165962. lajstromszámú szabadalom • Eljárás működésképes integrált áramkörökből csoportos integrált áramkörök előállítására

11 165962 12 Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás integrált áramkörökből olyan csopor­tos integrált áramkör létrehozására, amelynél sík hordozó alapraszterrendszerén statisztikusán el- 5 szórtan működésképes integrált áramkörök helyez­kednek el, és a működésképes integrált áramkörök azonos csoportokban vannak elrendezve és az egyes csoportok legalább a csoportos integrált áramkör létrehozásához szükséges számú működésképes in- 10 tegrált áramkört tartalmaznak, amely eljárás során a hordozó és az integrált áramkörök felületére önmagukban ismert eljárások felhasználásával egymás fölé sorjában első szigetelőréteget, első fémréteget, második szigetelőréteget és második is fémrétegét képezünk ki, és az egyes rétegeket a csoportos integrálás megvalósításához szükséges alakzatokká formáljuk, azzal jellemezve, hogy az első szigetelőréteg (32) alakzatát fotolitografikus úton meghatározott rajzolatú egységeket tartalmazó 20 fotosablon maszk felhasználásával képezzük ki, amikoris a meghatározott rajzolatú egységeket tar­talmazó fotosablon alatt olyan fotosablont értünk, amelynek egy-egy különálló felületi egysége az integrált áramkörökből kialakított csoportok ki- 25 vezetési helyei egy-egy lehetséges kombinációjának a képét tartalmazza, majd a csoportos integráláshoz felhasznált működésképes integrált áramkörök csat­lakozómezői (9) felett az első szigetelőrétegen (32) nyílásokat (10) hozunk létre, ezt követően az első 30 fémrétegből (33) fotolitografikus úton első meg­határozott rajzolatú fotosablon felhasználásával olyan vezetőelrendezést képezünk ki, amelynél a csatlakozómezőkhöz (9) egy irányban, egymással párhuzamosan és egyenesen húzódó vezető- 35 szakaszok (12, 13, 14) vezetnek, amikoris a meghatározott rajzolatú fotosablonnal olyan foto­sablont jelöltünk, amelynek mintázata az alap­raszterrendszer integrált áramkörei egy lehetséges vezetőpályaelrendezésének a képét tartalmazza és 40 csatlakozómezők (9) felett a nyílásokon (10) át a csatlakozómezőket a vezetőpályákkal összekötjük, majd a második szigetelőrétegen (34) foto­litografikus úton második meghatározott rajzolatú egységeket tartalmazó fotosablon felhasználásával 5 nyílások (18, 19) helyét jelölőrajzolatot képezünk ki, és a második fémrétegből (35) fotolitografikus úton második meghatározott rajzolatú fotosablon felhasználásával másik vezetőpályaelrendezést hozunk létre, és a két fémréteg vezetőpályáinak egymással elektromosan összekötendő helyein, a vezetőpályák kereszteződés! pontjainál a második szigetelőrétegen (34) létrehozzuk a nyílásokat (18, 19) és ezeken keresztül a vezetőpályákat egymással összekötjük. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a szigetelő rétegek kialakításához felhasznált meghatározott rajzolatú egységeket tartalmazó fotosablonok egységeit kü­lönböző fotosablon maszkokból állítjuk össze, és az egyes maszkokat a maszkokon ábrázolt, az adott áramköri elrendezéshez szükséges kivezetés kombináció szerint programzott digitális számító­géppel válogatjuk ki. 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy egy további meghatározott rajzolatú egységeket tar­talmazó fotosablon maszk alkalmazásával az in­tegrált áramkör belső vezetőpályasíkján (31) az első szigetelőréteg (32) felvitele előtt a csoportos integráláshoz nem használt integrált áramkörökhöz (6, 7) tartozó összes vezetőpályát és a felhasznált integrált áramkörök (8) csatlakozómezőinek adott részeit kimarjuk. 4. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a csoportos integrált áramkör egyes integrált áramkörei csatlakozó­mezőinek egy-egy vezetőszakaszba (12, 13, 14) való továbbvezetésére az első fémréteg kialakí­tásánál olyan meghatározott rajzolatú fotosablon maszkot alkalmazunk, amelynél a vezetőszakaszok mindegyikét az alapraszterrendszer egyik koor­dinátájának az irányában egymással párhuzamosan és egyenesen vezetjük, és a vezetőszakaszok a második fémrétegnek (35) a második meg­határozott rajzolatú fotosablonnal kialakított ve­zetőszakaszaira merőlegesen húzódnak, a csoportos integrált áramkör előállításánál azonban kivezetés­ként csak azokat a vezetőszakaszokat hasznosítjuk, amelyek a csoportos integrált áramkörhöz kivá­lasztott működésképes integrált áramkörök (8) csatlakozómezőin (9) végződnek, amikoris az egy­másra merőleges vezetőszakaszok az első szigetelő­rétegen (32) kialakított nyílásokon (10) keresztül egymással már össze vannak kötve. 5. Az 1. vagy 2. igénypontok szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az első fémréteg (33) vezetőszakaszait az első meg­határozott rajzolatú fotosablonon kívül, harmadik olyan meghatározott rajzolatú egységeket tar­talmazó fotosablonnal állítjuk elő, amely csak azoknak a vezetőszakaszoknak a maszkjait (15, 16, 17) tartalmazza, amelyek a csoportos integráláshoz kiválasztott működésképes integrált áramkörök (8) csatlakozómezőihez (9) vezetnek. 6 rajz, 11 ábra A kiadásért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 766009 - Zrínyi Nyomda

Next

/
Thumbnails
Contents