159444. lajstromszámú szabadalom • Eljárás vékonyréteg-áramkör előállítására

3 159444 4 Az elektródák, vezetékpályák és érintkező­felületek anyaga igen sokszor alumínium, mint­hogy az alumíniumrétegek alárétegezés nélkül is jól tapadnak és az oxidhártya képződése folytán a konidenzatordk alapelektródája szá­mára alkalmas anyaghoz lehet jutni. Az elektródák, vezetékpályák és érintkező­felületek krómimal vagy króm-iötvözietekkel történő alárétegzésiének az a hátránya, hogy az adalékos rágőzölögtetés ill. a bonyolult maszlk­teahnlika nagy ráfordítást igényel. Az alumíni­um alkalmazásával ezeket a hátrányokat el lehet ugyan kerülni, ekkor azonban az érint­kezések előállításánál van szüksiég nagyabb rá­fordításra, mert az alumíniumon óntartalmú fürdőkben gyakorlatilag nem lehet érintkezőré­teget létrehozni (forrasszal bevonni). Vékanyréteg-Járamkörök előállításánál igen gyakran van szükség arria, hogy egy vagy több réteget, különösen az eHenáMásréteget, a rá­gőzölögtetés alatt ellenőrizzék, amikoris a ré­teg vastagságát a réteg villamos ellenállásának mérésével állapítják meg. Ehhez azonban nz szükséges, hogy a mérendő réteg felvitele előtt olyan érintkezőfelületeket hozzanak létre, ame­lyeke érintikezőszagek helyezhetők. Az említett érintkezőfelületek számára már alkalmaztak alumíniumból vagy aranyból álló, rágőzölögteített rétegeket. Ilyenkor a nehézsé­gek főként abból adódnak, hogy az érintkező­szegek ráhelyezésekor az érintíkezőfelületék el­roncsolódnak. Ennek elkerülésére az érintkező­felületeiket, melyeket monitorkontaktusoknak is neveznek, gyakran egyéb módszerekkel, pl. ezüst beégetésével vagy elektrolemezieléssel, a vékonyréteges áraimkör tulajdonképpeni elő­állítása előtt az alapon hozzák létre. Kondenzátort tartalmazó áramkörök előállí­lítása a monitorkontaktusok, vezetékpályák, érintkezőfelületek és ellenállások mellett gyak­ran további három rágőzölögtető műveletet is igényel. A kondenzátorok elektródái számára olyan anyagok és rétegek szükségesek, amelyek az elektródák aránylag csekély felületi ellen­állását eredményezik és a kondenzátorok javí­tását lehetővé teszik. Javítás alatt itt azt ért­jük, hogy a kondenzátor rövidzárlata esetén a rövidzárlatot a rövidzárási hely körül levő elektródaréteg helyi elpárologtatásával szün­tetik meg. A vékonyréteg-páramkor előállításához a vá­kuumban végzett műveleteken kívül, ezek kö­zött vagy utánuk, olyan műveletek is szüksé­.gesek, amelyeket nem vákuumban végzünk. Az ilyen műveletsorozatot inkompatibilisnek szok­ták nevezni. Ilyen vákuumon kívüli művelet pl. az ellenállásrétegek temperálása oxigéntar­talmú légkörben. Ennek az eljárási módnak az a hátránya, hogy a készítendő vékonyré­teg-áraimköröket a rágőzölögltető [műveletek között a szabad légkörbe kell áthelyezni. A találmány szerinti eljárás célja a rétegek tapadásánál, a ikontaktusképzésnél fellépő ne­hézségek elhárítása, egyszerűen forrasztható érintkezők és vezetékpályák alárétegzés nélküli 5 létrehozása és a szükséges műveletek számának csökkentése. A találmány alapja az a feladat, hogy vé­konyréteg-áraimkörök előállításához egyszerűbb, 10 kompaitibilis eljárásit valósítsunk meg a lehető legkevesebb művelettel, aholis a vezetékpályák, érintíkezőfelületék, monitor-lemezkék, ellenállás­mérő csíkok és aránylag kis felületi ellenál­lású elektródák számára csupán egyetlen anyag-J5 ra van szükség, mely a szokásos alapokon alá­rétegzés nélkül jól tapad és könnyen forraszt­ható anélkül, hogy az ellenállásné|tegeket ned­vesség érné, és olyan oxidhártya képződése mellett, amely a kondenzátorok előállítását 20 megkönnyíti. Lehetővé kell tenni továbbá a vezetékpályák stb. említett rétegeinek nedve­sítését pl. erősen óntartalmú fürdőkben, egy­szerű bemártással (merevítő forrasztás) vagy az érintkezőfelületek létesítését más forrasztó-25 eljárás útján. A találmány szerint evégből a vezetékpályá­kat, az érintkezőifelületeket, az alapelektródá­kB|t és a fedőelektródákat, valamint adott eset-30 ben az ellenáilásmérő csíkok érintkezőfelüle­teit egyaránt 40—50% vasból és 50—55% nik­kelből állítjuk elő és önmagában ismert mó­don egy vagy több rágőzölögtető műveletben, 270—300°-on vákuumban visszük fel az alapra. 35 Miután az ellenállások képződéséhez felvit­tük a nikkel-króm ötvözetből álló réteget é.s felvittünk egy vagy több Vas-nikkel ötvözetből álló réteget, vagy fordítva, vákuumban vagy valamely meghatározott atmoszférában a tar-40 tótestet előnyösen oxigéntartalmú légkörben 150—400°-ira hevítjük. Az oxigéntartalmú lég­körben végzett hevítés következtében keletke­zett oxigénréteget célszerűen valamely alkal­mas fluiidizálósizer segítségével oldjuk le a vas-45 nikkel ötvözetről. Célszerű továbbá, ha az előnyösen erősen óntartalmú forrasszal bevonandó vas-nikkel rétegeket •temperálóművelet beiktatása mellett legalább 120 nm vastagságra, temperálás hiá­nyában pedig legalább 90—'120 nm vastagra készítjük. A monitorlemezkék érdntkezőfelületeinek elő­állításához előnyösen ugyancsak vas-nikkel -c ötvözeteiket használunk. Ajánlatos továbbá a kondenzátorok fedő­eléktródáira forrasszal nem nedvesíthető réte­géket felvinni. A találmány egy további változatánál kon­denzátort tartalmazó vékonyréteg-áramkör előállítására az ellenállásrétegeit előnyösen nik­kel-króm ötvözetből állítjuk elő, miután fel­vittük a vezetékpaiyák, érintkezőifelületek, fi5 alapelektródák, dielektrikumok és fedőelektró-2

Next

/
Thumbnails
Contents