171161. lajstromszámú szabadalom • Eljárás információhordozók előállítására törlésmentes kiolvasású operatív- vagy fixtárakhoz
3 171161 4 A találmány szerinti eljárás ezen hiányosságokat és kényelmetlenségeket kiküszöböli, és lényegét az képezi, hogy kör keresztmetszetű elektronvezetőn közvetlenül réz közbensőréteget képezünk ki, amelyet szabályozott elektrokémiai vagy vegyi úton érdesitünk, majd kettőnél 5 több mágneses vas-nikkel-kobalt réteget képezünk ki, amikoris a rétegek az alábbi összetételű ötvözetek: vas 16—22%, nikkel 75—84%, kobalt 0,5—20%. Az ötvözeteket elektrolitikus úton olyan vizes oldatból választjuk ki, amely kobaltszulfátot, nikkelszulfátot, vasszulfátot, 10 vas(II)-kloridot, valamint megfelelően megválasztott százalékos összetételű egyéb szerves adalékokat tartalmaz. A vázolt műveletet több fokozatban végezzük el, és legalább három egyedi folyamatból áll, amelyeknél a 15 leválasztási áram maximális sűrűsége 30 A/dm2 . Az egyedi folyamatokat azon alapelv figyelembevételével hajtjuk végre, hogy az azonos kobalt-tartalmú rétegek vastagságának azonos értéken kell lenni. A mágneses réteg felvitele során a vezetőt kerületirányú (periferi- 20 kus) mágneses térbe helyezzük, és ennek következtében kerületirányú rétegirányítottságot kapunk. A tengelyirányú terek kompenzálása céljából a mágnesezési iránytól a tároló üzeméhez szükséges periferikus irányban eltérhetünk, és ezért a mágneses réteg felvite- 25 lének tartományában a vezető körül elhelyezett Helmholtz-tekercseket alkalmazunk. A huzalt ezt követően a felvitt mágneses réteggel együtt stabilizálás céljából 300— 360 °C hőmérséklet mellett legalább 2500 A/m periferikus mágneses térben semleges vagy redukáló gáz at- 30 moszférában kezeljük. A magnetostrikciós érzékenység csökkentése céljából a találmány szerinti eljárásnál az átfolyási sebességet 0,5—3 l/perc tartományon belül, vagy a hőmérséklet 20—60°Chőmérsékletváltozásnakmegfelelően változtat- 35 juk, amely megoldás a gyakorlati kivitelezhetőség szempontjából nagyon kényelmes, a felvitt rétegek vastagságváltozását pedig nem idézi elő. A találmányt a továbbiakban kiviteli példák kapcsán ismertetjük részletesebben, amelyek azonban a talál- 40 mány felhasználási lehetőségeit semmi esetre sem korlátozzák. I. példa Kör keresztmetszetű, 96 mikrométer átmérőjű berillium-bronz huzalt az alábbi összetételű oldatban megmossuk: Na2 HPO 4 X12H 2 O-20 g/l, Ná 2 CO 3 -20 g/l, NaOH — 20 g/l, nátrium-glukonát 15 g/l, majd a huzalt 10%-os kénsavoldatban aktiváljuk. A huzalt ezután tartályon vezetjük át, amely 250 g/l koncentrációban CuS04 X 5H20 vizes oldatát, 50 g/l koncentrációban kénsavat, valamint 5 g/l koncentrációban UBAC Nr. 1 kereskedelmi elnevezésű fényezőanyagot tartalmaz. Ebből az oldatból elektrokémiai úton 3 mikrométer együttes vastagságú rézréteget hozunk létre. A huzalt ezután olyan tartályon vezetjük keresztül, amely 250 g/l koncentrációban CuS04 X H20, valamint 50 g/l koncentrációban kénsav vizes oldatát tartalmazza. A réz felületét ebben az oldatban 5 A/dm2 áramsűrűség mellett anódosan marjuk. Az így előkészített felületen a soron következő műveletekkel mágneses rétegeket képezünk ki. Ebből a célból az előző lépésekben kapott alaphuzalt olyan edényen vezetjük keresztül, amely az alábbi összetételű oldatot tartalmazza: NiS07 X7H 2 0 250 g/l H3 BO ? 30 g/l Szaharin 1.5 g/l Nátrium-lauril-szul fát 0,5 g/l Aszkorbinsav 2,0 g/l Vas(II)-ammóniumszulfát-12-hidrát 6,0 g/l CoS04 X7H 2 0 0,7 g/l pH 2,5 Ebből az oldatból azonos összetételű nikkel-vas-kobalt ötvözet 3 azonos vastagságú (körülbelül 2400 Á) réteget képezünk ki. A kapott rétegek mágneses paramétereit a nikkel-vas-kobalt ötvözés kobalt-tartalmának változtatásával szabályozzuk. A kobalt-tartalomnak a rétegek kvázistatikus paramétereire gyakorolt hatását az alábbi táblázattal szemléltetjük: CoS04 ' A réteg összetétele Sorszám 7H2 0 mennyiség g/l Áramlás l/perc Hőmérséklet °C Ni Fe % CO Hc A/m Hk A/m Diszperzió í 0 1,5 52,5 81,0 19,0 0 260 350 3,4 2 0,96 1,5 51,0 78,5 18,5 3,0 460 620 3,6 3 1,44 1,5 50,4 76,5 18,0 5,5 550 750 3,3 4 1,92 1,5 49,8 74,6 17,4 8,0 800 1000 4,1 A táblázat második sorában feltüntetett jellemzőkkel 55 II. példa rendelkező rétegek kielégítik az operatív tárak információhordozóival szemben támasztott követelményeket, a harmadik sorban feltüntetett jellemzőjű rétegek pedig a fixtárak információhordozóival szemben támasztott követelményeket elégítik ki. 60 A rétegek magnetostrikciós érzékenységét hőmérsékletszabályozás felhasználásával nullértékre állítjuk be, és ez a mágneses rétegek vastagságának változtatása nélkül teszi lehetővé a nulla magnetostrikcióval rendelkező rétegkiképzést. 65 85 mikrométer átmérőjű ezüstbronz huzalt előzetes zsírtalanítás, felületi aktiválás és kezelés után az 1. példában ismertetett ellenőrzött vegyi behatásoknak vetünk alá, és az 1. példa szerinti oldat felhasználásával a felületen kiegyenlítő rézréteget hozunk létre. Az így előkészített alapra öt egymást követő edényben különböző öszszetételű és különböző vastagságú mágneses rétegeket képezünk ki. A különböző rétegösszetételeket az I. pél-2
