183272. lajstromszámú szabadalom • Eljárás szilícium-oxidot és titán-oxidot tartalmazó pórusos kristályos szintetikus anyag előállítására
1 183 272 2 Szabadalmi igénypontok 1. Eljárás szilikalit-típusú szerkezettel rendelkező, szilícium-oxid és titán-oxid alapú pórusos kristályos szintetikus anyag — melyben a titán szilíciumot helyet- 5 tesít és amely az x Ti02 • (1—x)Si02 képletnek felel meg, ahol x értéke 0,0005 és 0,04, előnyösen 0,01 és 0,025 közötti szám - előállítására, azzal jellemezve, hogy kiindulási anyagokként szilícium-oxid 10 és titán-oxid-forrást, előnyösen tetraalkil-ortoszilikátot vagy kolloid szilícium-dioxidot és tetraetil-ortoszilikátot, adott esetben alkálifém-oxidot, valamely nitrogén-tartalmú szerves bázist, előnyösen tetrapropil-ammóniumhidroxídot és vizet használunk, a következő mólarányok- 15 ban: Si02/Ti02 = 5-200, előnyösen 35—65, OH7Si02 = 0,1 —10, előnyösen 0,03—0,6, H20/Si02 = 20—200, előnyösen 60—100, Me/Si02 = 0,0-0,5, előnyösen nulla, RN7Si02 = 0,1—2,0, előnyösen 0,4—1,0, ahol Me alkálifémion, előnyösen nátrium- vagy káliumion, és RN1" a nitrogén-tartalmú szerves bázis kationja; a reakcióban résztvevő anyagok elegyét vízzel együtt hidrotermálisán kezeljük autoklávban 130 °C és 200 °C közötti hőmérsékleten, saját nyomáson 6—30 napon keresztül, a kapott kristályokat az anyalűgtól elkülönítjük, vízzel mossuk és szárítjuk, végül 1—72 óra hosszat levegőn 550 °C-on hevítjük. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy szilícium-oxid-forrásként tetraalkil-ortoszilikátot használunk. 3. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy szilícium-oxid-forrásként kolloid szilícium-dioxidot alkalmazzuk. 20 (5 db ábra) Megjelent a Műszaki Könyvkiadó gondozásában A kiadásért felel: Himer Zoltán osztályvezető Borsodi Nyomda — Miskolc 5
