164609. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés síküveg gyártására

15 164609 16 azt a látszatot kelti, mint a lapos ellipszisekből összetett képet alkotna, ami annak a ténynek tulajdonítható, hogy számos olyan kontúrvonal van, amely lapos ellipszisként vagy legalább lapos ellipszis nagyobb részeként fogható fel. Az üvegiparban jól ismertek azok a vizsgálati módszerek, amelyek segítségével megállapítható és fényképészeti úton rögzíthető a különböző tö­résmutatójú üvegrétegek húzott síküvegen belüli megoszlási képe, és ezeket a módszereket elter­jedten alkalmazzák a különböző ismert eljárá­sokkal előállított, húzott síküveg-próbatestek vizs­gálatához. Ilyen vizsgálat segítségével az ismert eljárásokkal előállított síküvegekben olyan kontúr­vonalak rendszerét lehet kimutatni, amelyek egy vagy több helyen keresztezik egymást, és/vagy semmiféle elliptikus képet nem alkotnak. A találmány szerinti síküvegben azonban a kontúrvonal-rendszer képe nem az egyetlen lé­nyeges jellemző. További fontos tulajdonság, hogy az üvegtábla vastagságán belül az egymással szomszédos üvegrétegek közötti átmenetnél a törésmutató nem hirtelen, ugrásszerűen változik. A törésmutató változásai a tábla vastagságában annyira csekélyek, vagy fokozatosak, hogy az üvegtábla interferencia-mikrofraktométer segít­ségével történő vizsgálata során nem észlelhető törés az interferenciacsíkok folyamatosságában. Az interferencia-mikrorefraktométer olyan készülék, amelyben a vizsgálandó próbatesten fénysugár­nyalábot bocsátunk át, amely sugárnyaláb egyen­lőtlenül késleltetett részekre bomlik és ílymódon interferenciacsíkok képe látható. Ha a találmány szerinti síküvegből vett próbatestet vizsgálunk ilyen készülék segítségével, és a próbatestet úgy helyezzük el, hogy a fénysugár a próbatest egyik oldalélének felületén lépjen be és a vele pár­huzamos, szembenfekvő oldalél felületén lépjen ki, nem tapasztalhatók észrevehető hibák az inter­ferenciacsíkokban, bármilyen legyen is a tábla orientációja a fénysugár tengelye körül. Igen megfelelő típusú interferencia-mikrorefraktométer a Nomarski által kifejlesztett készülék. A Nor.iarski­féle interferencia-módszert például a „Techniques de l'Ingénieur" R 3422 fejezet, 1961. évf. 6,3—6,6 bekezdések (különösen a 6,52 bekezdés) ismertetik „Objectif interferential a prisme de Wollaston" cím alatt. Ezt a folyóiratot a „Techniques de l'Ingénieur" (Paris VI, 21, rue Cassette, Franciaország) adja ki. A Normarski-féle készülék résszerű fényforrásból, valamint prizmák és polarizáló szűrők kombinációjából áll, amelyek interferenciaképet hoznak létre párhuzamos vo­nalak vagy sávok formájában. Ha ezt a készüléket üvegtábla vizsgálatához használjuk, az üvegtáblát olyan síkban kell elhelyezni, amely nem pár­huzamos az interferencia-vonalakkal vagy sávokkal. Az üvegtáblát elhelyezhetjük például az inter­ferencia-vonalakhoz vagy sávokhoz képest 45°-os szögben elhelyezkedő síkban. A találmány szerinti üvegtábla vizsgálatakor nem tapasztalható észre­vehető törés az interferencia-vonalakban vagy sávokban, bármilyen legyen is a tábla orientá­ciója a fénysugár tengelye körül, úgyhogy az üvegtáblát a vizsgálat alatt forgatni lehet a tengely körül, mégsem fog megjelenni az inter­ferencia-vonalak vagy sávok észrevehető hibája a tábla 360°-os körülforditása alatt. A találmány szerinti síküveget az előbbiekben 5 ismertetett, találmány szerinti üveghúzási eljárással állíthatjuk elő. Ilyen eljárás segítségével meg­bízható tulajdonságokkal rendelkező, találmány szerinti síküveget lehet előállítani, különösen, ha a hőgátat közvetlenül a húzási zónától hátrafelé 10 alakítjuk ki. Feltételezhető, hogy a korábbiakban ismertetett hőgát, vagy két vagy több hőgát létrehozásának és fenntartásának egyik ered­ménye, hogy a kemencében lévő üvegolvadék tömegében a húzási zóna előtti tartományban 15 fellépő áramlási rendszer lényegében fennáll a kemencének abban a részében, amelyben az üvegáramok irányt változtatva a szalag elülső és hátsó oldalaiba beáramlanak. 20 A találmány szerinti síküveg egy előnyös ismérvek megfelelően a síküvegben lényegében nem észlelhetők hibavonalak (brush lines). Az ismert síküvegek többségének jellemzője, hogy legalább egyik felületükön a „brush 25 line" -ként ismert hibavonalak vannak jelen. Ezeket a hibákat interferometria segítségével figyelhetjük meg és regisztrálhatjuk, az ismert Fizeau csíkok felhasználásával, vagy az üvegfelület visszavert képét vizsgálva, amelyet úgy kapunk, hogy egy 30 fénysugarat erről a felületről egy, a fényt szóró ernyőre verünk vissza, amint ezt az alábbiakban részletesebben leírjuk. A találmány szerinti sík­üveg, amelynek jellemzője, hogy egyáltalán nem, vagy csak elhanyagolható mértékben tartalmaz 35 hibavonalakat, az előbbiekben elmondottaknak megfelelően megbízhatóan előállítható az előb­biekben leírt, találmány szerinti eljárással, ha a hőgátat a húzási zónától közvetlenül hátrafelé elhelyezkedő tartományban tartjuk fenn. Az ilyen 40 hőgát meggátolja a felszálló, és az üvegszalag hátulsó oldalát tápláló üvegáramnak a kádkemence hátsó végfalával való érintkezését, és feltehetőleg ez az a tény, amely teljesen vagy elsősorban megmagyarázza, hogy az ilymódon előállított 45 húzott síküveg lényegében nem tartalmaz hiba­vonalakat. Az alábbiakban a találmány különböző pél­dakénti foganatosítási módjait és kiviteli alakjait ismertetjük a csatolt vázlatos rajzok alapján, 50 amelyek különféle üveghuzó berendezések részeit szemléltetik. A rajzokon: az 1. ábra egy Pittsburg-típusú berendezés egy részét a 2. ábra szerinti I—I vonal mentén vett 55 függőleges keresztirányú metszetben mutatja, a 2. ábra az 1.ábrán feltüntetett berendezés­rész felülnézete, a 3. ábra egy Colburn-típusu berendezés egy részét függőleges hosszmetszetben mutatja, 60 a 4. ábra egy eltérő kialakítású Colburn-típusu berendezés egy részét az 5. ábra szerinti IV—IV vonal mentén vett függőleges hosszmetszetben mutatja, az 5. ábra a 4. ábrán feltüntetett berendezés-65 részt felülnézetben, eltörve tünteti fel, 8

Next

/
Thumbnails
Contents