgál, mely tárgyak azután ipari czélokra használhatók föl. Ha az előállított tárgyak keramikus anyagból készülnek, egy más szabadalmamban védett eljárás szerint zománczfestékek segélyével be is festhetők. SZABADALMI IGÉNYEK. 1. Eljárás plasztikus tárgyaknak előállítására fotografikus úton fölvett képek vagy tárgyak után, azáltal jellemezve, hogy egy hajlékony, vékony anyagból készült forma levonatot és egy mintát, melyek fotografiikus úton előállított gelatinreliefek segélyével direkt vagy indirekt úton állíttattak elő, azután, hogy a mintát kézi munkával a helyes plasztikának megfelelően művészi alapelvek szerint (viasz vagy plasztrin) fölrakása, illetve levakarás által a kellő alakra hoztuk, egyesítjük és a mintára helyezett levonatot kisimítjuk és oly módon kijavítjuk, hogy a keletkezett relieftárgy az eredetit helyesen és a kellő plasztikával, minden finomság visszaadásával ábrázolja és valamely módon, pld. fémmel vagy keramikus anyaggal, illetve bármely önthető vagy vékony képlékeny anyaggal való utánképezésére alkalmassá váljék. 2. Az 1. alatt védett eljárás egy kiviteli módozata, azáltal jellemezve, hogy közvetlenül a fotografikus úton előállí-