158433. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés edzett üvegtárgyak előállítására ömlesztett vagy képlékeny üvegből
158433 7 8 fala, vagy pedig üvegszailag is lehet. A fentebb ismertetett tulajdonságokkal rendelkező szilárd üvegtárgy maga is új terméket alkot és a találmány arra is kiterjed. A belső hevítő kezelést megvalósíthatjuk úgy, hogy az üvegtárgyat olyan hősugárzásnak teszszük ki, amely' az üveg belső rétegeibe hatoló nagymennyiségű sugarat tartalmaz, mialatt az üvegtárgy az üveg kilágyítási hőfoka alatt levő hőmérsékleten valamely felhevített gáznemű közeggel érintkezik. Hősugár-Jforrásként villamos fűtőellenáJlásofcat vagy gáz elégetésével izzásba hozott felületeket használhatunk. A hősugarak színképi összetételét összhangba kell hozni a kezelés alatt álló üvegtárgy összetétellével, miáltal a belső üvegrétegek a sugárzás megfelelő részét elnyelik. Sugárzó fűtőelemek gyorsan felhevítik a mésznátron , üvegből húzott lap beilső rétegeit, ha az említett elemek hőmérsékletié 1200° vagy még magasabb. A hősugárzó forrást vagy forrásokat olyan kezelőkamrában helyezhetjük el, amelyen át gáznemű közeget vezetünk az üvegtárgy felületeinek alkalmas hőfokon tartása céljából. A belső hőkezelést természetesen nemcsák a hőmérsékleti viszonyok befolyásolják, hanem az az idő is, ameddig az üveg a hősugárzásnak ki van téve. Amennyiben az elsősorban szem előtt tartott fajtájú közönséges mésznátron üveglapot kezeljük, az üveg belső. rétegeinek hőmérsékletét 24 óra időtartamra 560°-ig, vagy pedig 30 percet meg nem haladó időtartamra 750°-ig növelhetjük. Az üveghez tapadó közeghártyát az említett belső hőkezelés előtt célszerűen eltávolítjuk. A találmány szeriint előállított tárgyat magában véve ismert, alacsony hőmérsékletű, adalékos kéimiiai edzésnek vethetjük alá újrahevítéssel, melynél az üvegben levő ionokat nagyobb ionokkal helyettesítünk az üveg kilágyítási hőfoka alatti hőmérsékleten. Ilyen kiegészítő kémiai edzést végezhetünk függetlenül attól, hogy az elsődleges alakító műveletben, a tárgy hűtése alatt történt-e második ioncsere, és hogy a tárgyat a fent ismerteti belső hevítő kezelésnek alávetettük-e. Ilyen kiegészítő kémiai edzés után azt találtuk, hogy a kezelőközegből az üvegbe lépő nagy ionok meglepő módon messzire behatolnak az üvegbe, ami azt jelenti, hogy a kiegészítő kezelés következményeképpen tovább növekedő felületi nyomófeszültségek ellenére a tárgyban mégsem mutatkozik hátrányos meredek nyomófeszültségi gradiens. Jóllehet elsősorban közönséges mésznátron üvegeket tárgyaltunk mint kiindulási anyagokat, módunkban áll bórsziilikát vagy foszforszilikát üvegéket vagy bármely más üvegszerű kiindulási anyagokat is felhasználni, különösen olyan üvegszerű anyagokat, amelyek az alábbi elemek egy vagy több oxidját vagy egyéb vegyületét tartalmazzák: Si, B és P. Ilyen vegyületek tehát: Si02 , B2 0:-j, P2O5. Használhatunk a következő csoportba tartozó egy vagy több vegyületet tartalmazó üvegeket is: AS2O5, GeOa, GeS-2, Ti02, vagy egyéb üvegeket, így kalkogenid üvegeket. A találmány kiterjed az ismertetett eljárást megvalósító berendezésre is, melynek fő részei: az ömlesztett Vagy képlékeny üveget elsődleges alakító műveletnek alávető szervek; e szervekben az üveggel valamely ionizált közeget az üveg végleges kialakítása előtt érintkezésbe hozó szervek. A találmány elsősorban olyan berendezésre terjed ki, melyben az említett alakítást üveghúzó gép végzi és az a szerv, amely az ionizált közeget az üveggel érintkezésbe hozza, ionizált folyékony és/vagy gáznemű közeget tart érintkezésben a meniszfcuszban és/vagy a meniszkíusz felé folyó olvadt üveg felületével. A berendezés magában foglalhat olyan szerveket is, amelyek a meniszfcuszban vagy ennek közelében az olvadt üveghez tapadó ionizált kezelő közeg hártyaszerű rétegét hűtik. A találmány szerinti eljárás kivitelére alkalmas Piítsburgh-típusú üveglaphúzó gép egyik példaképpeni kiviteli alakját tünteti fel a rajz, mely a húzófcamra metszetét és a toronyszakasz alsó részét szemlélteti. Az 1 húzókamra a hőálló 2, 3, 4, 5, 6, 7 falakból áll. A 2 fal a húzófcamra végfala, a 7 fal pedig egy leárnyékoló fal. A belső, függesztett 4, 5 falak kb. 1 cm-rel nyúlnak az olvadt üveg 8 fürdőjének felszíne alá. Nyilakkal jelöltük a 8 fürdő bizonyos főáramait, így az előrehaladó 9 áramot, mely a húzott 11 üvegszalag 10 hátsó oldalához szállít üveget, és az előrehaladó 12 áramot, mely a 15 elösztórúd alatt halad és a 12', 12" és 12'" áramokra oszlik. Ez utóbbiak a húzott üvegszalag 13 elülső oldalát táplálják, míg az üveg további része a 12 áramban lefelé haladva a hidegebb, visszatérő 17 áramot képezi. A 8 fürdőből felfelé húzott üveg a 18 meniszkuszt alakítja ki, melyben az üveg vastagsága felfelé folyamatosan csökken. A meniszfcuiz tetején az üvegszailag vastagsága majdnem — de nem egészen — egyezik a végleges vastagsággal. Az üvegszalagot a búzókamrán keresztül húzzuk felfelé, melynek tetejét a ferde 20 falak 'és a 21 terelőnyúlványok határolják. Az utóbbiak között haladó üvegszailag a 22 toron yszakaszlba jut, mely egymás után több pár 23 húzóhengert foglal magában. Mialatt az üveg a húzókamírán keresztül felfelé halad, az üvegszalag oldalait a 24 hűtők hűtik. A 2, 3, 4 falak és a 8 fürdő felszíne között 2:5 tér, az 5, 6, 7 falak és a fürdő felszíne között pedig hasonló 26 tér helyezkedik el. Ebbe az utóbibi térbe LÍ2SO4 gőzöket vezetünk. A 26 térben az olvadt üveg hőmérséklete 1080°, míg a 25 térnél az üveg hőmérséklete 1050°. A húzókamrában, a 18 meniszkusz előtt és mögött, a fürdő felszíne fölött lapos 27, 28 terek vannak, melyeket a húzófcamra fölöttük levő részeitől a nem oxidálódó 29, 30 váiasz-10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 4
