154154. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és összetett anyag átlátszó rendszeresen áthaladó energiamennyiség állandósítására a rendszer áteresztőképességének változóvá tételével
154154 10 meggátol minden halogénveszteséget a- megfordítható átsresztés rendszeréből kifelé. Az adszorbens réteg előnyösen és lényegében • véve legalább egy olyan anyagból áll, amelyet a sziücium-, titán*-, alumínium- és ónoxid: al- & kotta csoportból választunk. Ezek az; anyagok tökéletesen áteresztők és vékony rétegben is szilárdak, egyébként vastagságuk többezer angströmöt is meghaladhat. Ezek; az anyagok tökéletesen hozzátapadnak a ihalogienidréteg- 10 hez, melyre azokat felvittük, és megíoirdíthatóa;n adszorbeálják a halogenidből kiszabadult, valószínűleg atomos vagy molekuláris állapotban levő halogént. Az említett anyagokat egyéb vegyszerekkel, így szilánokkal 'hígíthat- 15 juk, felltéve, hogy ezek porozitása nem annyira nyitott, hogy a halogén a pórusokon át kiszabadulhatna. Különösen fontos az. ónoxid, mert ez a villamosságot vezeti és így két szembenfakvő végé- 20 vei pl. 220 volt feszültségű elektródákhoz köthető. Az így keletkező árammal szabályozási célzóikra fokozni lehet a réteg hőmérsékletét. A hőmérséklet növelése csökkenti az ónoxid adszoirbeálóiképességét, úgyhogy az átlátszó lap 25 a besugárzás hatására csak kevésbé válik átlátszatlanná. Ezáltal a hideg évszakban a napsugarak egy része kápráztatás nélkül át tud hatolni, de hideg sugárzások: nem, tudnak bejutni olyan lapról, pl. üvegtábláról, amely hi- so dieg környezet hatása alatt áll. Az átlátszó tároló réteg előnyösen a fényérzékeny halogenidet képező kémiai anyagok bomlásait és {Vagy) újraképződését elősegítő' katalizátor nyomait is tartalmazhatja. 35 A nyomóikban jelenlevő katalizátor a megfordítható átlátszösiágú lap reakciósebessségét mind a besugárzás, mind az elsötétülés alatt megjavítja. 40 Másrészt bizonyos katalizátorok, előnyösen a réz-, kadmium- vagy nikfcelhaiogenidak, a „halogenid — tároló réteg" rendszert érzéken ynyé teszik 500 millimikronnál nagyobb hullámhosszúságú sugárzásokra, így sárgára és vö- 45 rösre. Ezáltal az átlátszó lap mint fototróp elem használata nincs korlátozva nagyobb frekvenciákra, amilyenek az ibolyántúli és egyes látható sugaraik a liláitól a zöldig. Bizonyos estetekben a katalizátor valamely kobalt- 50 halogenM. is lehet, pl. higany- vagy talliurnklorid vagy -broniid rétegben. A változékony és megfordítható átlátszóságú lapot könnyen elkészíthetjük az alább ismer- 55 tetett eljárási módok egyike vagy másika szerint. A rajz a találmány szerinti összetett anyag két kiviteli alakját példaképen, vázlatosan tünteti fel. 60 Az 1. ábra a találmány szerinti eljárással készült fototróp üveglap metszete, melyben a vékony rétegeik vastagságát a rajz világossága kedvéért erősen eltúloztuk. A 2. ábra kettős fototróp üveglap metszete. g5 1. példa: Az 1. ábrán a hagyományos nátronüvegből készült, lxl ;m nagyságú, 5 mm vastag 1 lapot a 200 angstrom vastagságú, 50 súly% AgCl és 50 súly% AgBr keverékéiből alkotott, átlátszó 2 réteg borítja, melyet viszont az 5000 angstrom vastagságú, átlátszó SiO (szilicrumoxid) réteg fed le. Ezt a 3 réteget a 2000 angstrom vastagságú, kaMumszilikátból való, átihatlan 4 védőréteg borítja. A vékony 2:, 3 rétegeket az 5 határfelület választja el egymástól. Az előállítási eljárás a. következő:. Miután az 1 üveglap felső felületét megtisztítottuk!, desztillált vízzel leöblítettük és megszárítottuk, az üveglapot ismert vákuumos elpárologtató készülékbe tesszük, bevonandó felületével lefelé, egy tégely fölé, mely 50—50 súly% AgCl és AgBr keverékét tartalmazza. Az egészet 1Q-5 higany .mm vákuumba helyezzük, mialatt a tégelyt elektromos úton 800°-ra hevítjük. Az 1 üvieglapra ezüstklorid és -bromid keverékének 2 rétege rakódik le, míg el nem éri a 200 angstrom vastagságot. E réteg a mikroszkóp alatt folytonosnak, ide szemesésnek látszik, ami mikrokristályos szövet jelenlétére mutat. Oly célból, hogy a 3 réteget a 2 réteg 5 határfelületénél létrehozzuk, hasonlóképen, járunk el, de a tégely ekkor kereskedelmi SiO-t tartalmaz. Utóbbit úgy is megkaphatjuk, hogy SÍO2 és Si ekvimialekuláris keverékét 10~4 hi-' gany mm nyomáson elpárologtatjuk. A SiO-ot tartalmazó tégelyt 10~5 higany mm vákuumban 1250°-ra, hevítjük. A felvivő 'művelet 8 percig tart, aminek, végén a 3 réteg SiO vastagsága 5000 angströmiöt ér el. A művelet befejeztével níem kell többe a kezelést sötétben vagy vörös fényiben, folytatni, mert az 1, 2 és 3 rétegek csoportja már felvette a megfordítható áteresztőképesség tulajdonságát. Ezután, az átlátszó 3 rétegre, mely szilioiumoxidiból (áll, isimert módon félvisszük: a 4 kalciumszilikát-réteget. íEzt az egyébként 2000 angstrom vastagságú réteget csak kívánság esetén kell alkalmazni; megvédi a 3 réteget külső mechanikai és vegyi hatásoktól. Amint fentebb már közöltük, a 3 SiO-réteg az 5 határfelületen adszorpció útján megköti azt a klórt és brómot, amely — valószínűleg gázállapotban — kiválik az ezüstbrotoid és -klorid anyagú, mikrokristályos. 2 rétegből 300 és 500 miMimikron. közötti hullámhosszúságú sugárzás hatására, mely pl. a naptól ered. A sugárzás erősségétől függően a rendszer fokozatosan át nem, eresztővé válik: és: csupán szürke sugarakat bocsát át; teljes napsütésben a fényáteresztés 30 imp besugárzás után lS%-ra csökken. 60 másodpercig sötétben tartva, a rendszer fényáteresztése 85%-ot ér el. 2,. példa: Az 1. példában, ismertetett 1 üveglaphoz hasonló lapra 50 angstrom, vastag fémezüstriéte-5
