203375. lajstromszámú szabadalom • Porózus felületek hidrofóbizáló hatású felületkezelésére alkalmas polisziloxán készítmények és eljárás a polisziloxánok előállítására
9 HU 203 375 B 10 n + p + q = 4;- és az R ;Si(OR)pClq(OX)r általános képletű vegyiiletek, - ahol-R‘ és R jelentése a fentivel egyező; n értéke 0, 1 vagy 2; P és q értéke 0,1,2 vagy 3, azzal a kikötéssel, hogy P + q * O;-X jelentése klórszubsztituált etil-, n-propil- vagy i-propil-csoport; r értéke 1 vagy 2; n + p + q + r = 4;olyan keverékét reagáltatjuk Fe/^ és/vagy Fe,04 és/vagy FeCl3 katalizátor jelenlétében, amelyben az alkoxi-funkció (p) és klór-funkciók (q) mólaránya 0,8-tól 1,9 közé eső érték, és a reakcióelegyet a kondenzáció során keletkező alkil-halogenid képződésének megszűnéséig melegítjük. 2. Kompozíció porózus vagy nagy fajlagos felületű anyagok, építőipari burkolatok, szálak, rostok és porszerű anyagok felületkezelésére, azzal jellemezve, hogy az 1. igénypont szerint készült szerves polisziloxánokból 0,5-5 t% szárazanyagot tartalmaz illékony oldószer, célszerűen szénhidrogének mellett. 3. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy R ;Si(OR)pClq(OX)r általános képletű vegyületként Si(OC2Hj)3(OC2H4a)-t alkalmazunk. 4. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy R ^Si(OR)pClq(OXX általános képletű vegyületként Si(OC2Hj)2(OC2H4Cl)2-t alkalmazunk. 5. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy R ;Si(OR)pCl,(OX)r általános képletű vegyületként CH3Si(OC2H5)2((X2H4Cl)-t alkalmazunk. 6. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy R ;Si(OR)„a,(OX)r általános képletű vegyületként CH2=CHSi(OC2Hj)2((X^HiCl)-t alkalmazunk. 7. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy R ^SiCORjpCl^OX), általános képletű vegyületként C6H5Si(<X2H5)2(<>C2H4Cl)-t alkalmazunk. 8. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy R ;Si(OR)pClq(OX)r általános képletű vegyületként SiCl2(OC2H4Cl2-t és/vagy CHjSiCl^OC^Clj-t alkalmazunk. 9. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy R 'SiíORjpClqfOX), általános képletű vegyületként CeHjSiCl^OQHtGj-t alkalmazunk. 10. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy R ;Si(OR)pClq(OX)r általános képletű vegyületként CH3SiCl(OC2H5)(OC2H,a)-t alkalmazunk. 5 10 15 20 25 30 6
