Fogorvosi szemle, 2006 (99. évfolyam, 1-6. szám)
2006-04-01 / 2. szám
58 FOGORVOSI SZEMLE ■ 99. évf. 2. sz. 2006. 685,3 eV-os jel a Na2TiF6-ból (1. táblázat). A 686,4 eV a hexa-fluoroszilikáthoz (Na2SiF6), a 690,9 eV jel pedig a C6F6 fluoridvegyülethez rendelhető [4,13]. Megjegyzendő, hogy a 840 eV-nál jelentkező fluoridcsúcsot az irodalomban [6, 7] a 600 eV-os kötési energiánál adják meg. Az eltérés oka, hogy a szerző MgK(( röntgen sugárforrást használt, mi pedig AIKh sugárforrást. 8. ábra. Fluoridos géllel kezelt titán felszín XPS spektruma I. táblázat A NIST XPS adatbázisból [13] származó Na, F, Ti-t tartalmazó molekulák röntgen fotoelektron spektroszkópiával kapott kötési energiái Atom Molekula Kötési energia (eV) Fis F NaF 683,7 F NaF 684,27 F NaF 684,5 F K2TiF6 684,9 F K2TiF6 685 F Na2TiF6 685,3 F Na2SiF6 686 F Na2SiF6 686,4 F 690,9 Az argon ion bombázás után elvégzett XPS vizsgálat kimutatta, hogy a 690 és a 840 eV körüli fluoridcsúcsok változatlanul jelen vannak (9.ábra), vagyis a fluoridot tartalmazó vegyület bekötődött a felületbe, és a felszínről nehezen eltávolítható komplexumot hozott létre. Az argon ion bombázást követően kissé megnövekedett jelintenzitás arra utal, hogy ezzel a módszerrel csak az egyéb felületi szennyeződéseket távolítottuk el, a fluoridréteget nem. F KLL 9. ábra. A fluorid géllel kezelt titánkorong Ar ion besugárzás nélkül mért XPS spektruma (alsó görbe), és a besugárzás után felvett XPS spektrum (felső görbe) Megbeszélés Eredményeink bizonyítják, hogy a magas fluorid-koncentrációjú, szerves fluoridot is tartalmazó géllel történő kezelés megváltoztatja a titán felületét, és ezt a fluorid koncentrációnak (1% feletti) és savas pH együttes hatásának tulajdonítjuk. Már az AFM képeken is látszik, hogy a kiindulási és a fluoridos fogkrémmel kezelt mintához képest a fluoridos gélezés után a felületi egyenetlenség mértéke szignifikánsan megnőtt. Az XPS görbék azt bizonyítják, hogy a Ti02 réteg továbbra is megtalálható a minta felszínén, de a fluorid csúcsok jelenléte arra utal, hogy a F~-ot tartalmazó vegyület a felületet módosítja. Az argon ionos porlasztás eredményei bizonyítják, hogy a fluorid nemcsak megtapad a felszínen, hanem vegyület formájában a felszíni réteghez kötődik. Annak tisztázására, hogy a 690 eV körüli kötési energiánál jelentkező XPS csúcs melyik fluorvegyülethez rendelhető, további vizsgálatok szükségesek. Irodalmi adatok szerint [7], más vizsgálatokkal, az ún. EDS (energy dispersive spectroscopy) analízissel kapott eredmények a mi megállapításainkkal összhangban vannak, és azt bizonyítják, hogy ennél a kötési energiánál a Na2TiF6 (nátrium-hexafluorotitanát) komplex vonala jelentkezik. Tekintettel arra, hogy a fluor nagyon sok szájhigiénia fenntartásához vagy szájüregi betegség gyógykezeléséhez használatos szerben alkotóelemként szerepel, a továbbiakban vizsgálatainkat más szerekre is ki fogjuk terjeszteni. Ezek keretében alapvetően a fluoridot tartalmazó vegyület fajtájának és a fluorid koncentrációnak, továbbá az egyéb anyagok kölcsönhatásának az esetleges felületmódosító hatásban játszott szerepét kívánjuk tisztázni. Köszönetnyilvánítás Köszönettel tartozunk a Szegedi Tudományegyetem Természettudományi Kar Kolloidkémiai Tanszékének, hogy
