169247. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés síküveg gyártására

25 169247 26 resztül. Ilyen gyorsított mozgatás esetében is tetszetős mintázatot kapunk, természetesen ebben az esetben is a mintázat kialakítása függ az olvasztott test, illetve a rúdelektród alakjától. A találmány szerinti eljárás alkalmazható mintázott végtermékek, így példaképpen mintázott üveglapok előállítására, melyeket egymástól függetlenül kezelünk a találmány szerinti eljárással. Alkalmazható az eljárás üveg idomdarabok kezelésére is, így pl. szerkezeti üvegeknél is, melyek U-idomnak felelnek meg. Végül a találmány alkalmazható üvegáruk díszítésére is, melynek során az üvegárú felülete és az olvasztott test között relatív mozgást létesítünk. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás felületi minőségében változtatott üveg előállítására, amelynek során az üveget, elektromos vezetőképességét biztosító hőmérsékleten tartjuk, az üveg felületére a kívánt alakzattal kiképzett olvasztott testet érintkeztetünk mely elektromosan vezető anyagból áll és alkalmas az üveg felületi tulajdonságainak változtatására, az olvasztott test és az üveg között relatív mozgást létesítünk és előre meghatározott ionos behatoltatást biztosítunk az - olvasztott test és az üveg között, azzal jellemezve, hogy az olvasztott testet az üveg felületébe bevezetendő mintázatnak megfelelő alakra képezzük ki, az ionos behatoltatást meghatározott időközökben végezzük, mely időköz függvénye a már említett relatív mozgás sebességének és elegendő ahhoz, hogy a kívánt változtatott tulajdonságú üvegben a mintázatot létrehozza, mely mintázat az olvasztott test alakjából függ. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy ismétlődő mintázat esetén az előre meghatározott ionos behatoltatást meghatározott azonos időközök ismétlődő egymásutánjában végezzük és az egyes időközöket a •elatív mozgáshoz való megfelelő beállításával isnétlődő mintázatot alakítunk ki az üveg felükében. 3. A 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a mintázott síküveg folyamatos előállítására, az üvegszalagot olvasztott fémfürdő felületén mozgatjuk, az alakzatra kiképzett olvasztott fémtestet az üvegszalag felső felületével érintkeztetjük, és az olvasztott fémtest és a fürdő között elektromos kapcsolatot létesítünk az olvasztott testhez elektromos áramforrás csatlakoztatásával, melynél az időközöket az üvegszalagnak az olvasztott test alatt való áthaladási sebességének függvényében állítjuk be. 4. A 3. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az egyes időközöket szabályosan ismétlődő szakaszokra állítjuk be, mellyel biztosítjuk, hogy az olvasztott fémtest alatt mindenegyes időközben egy mintázat hatoljon be az üveg felületébe, mely mintázatot azután összefüggő mintázatként ismétlődve vezetünk be az üvegbe. 5. A 3. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az egyes időközöket szabályos szakaszokban úgy állítjuk be, hogy az üvegszalagnak az olvasztott fémtest alatt egy min-5 tázatnak megfelelő hosszúságú áthaladása során az üvegszalag felületébe egymást átfedő mintázati elemeket vezetünk be. 6. A 2. vagy 3. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az egyes 10 időközöket eltérő hosszúságú időközök előzik meg és követik és ezek során folyamatos mintázatot vezetünk az üvegszalag felületébe. 7. Az 1-6. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy 15 az olvasztott fémtestet egy rögzítőszerv alsó felületéhez tapadva helyezzük el, mely rögzítőszerv az üvegszalag mozgási irányára keresztirányban helyezkedik el és a rögzítőszerv alsó felületét a kívánt mintázatnak megfelelő alakra képezzük ki. 20 8. A 7. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy olvasztott testként réz/ólom-ötvözetet használunk, mely rézrúd alsó felületéhez csatlakozik. 9. A 8. igénypont szerinti eljárás foganatosítási 25 módja, azzal jellemezve, hogy olvasztott testként vasrúd megfelelően kiképzett alsó felületéhez tapadó indiumot használunk. 10. Az 1—9. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy 30 két olvasztott testet alkalmazunk az üvegszalag felületével érintkezve, melyek egymástól meghatározott távolságban vannak, e két olvasztott testből létesítjük az ionos behatoltatást az üvegszalag felületébe, meghatározott időközökben, melyek egy-35 másutánja úgy van beállítva, hogy az üvegszalag felületében a mintázatok előre meghatározott távolságokban jönnek létre. 11. A 10. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az időközöket 40 a relatív mozgás sebességének függvényében úgy állítjuk be, hogy az üvegszalag felületében a mozgás irányában előre meghatározott távolságban elhelyezkedő mintázatokat hozunk létre. 45 12. A 10. vagy 11. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a két alkalmazott olvasztott test egymástól eltérő anyagból áll. 13. A 10—12. igénypontok bármelyike szerinti 50 eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az olvasztott testeket egymástól eltérő alakzatra képezzük ki. 14. Berendezés az 1. igénypont szerinti eljárás megvalósítására, mely az üvegnek elektromosan ve-55 zetőképes hőmérsékleten való tartására alkalmas szerveket, alakzattal kiképzett, elektromosan vezető anyagból készült olvasztott testnek az üveggel való érintkeztetésére szolgáló rögzítőszerveket, a rögzítőszerveknek és az üvegnek egymáshoz viszonyított 60 mozgását szabályozó szerveket, továbbá a rögzítőszervhez csatlakozó elektromos áramforrást foglal magába, azzal jellemezve, hogy az elektromos áramforrás az elektromos áramnak meghatározott sorozatban a rögzítőszervhez való továbbítását sza-65 bályozó szervekkel rendelkezik. 13