181155. lajstromszámú szabadalom • Eljárás aluminiumötvözetből készült litográfiai lemezek előállítására
3 löi 1.13 negatívabb elemeket adnak az alumíniumhoz. Ismeretes, hogy magnézium hozzáadása alkalikus marásnál a gödröcskék egységesebb és sűrűbb eloszlását eredményezi a felületeken. Különösen magnézium és szilícium hozzáadása ismert építészeti termékek készítésénél. Ezek előállítása során a marás matt felületet szolgáltat, azonban a felület túlságosan durva litográfiái lapokhoz. A pontos mechanizmus nem teljesen ismert ebben az esetben sem, de úgy véljük, hogy a maró oldat előnyösen a magnéziumszilicid fémközötti részeket támadja meg és ezután kerül sor az alumínium marására az így képződött gödröcskékben. Alumínium/kalcium-ötvözetek már jónéhány éve ismertek, de ezek a legutóbbi időkig csak kis mértékben kerültek még felhasználásra, ekkor is csak olyan öntött termékek készítésére, ahol a jó hőállóság volt a követelmény. A legújabb időkben olyan alumínium/kalcium-ötvözetek kerültek alkalmazásra, ahol a kalciumhozzáadás az eutektikus pontnál vagy annak közelében volt. amelyek előre meghatározható nagyon jó rugalmassági tulajdonságokkal rendelkeznek. Kalciumnak alumíniumhoz való előzőekben felsorolt adagolása nem javította azonban az alkalikus marás jellemzőit. Azt találtuk azonban, hogy az alumínium és a kalcium bizonyos ötvözetei oly módon marathatok alkalikus oldatban, hogy használhatók litográfiái lemezekként. A találmány tárgya eljárás litográfiái lemezek készítésére, amely abban áll, hogy valamely 0,1-4,5% Ca-t. a fennmaradó részben pedig normál szennyezőket magában foglaló alumíniumot tartalmazó ötvözetből készült lemez legalább egyik oldalát alkalikusan maratjuk mindaddig, ameddig egy sűrű, lényegében egyenletes eloszlású 0,2 pm és 3.0 pm közötti átlagos mélységű gödröcskékkel rendelkező felület nem képződik a maratott oldalon. Az ötvözet előnyösen legfeljebb 2.0% Mn-t foglal magában és legfeljebb 6.0% Zn-t is tartalmazhat. A Ca mennyisége előnyösen 0.2—2.5%. elsősorban pedig 0,3—1.2%. bár ha Mn van jelen az ötvözetben. akkor az előnyös Ca-tartomány 0,2-2.5%. az Mn-mennyiség pedig 0.05-2.0%. előnyösen 0.1 1.5%. Az ötvözet további elemeket is tartalmazhat. így 0.04-1,5% Fe-t. 0.03-5,0% Si-t. 0.005-1.0% Cu-t és 0,01-0.5% Cr-t, vagy ezek bármely kombinációját foglalhatja magában. Az alkalikus marató oldatot úgy készíthetjük, hogy alkálifémhidroxidokat vagy ammóniát oldunk vízben, előnyösen nátriumhidroxid-oldatot használunk. Az ilyen oldatok koncentrációja 20 g/liter és 270 g/liter, előnyösen 20 g/liter és 100 g/liter között van. a marási hőmérséklet pedig 15-100 °C. előnyösen 40—80 °C hőmérséklettartományban mozog. A maratáshoz használt oldatot úgy alkalmazhatjuk, hogy az ötvözetet bemerítjük az oldatba vagy az oldattal megpermetezzük az ötvözet felületét. A találmány szerinti eljárást és a litográfiái lemezeket a következőkben példák útján ismertetjük a csatolt rajzokra hivatkozva. E rajzok közül az la-7a. ábrák a gödröcskemélységet tüntetik fel adott mélységű gödröcskék számához viszonyítva különböző ötvözetekre, az lb—7b. ábrák a megfelelő felületprofilokat szemléltetik, míg a 8a., b. és c. ábrák további felületprofilokat mutatnak be. Valamely a kívánt kalcium-mennyiséget tartalmazó ötvözetet félfolyamatos vagy folyamatos öntéssel készítünk, majd melegen és hidegen a kívánt méretre hengereljük azt. Az így előállított lemezt oly módon szemcsésíthetjük litográfiái lemez készítése érdekében, hogy azt 5 percre nátriumhidroxid-oldatba merítjük (50-100 g/1 50-70 °C-on). Az oldat koncentrációját és hőmérsékletét természetesen a kívánt maratási sebesség függvényében választhatjuk meg. Amennyiben 200 g/1 töménységű NaOH-oldatot használunk 80 °C-on, már egy perc alatt megfelelő szemcsésített felületet készíthetünk, míg 50 °C-on 40 g/1 NaOH-oldat használata esetén 10 perces bemerítésre van szükség. Kívánt esetben alkalmazhatunk olyan nátriumhidroxid-oldatot is. amelyhez valamely oxidáló szert adunk (a maratás meggyorsítása érdekében). A nátriumhidroxid-oldat tartalmazhat még komplexképzőket, felületaktív anyagokat és habzásgátlókat is. A komplexképzők a polihidroxikarbonsavsókból kerülnek ki. ilyenek a nátriumglukonát. a szorbitol és az EDTA. A felületaktív anyagok a szulfonsavak, karbonsavak és foszforsavak fluor- vagy nátrium-alkilsói lehetnek, de kikerülhetnek a primer, szekunder és tercier hosszúláncú aminokból, kvaterner ammóniumsókból és az etilénoxid-vegyületekből is. Habzásgátló szerek a szerves szilíciumvegyületek. alkilglikoléterek vagy alkilszulfonátok lehetnek. Bemerítésnél kétoldalas lemezeket kapunk. A szemcsésített lemezeket ezután megtisztítjuk a piszoktól salétromsavba vagy foszforsavba történő bemerítéssel, majd mossuk és eloxáljuk. A készítendő lemeztípustól függően fényérzékeny polimer-bevonatot vihetünk rá a lemezre egy vonalban, ahogy ez a gyakorlatban az előérzékenyített lapok készítésénél szokásos, vagy a fényérzékeny bevonatot felviheti a lemezre a felhasználó is. Az ily módon készített litográfiái nyomólemezek a következő előnyöket mutatják. Az elektrokémiai szemcsésítéssel egyenértékű vagy jobb szemcsés felületeket készíthetünk ezzel a módszerrel, amelynek során a lemezeket egyszerűen csak bemerítjük viszonylag nem költséges vegyszerek oldatába vagy ezekkel bepermetezzük a lemezeket. Nincs szükség a szemcsésítési folyamat előtti tisztításra vagy zsírtalanításra. A lemezek mindkét oldala egyidejűleg szemcsésíthető külön költségek nélkül és így az eljárás nagyon alkalmas kétoldalas lemezek készítésére. A lemezek mechanikai tulajdonságai kedvezőbbek, mint a meglevő ötvözetekből készült lemezeké, mivel a találmány szerinti lemezek nagy szilárdsága egyesül a jó hajlékonysággal. így például Al-Ca-ötvözetekből készült lemezek szakítószilárdsága 170-230 N/mm3 tartományban van. nyúlása 6%, míg a hagyományos litográfiái lemezek szakítószilárdsága 150 N/mm2 és nyúlása 3%. A lemezek alakíthatóságát növelhetjük, ha Zn-t adunk az ötvözethez, de ez nem befolyásolja döntően a szilárdsági tulajdonságokat és a szemcsésítést. Az 1. táblázatban a tipikus jellemzőket adjuk meg. 4 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 2
