178286. lajstromszámú szabadalom • Eljárás összehasonlító (standard) minták előállítására spektroszkópiai vizsgálatokhoz

3 178286 4 Ezután a fóliát összesodorjuk („beigli”) présben összenyomjuk és így megfelelő szilárdságú próbatestet kapunk. A sodrás irányára merőleges irányból szik­­ráztatva a szennyező eloszlása a mintában homogén és koncentrációja megfelel az implantált értéknek. Az implantálás során felhasznált hordozóanyag — mátrix — természetesen nem tartalmazhatja az implant elemet az implantálás után elért koncentrációval össze­mérhető nagyságban. Kivétel ez alól a tömegspek­troszkópiai standard. Az utóbbi esetben ugyanis az implantálást célszerűen úgy választjuk meg, hogy az implant elem ritka gyakoriságú izotópját használjuk fel. (13c=l,107%, 18o=0,204%, 15N=0,366%, 58Fe= 15 0,33%). Ez esetben a hordozó anyaggal — a mátrix elemmel — szemben támasztott tisztasági követelmény lényegesen kisebb, a minta utólagos kezelése (szállítás, megmunkálás, atmoszféra hatása, oxidáció) révén az implant koncentráció a mérés hibáján belül változatlan 20 marad. Ennek különösen néhány nehezen mérhető elem (O, N, C) esetén van jelentősége. Szabadalmi igénypontok 1. Eljárás összehasonlító— standard — minták elő­állítására pl. spektroszkópiai vizsgálatokhoz, azzal jel-5 lemezve, hogy az összehasonlító mintát ismert kon­centrációjú szennyező elem implantálásával állítjuk elő úgy, hogy hordozó anyagként a választott szennyező elemet legfeljebb elhanyagolható mértékben tartal­mazó anyagot választunk és abból pl. 10—50 pm 10 vastagságú fóliát hengerlünk, majd a szennyező elemet a fólia vastagságát figyelembevéve a kívánt koncent­ráció eléréséig implantáljuk, ezután a fóliát összeso­dorjuk és préseléssel megfelelő szilárdságú próbatestté összenyomjuk. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy tömegspektroszkópiai vizsgálathoz, különösen néhány nehezen mérhető elem esetén — amikor is a hordozó anyaggal szemben támasztott tisztasági követelmény lényegesen kisebb — a szennyező elem implantálásához az implant elem ritka gyakoriságú izotópját (pl. 13c= 1,107%) hasz­náljuk fel. A kiadásért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 83.41.66-4 Alföldi Nyomda, Debrecen — Felelő« vezető: Benkő István igazgató

Next

/
Thumbnails
Contents