158794. lajstromszámú szabadalom • Eljárás elektróda bevonat és elektróda előállítására

158794 19 20 alap legalább egy részére együttes kicsapással a keverék több mint 50 mól%Hát alkotó filmképző fémoxidot és a keverék 50 mól%-nál kisebb részét képező nem filmképző vezető anyagot tartalmazó keveréket viszünk fel, vagy b) oldatot készítünk, amelyből hőkezeléssel legalább egy filmképző fém oxidja és legalább egy nem filmképző vezető fém vagy oxid választiható le, és ebből az oldatból hőkezeléssel az elektrolitnak és annak elektrolíziséből származó termékeknek legalább a külső oldalán ellenálló vezető anyagból álló alap legalább egy részére a filmképző fém oxidjából 50 mól%-nál nagyobb, a nem filmképző vezető anyagból 50 mól%-nál kisebb mennyiséget tartalmazó keveréket viszünk fel, vagy c) a vákuumos katódporlasztó berendezésbe katódként az elektrolitnak és annak elektrolíziséből származó termékeknek ellenálló vezető anyagból álló alapot, anódként . legalább egy filmképző fémet és legalább egy nem-filmképző vezető anyagot helyezünk, és a katód felületének legalább egy részére 50 mól%-nál nagyobb részben a filmképző fém oxidjából, 50 mól%-nál kisebb részben nem filmképző vezető anyagból álló keverékkristályos bevonatot porlasztunk, vagy d) oldatot készítünk, melyből elektrolízissel 50 mól%r-nál nagyobb mennyiségben legalább egy filmképző fém oxidja és 50 mól%-nál kisebb mennyiségben legalább egy nem filmképző vezető fém vagy oxid választható le, az oldatba egy az elektrolitnak és annak elektrolíziséből származó termékeknek ellenálló vezető anyagból álló alapot helyezünk, és az oldaton váltóáramot vezetünk át, vagy e) oldatot készítünk, amelyből elektrolízissel 50 mól%-nál nagyobb mennyiségben legalább egy filmképző fém oxidja és 50 mól%-nál kisebb mennyiségben legalább egy nem filmképző vezető fém vagy oxid választható le, az oldatba egy az elektrolitnak és annak elektrolíziséből származó termékeknek ellenálló vezető anyagból álló alapot helyezünk, és az oldaton egyenáramot vezetünk át, Vagy f) oldatot készítünk, amelyből kicsapással legalább egy filmképző fém oxidja és legalább egy nem filmképző vezető fém vagy oxid választható le, együttes kicsapással szuszpenziót készítünk, amelyben a szuszpendált anyag 50 mól%-nál nagyobb része a filmkíépző fémoxidja, 50 mól%-nál kisebb része nem filmképző vezető fém vagy oxid, a szuszpenzióba bemerítjük egy az elektrolitnak és annak elektrolíziséből származó termiékeknek ellenálló vezető anyagból készült alap legalább egy részét, és a szuszpendált anyagot elektroforézissel felvisszük az alapra, vagy g) az előzőekben meghatározott módon együttes kicsapással keveréket készítünk, amely 50 mól%-nál nagyobb mennyiségben egy filmképző fém oxidjából, (50 móF/o-nál kisebb mennyiségben egy nem filmképző vezető anyagból áll, és a keveréket sajtolással egy az elektrolitnak vagy annak elektrolíziséből származó termékeknek ellenálló vezető anyagból készült alapra visszük fel, vagy h) az előzőekben meghatározott módon együttes kicsapással keveréket készítünk, amely 50 mól%-nál nagyabb mennyiségben egy filmképző fém oxidjából, 50 mól%-ni

ál kisebb mennyiségiben egy nem filmképző vezető anyagból áll, és a keveréket kalapálással egy az elektrolitnak vagy annak elektrolíziséből származó termékeknek ellenálló vezető anyagból készült alapra visszük fel, vagy i) az előzőekben meghatározott módon együttes kicsapással keveréket készítünk, amely 50 mól%-nál nagyobb mennyiségben egy filmképző fém oxidjából, 50 mól%-nál kisebb mennyiségben egy nem filmképző vezető anyagból áll, és a keveréket plazmaégő segítségével egy az elektrolitnak vagy annak elektrolíziséből származó termékeknek ellenálló vezető anyagból készült alapra visszük fel. 2. Az 1. igénypont szerinti a) eljárásváltozat foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az elektródot felületének tisztítása céljából előkezeljük. 3. A 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az előkezelés során az elektród felületét zsírtalanítjuk. 4. A 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal' jellemezve, hogy az előkezelés során az elektród felületét feldurvítjuk. 5. A 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az előkezelés során ultrahangos vibráltatással történő tisztítást végzünk. 6. Az 1. igénypont szerinti b) eljárásváltozat foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a hevítést 200—4200 C°-on hajtjuk végre. 7. Az 1. igénypont szerinti b) eljárásváltozat foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az oldószerként szerves oldószert, a filmképző fémek oldható vegyületeiként szerves titanátokat, szerves tantálatokat, szerves niobátokat vagy szerves cirkonátokat használunk. 8. A 7. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy szerves titanátként monomer butiltitanátot, polimer butiltitanátot vagy tetra-^2-Jetil-ihexiltitanátot használunk. 9. A 7. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy szerves tantálaiként pentaetiltantalátot használunk. 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 10