191372. lajstromszámú szabadalom • Eljárás szigetelők sims vizsgálatára pásztázó ionsugaras berendezésben és berendezés az eljárás foganatosítására

1 191 372 2 részét fogja eltalálni a 10 segéd elektronforrásból szár­mazó 11 elektronsugár, amelyet a 2 minta felületével párhuzamos eredeti iránytól az azon levő töltés erőtere eltérít. A 16 detektor rendszer jele megfelelő átalakítás után. amelyet a 17 átalakító végez, a 18 összeköttetésen 5 keresztül a 7 kompenzáló elektronforrás áramát, annak 8 tápegysége révén szabályozza. A továbbiakban részletezzük a 16 detektor rendszer felépítését. A 16 detektor rendszer elvi felépítését a 2. ábra mutatja. A 16 detektor rendszer fő elemei a 19 10 szigetelő (pl. üveg, vagy kerámia) lemez, és az erre alkalmas módon (pl. vékonyréteg, vagy vastagréteg tech­nikával) felvitt 20 vezető sávok és 21 kontaktusok. A 20 vezető sávok egymással párhuzamosan elhelyez­kedő célszerűen általában páratlan számban kiképzett, 15 egymástól elszigetelt sávok, amelyek a felviteli technoló­gia és a vákuumtechnikai követelmények által megsza­bott alkalmas anyagból (pl. Mo, Ti, Ta) készülnek. A vezető sávok egyik végén helyezkednek el a 21 kon­taktusok, ahonnan kivezetés segítségével a vezető 20 sávokra rákerült töltések a jelátalakítóba kerülnek. A 16 detektor rendszer az 1 vákuumberendezésben úgy helyezkedik el, hogy a középső vezető sávot éri a 10 segéd elektronforrás 11 elektronsugara, ha a 2 minta nincs feltöltve. 25 Néhány konkrét számszerű példaadat. Ha a pásztázott mintafelület 2X2 mm2 akkor célszerű a segéd elektron­forrást és a detektort a mintától 10-10 cm távolságra elhelyezni. Ez esetben a detektor rendszer vezető sávjai­­nak hossza 4 mm. 1.10-4 A/cm2 púiner ionáram sűrű- 30 ség esetén, ha a primer ionsugár átmérője 20 pm, és a pásztázási sebesség 20 cm/s, akkor az egy ponton tartóz­kodás ideje kb. 10~4s, s így a bevitt töltés kb. 10~,3C. Ennek figyelembevételével, ha a 100 V feszültséggel mű­ködő segéd elektronforrás sugara a minta felett 1 mm 35 távolságban halad el, akkor az eltérülés mértéke a detek­tornál kb. 0,2 mm lesz. Ennek megfelelően célszerű kb. 20—40 pm csíkszélességgel pl. 5 — 15 csíkból álló detek­tor-rendszert készíteni, ami igen finom szabályozást tesz lehetővé. A szabályozás a kompenzációs elektronforrás 40 rácsfeszültségén keresztül befolyásolja a kompenzáló elektronáramot. Szabadalmi igénypontok 45 1. Eljárás szigetelő anyagok pásztázó ionsugarat alkal­mazó szekunder ion tömegspektrométerben történő vizsgálatára, ahol a mintát (2) befogadó vákuumbe­rendezést (1) ultravákuum nyomástartományig evakuál­juk, nemesgáz primer ionsugárral (12), amelynek energiá­ja 6 keV alatti, a minta (2) felületét bombázzuk, a min­tából emittáit szekunder ionokat tömeg szerint analizál­juk, azzal jellemezve, hogy a primer ionsugárral (12) azonos átmérőjű kompenzáló elektronsugarat (13) az ionnyaláb által bombázott területre irányítjuk, folya­matosan mérjük a beeséi pont potenciálját, növekvő potenciál esetén növeljük az elektronáramot és viszont és így stabilizáljuk a beesési pont potenciálját. 2. Berendezés az 1. igénypont szerinti eljárás fogana­tosítására, amely mintából (2), ionforrásból (3), tömeg­­spektrométerből (5), az előbbieket magában foglaló vákuumberendezésből (1), valamint ionforrás tápegység­ből (4), tömegspektrométer táp és detektáló rendszerből (6) áll, azzal jellemezve, hogy tartalmaz egy kompenzáló elektronforrást (7), amely a vákuumberendezésben (1) van elhelyezve, az elektronforrás tápegysége (8) az ionforrás tápegységgel (4) szinkronizálva van fémes összeköttetések (9) segítségével. 3. A 2. igénypont szerinti berendezés, azzal jelle­mezve, hogy tartalmaz egy segéd elektronforrást (10), amely a vákuumberendezésben (1) van elhelyezve oly­módon, hogy optikai tengelye párhuzamos a minta (2) felületével, a segéd elektronforrás tápegysége (14) az ionforrás tápegységgel (4) szinkronizálva van fémes összeköttetés (15) segítségével. 4. A 2. igénypont szerinti berendezés, azzal jelle­mezve, hogy tartalmaz egy detektor rendszert (16), amely egy szigetelő lemezre (19) felvitt páratlan számú pá-huzamos sávból álló vezető sávrendszerből (20) és kontaktusokból (21) áll, és amely a vákuumrendszer­bei (1) van elhelyezve olymódon, hogy a vezető sáv­rendszer (20) sávjai a minta (2) felületével párhuzamosan helyezkednek el, a középső sáv a segéd elektronforrás (10) optikai tengelyének és a vezető sávrendszer (20) döféspontjában van, a kontaktusok (21) fémes össze­köttetés segítségével a jelátalakító elektrométer (17) bemenetével össze vannak kötve, a jelátalakító elektro­méter (17) kimenete a kompenzáló elektronforrás táp­egységének (8) vezérlő bemenetére van kötve vezeték segítségével. 2 db ábra 3

Next

/
Thumbnails
Contents