190413. lajstromszámú szabadalom • Eljárás CR-AU kettősréteg-alakzatok kialakítására maratással
1 190 413 2 alkalmazott védőréteg nedvesítőszerben való oldékonysága. A találmány szerinti eljáráshoz a maratóelegyet közvetlenül a felhasználás előtt kell összekeverni. A 0,01-0,7 mól/1 cianid törzsoldatot kálium, nátrium és/vagy ammonium sóból készítjük el előre. A ferricianid oldat is tárolható, ezt 0,01-1 mól/1 koncentrációban, kálium, nátrium és/vagy ammonium sóból készítjük. A marató elegy 8-nál nagyobb pH értékének beállítására nátrium-, káliumés/vagy ammónium-hidroxid előre elkészített vizes oldatát alkalmazzuk. A nedvesítőszert, pl. i-propilalkoholt hígított formában, vagy töményen közvetlen beméréssel adagoljuk. Mivel az elkészitett és szobahőmérsékleten tárolt maratószer marási sebessége felére csökken kb. 24 óra alatt, azt közvetlenül az összekeverés után célszerű felhasználni. A maratást végezhetjük 40 °C és 90 °C közötti hőfoktartományban. A 70 °C feletti hőmérsékletet célszerű az 1 pm-nél vastagabb Cr-Au kettősrétegek eltávolítására alkalmazni. A találmány szerinti eljárást a továbbiakban példák alapján ismertetjük. Az 1. és 2. példához rajzot is mellékelünk. 1. példa GaAs szeleten 1 pm vastag Si02 réteget alakítottunk ki, ebben 4-20 pm átmérőjű lyukakat képeztünk pozitív fotoreziszt lakk és Si02-maró alkalmazásával. A lakk eltávolítása után a maradék Si02 rétegre és a szabadon maradt GaAs felületre 100 nm vastagságú Cr és 400 nm vastagságú Au réteget párologtattunk. Újabb fotoreziszt technika alkalmazásával a Si02 rétegben lévő lyukak fölé Kodak 747 jelű negativ lakkból egy védőréteget alakítottunk ki. A védölakkal nem fedett Cr-Au kettősréteget a találmány szerinti maratási eljárással 50°C-on távolítottuk el olyan eleggyel, amely kálium-ferri-cianidot 0,25 mól/1, kálium-cianidot 0,2 mól/1, nátrium-hidroxidot 1 mól/1 és i-propilalkoholt 0,4 mól/1 koncentrációban tartalmazza. Ilyen módon 4 és 20 pm átmérőjű Schottky dióda sorozatokat készítettünk. A kialakított struktúrák vizsgálata során megállapítottuk, hogy a maratási eljárásunk rendkívül jó felbontást, Cr-Au rétegmaradványoktól mentes térközöket, a kettősréteg lépcsőmentes éles kontúrját eredményezte. 2. példa Si szeleten 100 nm vastag termikus Si02 réteget növesztettünk, amelyre 100 nm vastagságú Cr és 400 nm vastagságú Au réteget párologtattunk. Kodak 747 jelű negatív lakkal kialakítottunk a fém rétegek felületén egy mérőábra struktúrát. A szabadon maradt felületen a Cr-Au kettősréteget a 1 találmány szerinti eljárással távolítottuk el, ahol a maratószerben az ammónium-ferri-cianid koncentrációja 0,45 mól/1, nátrium-cianidé 0,05 mól/1 a nátrium-hidroxidé 0,8 mól/1, az etil-alkoholé pedig 5 0,5 mól/1 volt. A maratóelegyet felhasználás előtt kevertük öszsze és 70 °C-on alkalmaztuk. Ezzel a maratási eljárással 0,6-0,8 pm széles és ebben az esetben 4 pm hosszú csíkok is kialakíthatók, ahol a csíkok közöt- 10 ti távolság 0,8-1 pm. Ilyen módon a találmány szerinti maratási eljárást alkalmazni lehet LSI és VLSI technológiákban is. 15 3. példa Ge egykristályon 500 nm vastagságú Si02 réteget alakítottunk ki, ebben 4-20 pm átmérőjű lyukakat marattuk pozitív fotoreziszt lakk és Si02-maratóol- 20 dat segítségével. 150nm vastagságú Cr és 350 nm vastagságú Au réteget párologtattunk a maradék Si02 rétegre és a szabaddá vált Ge felületére. Újabb fotoreziszt technika alkalmazásával a Si02 rétegben lévő lyukak fölé negatív lakkból védőréteget 25 alakítottunk ki. A lakkal nem védett Cr-Au kettősréteget a találmány szerinti maratási eljárással 40 °C-on távolítottuk el olyan maratóeleggyel, amely nátrium-ferri-cianidot 0,9 mól/1, ammónium-cianidot 0,7 mól/1 kálium-hidroxidot 1 mól/1 és 30 propil-alkoholt 0,4 mól/1 koncentrációban tartalmazta. így 4 és 20 pm közötti átmérőjű Schottky dióda sorozatokat állítottunk elő, ahol a diódák között Cr-Au mentes térközöket és a kettősréteg lépcsőmentes, éles kontúrú alakzatait kaptuk. '35 Szabadalmi igénypontok 1. Eljárás Cr-Au kettősréteg-alakzatok kialakí- 40 tására maratással, amelynek során hordozón lévő Cr-Au kettősrétegre védőréteget viszünk fel, majd azt részlegesen eltávolítjuk, és ezután maratunk, : azzal jellemezve, hogy a szabaddá vált kettősréteget a hordozóról egyetlen oldási művelettel 40-90 °C 45 hőmérsékleten olyan, 8-nál nagyobb pH-jú oldattal távolítjuk el, amely nedvesítőszerként 0,1-1 mól/1 1-4 szénatomos alkoholt és maratószerként 0,01-1 mól/1 kálium-, nátrium- és/vagy ammónium-ferricianidot valamint 0,01-0,7 mól/1 kálium-, nátrium- 50 és/vagy ammónium-cianidot tartalmaz. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy nedvesítőszerként i-propil-alkoholt vagy propil-alkoholt vagy etil-alkoholt vagy ezek elegyét alkalmazzuk. 55 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy az oldat lúgosságának biztosítására kálium-, nátrium- és/vagy ammónium-hidroxidot alkalmazunk. 1 oldal rajz 88-0780 — Dabasi Nyomda, Budapest — Dabas Felelős vezető: Bálint Csaba igazgató Kiadja az Országos Találmányi Hivatal A kiadásért felel: Himer Zoltán osztályvezető Szedte a Nyomdaipari Fényszedő Üzem (878142/09) 3
