159833. lajstromszámú szabadalom • Eljárás nemesfém-redukáló mintázat előállítására
23 tartja a 101 hengert a 100 görgők tetején. Ez a feszültség forgatja is a 101 hengert, 'amikor a 11 szubsztrátum mozog és a henger és a szubsztrátum azonos sebességgel, 1:1 arányban mozog. Ez azt jelenti, hogy a 11 szubsztrátum bármely adott pontja, amely kezdetben érintkezik a 101 hengerrel, ugyanabban a helyzetben marad a hengerhez és a rajta levő maszkoló 103 mintázathoz képest mindaddig, amig a 11 szubsztrátum tovább nem mozog az 52 tartály felé. Az ultraibolya 48 és 49 források aktinikus sugárzást bocsátanak ki lényegileg az 1700— 2800 A tartományában. A források közül az egyik, a 48 forrás a 101 hengeren belül van elhelyezve. Amikor a 101 henger és a 11 szubsztrátum együtt mozog, a 48 forrás állandóan besugározza azt a fotopromotorral bevont szubsztrátum felületet, amely a hengerre fekszik fel, mégpedig azokon a részeken, amelyeket nem takar a maszkoló 103 mintázat. Ha negatív fotopromotort használunk, ennél többet nem kell tenni. A negatív maszk mintázat lehetővé teszi az aktinikus sugárzás számára, hogy áthaladjon a 101 kvarc henger kiválasztott részein, hogy a szubsztrátumnak maszk által nem takart részeit, amelyek a hengerrel érintkeznek, nemesfém redukálására képes állapotba hozza. A szubsztrátumnak azon felülete, amely nem érintkezik a hengerrel, később nem tudja redukálni a nemesfémet, minthogy az aktinikus sugárzás nem tud áthatolni a 11 szubsztrátumon. Ha pozitív fotopromotort használunk, két mód lehetséges. Az első szerint a fotopromotorral bevont szubsztrátum felületet, amely érintkezik a 101 hengerrel, éri a 48 forrásból jövő aktinikus sugárzás a pozitív 103 maszk mintázat következtében azokon a helyeken, amelyeken a fémmintázat nem kívánatos. Ha a 49 forrás nincs működtetve, a szubsztrátum ellenkező oldala, amely már alkalmas a nemesfém redukálására és amelyet annak következtében, hogy a szubsztrátum csillapítja ezt a sugárzást, nem ért a 48 forrásból eredő sugárzás, végső műveletként redukálja a nemesfémet. Ez a módszer a fémmintázattól elválasztott „alapsíkot" állít elő a szubsztrátumon. A második módszernél a 11 szubsztrátum másik oldalát besugározzuk a másik 49 aktinikus forrással, hogy a rajta levő teljes fotopromotort képtelenné tegyük nemesfém redukálásra. Ez a második 49 aktinikus forrás természetesen nem hat a szubsztrátum azon felületére, amely érintkezik a 101 hengerrel, ugyancsak annak következtében, hogy a 11 szubsztrátum csillapítja a sugárzást. Ezen leírás alapján nyilvánvaló, hogy más aktinikus exponáló eszközök is használhatók. Például második 104 henger és második csoport feszítő 105 görgő használható közvetlenül az első 101 henger és 100 görgők után, ezekhez hasonló módon. A második 104 henger tar-24 talmazhat egy második, az előbbitől különböző maszkoló mintázatot, amelyen keresztül a 11 szubsztrátum hátoldalát szelektíven világítjuk meg a 106 forrásból jövő 17 aktinikus 5 sugárzással, mint azt a 4a ábra mutatja. Számos más elrendezés lehetséges több oldalas áramköri mintázatok folyamatos előállítására. Ezen túlmenően a találmány szerinti eljárás 10 megvalósítható félig folyamatos készülékben is. Speciálisan, korábbi ismert lépések és ismétlési módszerek is felhasználhatók. Ebben az esetben (a rajzon nem ábrázolt) maszk sík kvarc réteg és ezen helyezkedik el a maszkoló 15 mintázat. A fotopromotorral ellátott szubsztrátuimot szelektíven megvilágítjuk a rétegen keresztül az aktinikus forrás sugárzásával; a forrást megfelelően közel helyezzük el a maszkhoz, hogy az aktinikus sugárzás atmoszférikus 20 csillapítását megakadályozzuk. Azt is kimutattuk, hogy vetítő rendszer is alkalmazható. A 4b ábrán aktinikus 109 forrás 110 sugárzása áthalad 111 maszkon, majd ezután 112 kvarc lencsén, amely a maszk képet és az aktinikus 25 sugárzást a fotopromotorral bevont 11 szubsztrátumon fókuszálja. A következőkben pozitív fotopromotorra mutatunk be példákat. 30 (1) Poliamidok szolgáltak 11 szubsztrátum céljára 72 és 74 fémmintázatok előállításánál, amelyeknek 0,5—1 P- nagyságrendű képélességük volt és szilárdan voltak kötve all szubsztrátumhoz. •^ Két fő poliamid típust használtunk, nevezetesen: (a) kereskedelmi poliamid filmeket, amilyeneket a KAPTON elnevezéssel árusítanak, és amelyeknek vastagsága 2,5 x 10-3 cm-től 12,7 x 10~3 cm-ig változik és (b) poliamid gyan-40 tákat, amilyeneket Pyr M. L. elnevezéssel árusítanak, és ezekkel különböző vegyes alapokat vontunk be. A gyantákat hőkezeltük 190,5 °C-tól 204,5 °C hőmérsékleten kb. 0,5 óra hoszszat, miután bevontuk őket az alapokon 2,5 x x 10~3 cm, vagy ennél nagyobb vastagsággal. Ez a melegítés a poliamid felületeket lényegileg hasonlókká tette a KAPTON-film felületéhez. Amikor poliamid filmeket alkalmaztunk 11 szubsztrátumként, ezeknek felületét bemerítettük 1 percre vagy hosszabb időre, de előnyösen 50 4—5 percre, 12 tisztítóba, amely NaOH-t tartalmazott. Az ilyen bemerítés a film egy kis részét eltávolította és biztosította, hogy a felület friss legyen. Ezután a filmet tiszta vizes 13 öblítőben fürdettük keveréssel, 1—4 percen 8 keresztül. A poliamid gyanták, amelyeket különböző alapokra vittünk fel és így alkották a 11 szubsztrátumot, a „kikezelés" után friss felü-60 letűek voltak. Ennek megfelelően, sem a 12 tisztítót, sem a 13 öblítőt nem kellett használni az ilyen kikezelt gyantáknál. Mindkét típusú poliamid szubsztrátum friss 65 jellege kifejezésre jut abban, hogy képesek 12
