Fogorvosi szemle, 2000 (93. évfolyam, 1-12. szám)
2000-06-01 / 6. szám
fehérjéknek a felülethez történő kötődéséért. A kérdéshez kapcsolódó érdekes megfigyelés, hogy a titánötvözetű felületeknél kisebb a csontintegráció mértéke, mint az ötvözetlen, tiszta titán felületeknél [10]. Az implantátumok felületi tulajdonságainak másik fontos tényezője a felület mikromorfológiája. Mikromorfológián általában az implantátumok felületének 100 mikron alatti egyenetlenségeit, alakzatait értjük. A felületi morfológia biológiai szerepét vizsgáló kutatók általános véleménye, hogy az érdes felület a csontintegráció kialakulása szempontjából jobb, mint a sima felületi kiképzés [4, 6, 7, 9, 14, 26, 27, 28], Nyitott kérdés azonban, hogy milyen alakzatú az ideális felületi morfológia. Erre vonatkozóan különböző, esetenként egymásnak is ellentmondó vélemények jelentek meg [8, 25, 27, 28]. Az implantátum felületének tisztasága és a megfelelő morfológia kialakítása gyakran összefügg, mert a felületi bevonatok készítésénél, a felület érdesítésénél bekövetkezhet az idegen anyagokkal történő szennyeződés [13]. Az implantátum felületének a kialakításában így elméletileg azok az eljárások a kívánatosak, amelyek a már meglévő felületet alakítják át, és elkerülik az anyagfelhordással esetlegesen együtt járó szennyeződést. A lézerrel történő felületkezelésről közleményünk megírásáig az irodalomban csak egy utalást találtunk [19]. Az ott ismertetett eljárás módszerében és a kialakított felület morfológiájában is lényegesen különbözik az általunk alkalmazott felületkezeléstől. A lézeres felületkezelés hatásának biológiai vizsgálatáról adatot nem találtunk. A lézeres felületkezelési eljárás a fizikai paraméterek szerint egyesíti a tiszta felület és az ideális felületi morfológia kialakításának követelményeit. A lézerfény hatására az implantátum felületén rövid idő alatt nagy teljesítménysűrűség alakul ki. A felszíni hőmérséklet elérheti az 5-6000 C-t is, amely a besugárzás időtartamának a végéig 50-100 mikron mélységű, olvadt felületi réteget hoz létre. A kezelés vákuumban vagy célszerűen választott gázatmoszférában történik. A felület hőmérséklete mégis viszonylag alacsonyabb a nagymértékű elpárolgás miatt, ezért a felszín alatti magasabb hőmérsékletű anyag mintegy „lerobbantja” a felületi réteget. Az oldott gáztartalom buborékok formájában, krátereket hagyva maga után, elhagyja a felszínt. A besugárzás végeztével az olvadt anyagréteg, az implantátum érintetlen, hideg tömegének a hatására néhány nanoszekundum alatt ismét megszilárdul és morfológiájában megőrzi az olvadt állapot utolsó pillanatában jelenlévő felületi alakzatokat, amelyek mérete tipikusan a 10-60 mikron tartományba esik. A szilárd állapotban is folytatódó szupergyors lehűlés hatására dendrites kristályformák jelennek meg az 1-10 mikronos mérettartományban, tovább fokozva a morfológiai sokszínűséget. 170
