157777. lajstromszámú szabadalom • Eljárás vékony szigetelő réteg lerakására

9 157777 10 zunk létre, azzal jellemezve, hogy a gázplazmá­ban legalább két gáz halmazállapotú reagenst keverünk, amelyek közül az egyik a vegyület kationjait tartalmazza és legalább, az egyik elektródot elszigeteljük a kevert gáz reagensek­től azáltal, hogy legalább az említett egyik elektródot az elektródra nézve közömbös gáz­köpenyben tartjuk. (Elsőbbség: 1966. IX. 1.) 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganato­sítási módja, azzal jellemezve, hogy az említett legalább egy elektródot azáltal szigeteljük el, hogy felülete körül védőgázt vezetünk be és a gázreagensek keverésének, valamint a védőgáz­nak relatív áramlási sebességét úgy akadályoz­zuk, hogy lényegileg statikus elválasztó felület jön létre az' említett legalább egy elektród kö­rül és-ilyen módon az említett legalább egy elektród folyamatosan védőgázba merül, ezáltal kizárva a gázreagenseket és a plazmának az em­lített belső gázfelülettel azonos terjedelmű ha­tára vain. (Elsőbbség: 1966. ÍX. 1.) 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás fo­ganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az említett gázreagensek keverékét két elektród között levő reakció kamrába vezetjük, 0,1-től 10 tanr tartományban levő nyomás mellett. (Elsőbbség: 1966. IX. 1.) 4. Az 1 —3. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az alaptestet 300—800°C hőmérséklet tar­tományban tartjuk plazma hevítés segítségével mindaddig, amíg az említett vegyületből álló lé­nyegileg szigetelő réteg lerakódik az alaptest felületién. (Elsőbbség: 1966. IX. 1.) 5. Az 1—4. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a plazma gáz pozitív ion telítési áramsű­rűsége 0,1-től 100 nA/cm2 tartományban van. s (Elsőbbség: 1967. IV. 28.) 6. Az 1—5. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a gáz reagensek közül az egyik szilán vagy annak származéka. (Elsőbbség: 1966. IX. 1.) 10 7. A 6. igénypont szerinti eljárás foganatosí­tási módja, azzal jellemezve, hogy a másik rea­genst az oxigént, nitrogént, ammóniát, metánt és széndioxidot tartalmazó csoportból választ­juk. (Elsőbbség: 1966. IX. 1.) 15 8. A 7. igénypont szerinti eljárás foganatosí­tási módja, azzal jellemezve, hogy egymást kö­vetően két réteget raíkunlk le azáltal, hogj egymást követőien használunk oxigént és nit­rogént. (Elsőbbség: 1966. IX. 1.) 20 9- Az 1—8. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a védőgiázt, a héliumot, argont, nitrogént és széndioxidot tartalmazó csoportból választ­juk. (Elsőbbség: 1966. IX. 1.) 25 10. Az 1-—9. igénypontok bármelyike szerinti ti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemez­ve, hogy alaptestként szilíciumot használunk. Elsőbbség: 1966. IX. 1. 30 l-l. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganato­sítási módja, azzal jellemezve, hogy a gáz hal­mazállapotú reagensek keveréke nitrogén, amely 0,01-től 1% SiBr4 -ot tartalmaz. (Elsőbbség: 1966. IX. 1.) 1 rajz, 1 ábra A kiadásért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója. 7008215. Zrínyi (T) Nyomda, Budapest V., Balassi Bálint utca 21—23. 5

Next

/
Thumbnails
Contents