192372. lajstromszámú szabadalom • Eljárás szterán-vázas vegyületek szimultán oximálására és/vagy trimetil-szililezésére
1 2 A találmány tárgya eljárás szterán-vázas vegyületek szimultán oximálására és/vagy szililezésére. A találmány szerinti eljárást az (I) általános képletű N-szubsztituált karbamidsav-trimetil-szilil-észterekktíl végezzük — a képletben R1 /I -6/szénatomszámú alkil-csoport, R2 hidrogénatom, /I-6/szénatomszámú alkil-csoport, vagy trimetil-szilil-csoport. Az (I) általános képletű, új N-szubsztituált karbamidsav-trimetil észterek - a képletben R1 és R2 jelentése a fentiekben megadott - előállítási eljárását jelen szabadalmi bejelentésünk elsőbbségi napján bejelentett 191021 lajtromszámű magyar szabadalmi leírás ismerteti. Ismeretes, hogy a hidroxi- és/vagy oxocsoportokat tartalmazó szterán-vázas vegyületek erős intermolekuláris kölcsönhatásokban vesznek részt és ennek megfelelően kis illékonysággal és csekély termikus labilitással rendelkeznek, így gázfázisú vizsgálatokra - mint pl. GC (gázkromatográfia), MS (tömegspektrometria) kombinált gázkromatográfia-tömegspektrometria (GC-MS) egyéb gázfázisú vizsgálatok - közvetlenül nem alkalmasak. Az ilyen típusú vegyületek illékonyságának növelése céljából általában elterjedt a protikus hidrogénatomot tartalmazó funkciós csoportok szililezése. E vegyületeknél azonban az oxo-csoportok enolizációja miatt számos mellékreakcióra' van lehetőség és így a sziiilezés során több melléktermék is képződhet. Ezért a szililezést megelőzően szükséges az oxo-csoportok védése. Erre a célra leginkább az oxo-csoportnak oxim-alkil-éterré történő átalakítása vált be. A fentieknek megfelelően az általánosan alkalmazott eljárás szerint protikus hidrogénatomot és|vagy oxo-csoporto(ka)t tartalmazó vegyületek származékképzése két lépésben történik: első lépésként az oximképzést, majd ezt követően a szililezést hajtják végre. E kétlépéses származékképzési módszereket a szteroidok vizsgálata kapcsán Homing és mtsai vezették be Thenot, JP.T., Horning, EC., Analyt. Letters 5, 21 (1972). Módszerük szerint a megfelelő szubsztrátot, ill. azok elegyét piridines oldatban metoxi-amin-hidrokloriddal 60—90 °C-on 0,5- 2,0 órán át reagáltatják, melynek eredményeként a ketocsoportok kvantitative átalakulnak oxim-metil-étcr-származékká. Ezt követően az oldószert és a reagensfelesleget különböző módszerekkel eltávolít-Í'ák, majd az oximált szubsztrát trimetil-szililezése:övetkezik. A hidroxicsoportok szililezése a térgátoltságtól függően különböző szililező-szerekkel ill. azok elegyeivel történik többnyire magasabb reakcióhőmérsékleten (100—150 °C) és több órás reakcióidővel (Gleispach, H., J.Chromatogr. 91, 407 (1974), Poole, C.F., in Handbook of Derivatives for Chromatography (Editors: C.Blau and G. Lug)), Az esetek nagy részében a minta eltarthatósága és a gázkromatográfiás vizsgálatra való alkalmassága szükségessé teszi a reagens-felesleg eltávolítását és a minta más oldószerbe való átvitelét. A fentiekből kitűnik, hogy a többlépéses eljárás munkaigényes, a kvantitatív eredmények reprodukálhatóságát illetően több szubjektív hibalehetőséggel terhes és mindamellett időigényes. Találmányunk célkitűzése az eddig alkalmazott kétlépéses eljárások hátrányainak kiküszöbölése. Kísérleteink során azt találtuk, hogy az (I) általános képletű vegyületek - a képletben R1 és R2 az előzőekben megadott — alkalmazásával a felsorolt hátrányokat ki tudjuk küszöbölni,, mivel az oximálást és a *rimetil-szililezést egy reagenssel, egy lépésben - tehát szimultán módon - enyhébb reakciókörülmények mellett, alacsonyabb hőmérsékleten és rövidebb reakcióidővel valósíthatjuk meg. A találmány eljárás oxo- és/vag/ hidroxi-csoporto(ka)t tartalmazó szterán-vázas vegyületek oximálására és/vagy trimetil-szililezésére,- azzal jellemezve, hogy- az oxo- és/vagy hidroxi-csoportokat tartalmazó szterán-vázas vegyülete(ke)t aprotikus, poláris vagy apoláris, előnyösen gyengén poláris oldószerben feldőljük,- az oldathoz I0-100-szoros, előnyösen 10-60- szorcs mólfeleslegben (I) általános képletű N-szubsztituáJt karbamidsav-trimetil-szilil-észtert- a képletben R' 1 -6 szénatomszámú alkil-csoport R" hidrogénatom, 1-6 szénatomszámú alkil-csoport, vagy trimetil-szilil-csoport — és katalizátorként legalább egy savas jellegű vegyületet adunk, majd- a reakció clegyet 18 °C - és reakció-elegy forráspontja közötti hőfoktartományban, előnyösen 18 és 100 V közötti hőmérsékleten 10-180, előnyösen 10-60 percig reagálni hagyjuk és- az oximált és/vagy trimetil-szilílezett szterán-vázas vcgyülete(ke)t vagy közvetlenül az oldatból kivett aliquot rész(ek) felhasználásával gázkromatográfiás, tömegspektrometriás módszerrel ismert módon vizsgáljuk, vagy kívánt esetben standard(ok) készítéséhez szétválasztjuk, illetve tisztítjuk. A találmány szerinti eljárás egy foganatosítási módja szerint elő lépésben a szterán-vázas vegyülete(ke)t — a származékképzés szubsztrátját, illetve szubsztrátjait — savas katalizátor jelenlétében aprotikus poláris, apoláris vagy gyengén poláris oldószerben adott esetben azok elegyében, a környezeti és 80 °C közötti hőmérsékleten feloldjuk, illetve szuszpendáljuk. Gyakran a reagens előnyös oldószere, így külör oldószer alkalmazására nincs szükség. Rosszul oldódó szubsztrát esetén az oldódás jelzi a reakció végbemenetelét. Előnyösen alkalmazható aprotikus oldószerek a poláris acetonitril, dimetil-formamid, dimetil-szulfoxid, éterek stb., az apoláris kloroform, a diklórmetán, a toluol stb. Igen alkalmas oldószer például a közepesen poláris piridin, Savas katalizátorként mindazon anyagok alkalmasak, nelyek a reakcióközeghez képest protondonorok. Különösen jó katalizátorok a szervetlen és szerves srvak (pl.: sósav, kénsav, ecetsav) és azok halogénezett származékai, mint például a trifluor-ecetsav, triklór-e cetsav. A következő lépés a származékképző reagens, azaz az (I) általános képletű vegyület, beadagolása: az oldathoz, illetve szuszpenzióhoz (I) általános képletű vegytiletet — mely képletben R1 és R2 az előzőekben megadott - adunk 10-100, előnyösen 10-60-szoros mólfeleslegben. A reakcióelegyet - ellentétben az eddig ismert eljárásokkal - enyhe reakciókörülmények között, 20-100 °C hőmérsékleten, 10-60 percig, különösen térgátolt szubsztrátok esetében maximum 192.372 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 2
