187663. lajstromszámú szabadalom • Eljárás sziliciumfelületek oxidálására

1

2

187 663 .

1373 K (= 1100°C) hőmérsékleten, célszerűen 90 percig folytatjuk, és az oxidnövesztést nedves oxigén + 2-3 % triklóretilén gázkeverékben, célszerűen 1073-1273 K (= 800-1000 °C) hőmérséklet tartományban végezzük.

4. A 2. igénypont szerinti eljárás azzal jellemezve,

hogy a termikus előkezelés megszakítása után az oxidnövesztést kémiai gőzfázisból történő lecsapatással, vagy katódporlasztással külső szilíciumdioxid forrás felhasználásával történő alacsony, cél- 5 szerűen 1173K (= 900 °C) alatti hőmérsékleten végezzük.

Ábra nélkül

Kiadja az Országos Találmányi Hivatal A kiadásért felel: Himer Zoltán osztályvezető Szedte a Nyomdaipari Fényszedö Üzem (877658/09) 88-0780 — Dabasi Nyomda, Budapest — Dabas Felelős vezető: Bálint Csaba igazgató

4