164439. lajstromszámú szabadalom • Eljárás félvezető anyag polirozására alkalmas sziliciumdioxid alapú szuszpenzió előállítására
164439 ahol R1 , R 2 , R 3 és R 4 egymástól függetlenül 1—5 szénatomszámú alkilcsoportot jelent, hidrolizáltatunk, a reakcióterméket az oldatból 12—36 óra célszerűen 24 óra elteltével ismert 5 módon például Nutch-szűrőn vizes mosással és levegő átszívással elkülönítjük, majd a kapott finomeloszlású csapadékból fölhasználáskor pH 10—12 értékre beállított vizes szuszpenziót készítünk. 10 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja azzal jellemezve, hogy a reakcióelegyben a víztartalmat 35—85 mól%, a gyenge szervetlen bázis előnyösen ammóniumhidroxid koncentrációját 2—30 mól% és a vízzel elegyedő ls szerves oldószer célszerűen alifás, főszénláncban 1—6 szénatomot tartalmazó normál vagy elágazóláncú alkohol vagy azok keverékének 8 koncentrációját 3—45 mól% közé állítjuk be. 3. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja azzal jellemezve, hogy a vizes szuszpenzió pH 10—12 értékét erős lúggal vagy azok keverékével, célszerűen (II) általános képletű kvaterner ammóniumbázis OH— N —Rí —R2 —R3 —R4 (II) — ahol R1 , R 2 , R 3 , R 4 egymástól függetlenül 1—6 szénatomszámú alkil- vagy aralkilcsoportot jelent — vizes vagy alkoholos oldatával állítjuk be. A kiadásért felel a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 4 75.6130/4 — zrínyi Nyomda, Budapest. F. v.: Bolgár Imre vezérigazgató
