188844. lajstromszámú szabadalom • Különbségi holografikus interferometriai eljárás alakváltozások, alakok és törésmutatóeloszlás-változások összehasonlító mérésére
1 188 844 2 kozó adatokat, amelyekből optikailag kivonódnak a vizsgálandó tárgy alakváltozását jellemző adatok). A különbségi interferogram a holografikus interferometriából jól ismert kiértékelési eljárások bár- 5 melyikével mennyiségileg is kiértékelhető. Az eljárás másik változatában az etalontárgy hullámfrontjait közös referencianyalábbal rögzítjük ugyanazon a hologramon, és a vizsgálandó tárgyat terhelés előtt és után is a közös referencia-10 nyaláb konjugáltjával rekonstruált konjugálí etalontárgy-hullámfrontokkal egyidejűleg világítjuk meg. Ha az etalontárgy hullámfrontjai között az eltérés nagy, az ezt tükröző csíkrendszer a különbségi inlerferogramon láthatatlanul sűrű lesz és an-15 nak láthatóságát csak kis mértékben csökkenti. Az eljárás harmadik változatában az etalontárgy hullámfrontjait szintén közös referencianyalábbal rögzítjük, de megvilágításra külön-külön használjuk őket úgy, hogy az etalontárgy és a hologramle- 20 mez közé fényosztót helyezünk. Az egyik esetben (terhelés előtt) az osztón átmenő fényutat használjuk, a másik esetben (terhelés után) az osztóról reflektálódó hullámfrontot tükörrel tereljük a hologramlemezre. Ugyanazt a hullámfrontot felvételkor és rekonstrukciókor ugyanazon az úton vezetjük. 25 A találmány szerinti eljárással diffúz tárgyak alakja közötti különbséget az alakváltozás közötti különbségméréshez hasonló módon mérhetjük. Ekkor azonban a hullámfrontpárok nem a tárgyak különböző állapotaihoz, hanem a holografikus elrendezés két változatához tartoznak (kétfrekvenciás módszernél frekvenciaváltás, kéítörésmutatós 35 módszernél törésmutatóváltás valósul meg a felvételek között.) Fázistárgyak törésmutatóeloszlás-változásának összehasonlítási folyamata szintén megegyezik a diffúz tárgyak alakváltozási különbségének méré- 40 sével, azzal a természetes különbséggel, hogy a tárgyat itt átvilágítjuk. Mint a fentiekből látható a találmány szerinti eljárás alkalmas különböző mikroszerkezetű tárgyfelületek különböző mértékű alakváltozása közötti 45 különbség közvetlen mérésére, ami elsősorban terhelhetőségi korlátok megállapításakor, gyártmányok minőségellenőrzésekor használható. A találmányalkalmazásával közvetlenül megállapítható a különböző tárgyak (gyártmányok) alakjai közötti 50 eltérés. A hagyományos holografikus interferometriában a felületek tagoltsága miatt a tárgyak alakja az ipar egyes területein megkívánt érzékenység (< ! pm) miatt nem mérhető, összehasonlításuk a felületek különböző mikroszerkezete miatt egyéb- 55 ként sem valósítható meg. A fenti meggondolások érvényesek a fázistárgyak lörésmutalóváltozásainak összehasonlító mérési feladatában is. 60 Szabadalmi igénypontok I. Holografikus interferometriai eljárás nem átlátszó tárgyak alakváltozási, alaki és átlátszó tár- __ gyak törésmutatóeloszlás-váilozási különbségének mérésére, melynek során az összehasonlítási alapul szolgáló etalontárgyról és a vizsgálandó tárgyról holografikus interferogramokat készítünk s a vizsgálandó tárgy holografikus interferogramját minőségileg vagy számszerűen kiértékeljük^ azzal jellemezve, hogy először az etalontárgy (TÁI) hulíámfronljait rögzítjük holografikusán hologramlemezen (Hl) az etalontárgy (TÁ1) kél állapotában (ill. alakmérésnél az elrendezés két állapotában) egymás után, majd a hologramlemcz.röl (Hl) rekonstruáljuk az etalontárgy (TÁ1) konjugált hullámfrontjait, s a vizsgálandó tárgyat az etalontárgy (TÁ1) helyére téve, a vizsgálandó tárgyról úgy készítünk holografikus interferogramot egy másik hologramlemezre (H2), hogy az etalontárgy (TÁI) konjugált hullámfrontjait használjuk a vizsgálandó tárgy megvilágítására. 2. Az 1. igénypontban meghatározott eljárás, amelyre jellemző, hogy a vizsgálandó tárgyat mindkét esetben csak az etalontárgy (TÁI) megfelelő hullámfrontjának konjugáltjával világítjuk meg úgy, hogy az etalontárgy (TÁI) két állapotához (ill. alakmérésnél a holografikus elrendezés két változatához) tartozó hullámfrontokat egy hologramlemezen (Hl) rögzítjük egymástól különböző irányú két referencianyalábbal (RÍ és R2), és a konjugált tárgyhullámfrontokat külön-külön állítjuk elő a megfelelő konjugált referencianyalábok (RÍ* és R2*) használatával. 3. Az 1. vagy 2. igénypontban meghatározott eljárás, amelyre jellemző, hogy az etalontárgy hullámfrontjainak holografikus rögzítésekor mindkét esetben egyidejűleg még egy változatlan beállító nyaláb (B), előnyösen gömbhullám hullámfrontját is rögzítjük a konjugált referencianyalábok (RÍ* és R2*) beállításához. 4 Az 1. igénypontban meghatározott eljárás, amelyre jellemző, hogy a vizsgálandó tárgyat mindkét esetben az etalontárgy mindkét hullámfrontjának konjugáltjával egyidejűleg világítjuk meg úgy, hogy az etalontárgy két állapotához (ill. alakmérésnél a holografikus elrendezés két változatához) tartozó hullámfrontokat egy hologramon ugyanazzal a referencianyalábbal rögzítjük, és a konjugált tárgyhullámfrontokat egyidejűleg állítjuk elő a közös referencianyaláb konjugáltjának használatával. 5. Az 1. igénypontban meghatározott eljárás, amelyre jellemző, hogy a vizsgálandó tárgyat mindkét esetben csak az etalontárgy megfelelő hullámfronljának a konjugáltjával világítjuk meg úgy, hogy az etalontárgy két állapotához (ill. alakmcrésné! a holografikus elrendezés két változatához) tartozó hullámfrontokat egy hologramon ugyanazzal a referencianyalábbal rögzítjük, de a hullámfrontokat különböző utakon és irányból vezetjük a hologramlemezre, és a konjugált tárgyhullámfrontokat egyidejűleg előállító közös referencianyaláb konjugáltjának használatakor a megfelelő megvilágító hullámfront kiválasztását a hozzátartozó út nyitásával és a másik lezárásával biztosítjuk. 1 db ábra 3
