166443. lajstromszámú szabadalom • Eljárás mágneses vékonyréteg - permalloy - elektrolitikus felvitelére, célszerűen 0,15 MM átmérőjű berillium-bronz alaphuzalra
MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADALMI LEÍRÁS SZOLGÁLATI TALÁLMÁNY Bejelentés napja: 1973. III. 08. Közzététel napja: 1974. X. 28. Megjelent: 1976. V. 31. (MA—2459) 166443 Nemzetközi osztályozás: C 23 b 5/34 h' Feltalálók: Balogh János vegyészmérnök, 60% Kosa Somogyi István vegyészmérnök, 40% Budapest Tulajdonos: Magyar Tudományos Akadémia Központi Fizikai Kutató Intézet, Budapest Eljárás mágneses vékonyréteg-permalloy-elektrolitikus felvitelére, célszerűen 0,15 mm átmérőjű berillium-bronz alaphuzalra 1 2 A találmány olyan mágnesezhető vékonyréteggel bevont huzal előállítására vonatkozik, amely a számítógépek memóriaegységét alkotó tárolócsíkok készítésére alkalmas. A 0,1 mm körüli huzalátmérő biztosítja, hogy a hagyományos tárolóelemeknél (farritgyűrű) jóval ki- 5 sebb helyigényű, gyorsabb működésű, könnyebben előállítható és áramkimaradás esetén is változatlan információt rögzítő állapotban maradó memóriaelemet nyerjünk. E memóriatípussal szemben támasztott legfontosabb követelmény, hogy az alaphuzal nem lehet mágne- 10 ses anyag. További meghatározó követelmények még: 1. a koercitív erő értéke 2—4 Oe; 2. az anizotrópia tér értéke 5,0 Oe alatt legyen; 15 3. NDRO (Non Destructive Read Out) tulajdonsággal rendelkezzék (vagyis a szomszédos digit-jelek zavaró hatása ellenére is tartsa meg meglevő információs állapotát); 4. zérus magnetostrikcióval rendelkezzék. 20 A feladat kritikus pontja: megfelelő rézalaprétegre adott mágnesezhetőségű zérus magnetostrikcióval rendelkező Ni—Fe réteg elektrolitikus felvitele. A jelenlegi technikában általában a következő lépésekből álló eljárást használják: 25 a) zsírtalanítás (valamint egyéb tisztítási eljárások); b) hőkezelés (550—650 °C); c) elektromos polírozás (anódos); d) egy vagy két részből álló rézalapréteg felvitele; e) permalloy, mágneses réteg elektronikus felvitele. 30 A legtöbb találmány olyan megoldást közöl elektrolitikus permalloy bevonat készítésére, amelyek közös sajátsága, hogy 50/1 (pl. U. S. Patent: 3.239.437, 3.027.309) és 50/5 (pl. U. S. Patent: 3.489.661) körüli Ni++/Fe ++ arányt alkalmaz a fürdőben és kritikus bevonatkészítési adathatárokat a gyártás körülményeire. Számos galvánfürdőt és egyéb eljárást szabadalmaztattak memóriahuzal előállítására, de ezek az eljárások ma sem tekinthetők teljesen egyértelmű és, megbízható folyamatoknak. A hiányosságok egyrészt a huzalmenti inhomogenitásból erednek, amely még a jelenlegi legjobb technológiák alkalmazása mellett sem enged 50— 60%-nál jobb kihozatali a mágneses vékonyréteg-huzal gyártásában. Másrészt a gyártás paramétereit kritikus értéken kell tartani ahhoz, hogy megfelelő minőségű huzalt kapjanak. Gondot okoz a folyamatos leválasztás során elhasználódó ionok megfelelő utánpótlása, valamint az alaphuzal legkisebb minőségváltozása is használhatatlan terméket eredményezhet. A fenti hiányosságok legfőbb okai a következők: a nikkel—vas fürdő nem megfelelő összetétele; az adalékanyagokkal bevihető szennyezések káros hatása, valamint a Ni++ /Fe ++ arány és a keverés mértéke közötti kritikus összhang megteremtése. Jelen találmány ezekre a nehézségekre ad megfelelő megoldást. A találmány a következő összetételű galvánfürdőt alkalmazza. \e>ejLárt. 1
