142893. lajstromszámú szabadalom • Eljárás masszamagok gyártására

Megjelent: 1957. október hó 1-én. ^ ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADALMI LEÍRÁS 142.893. SZÁM 21. g. 31. OSZTÁLY - DE-117. ALAPSZÁM Eljárás masszamagok gyártására A Magyar Állam, mint Dr. Dénes Péter oki. gépészmérnök, budapesti lakos jogutódja Bejelentés napja: 1951. június 27. A bejelentés tárgya eljárás masszamagok gyár­tására, melyet az jellemez, hogy az alkalmazandó szervetlen szigetelőanyagot vagy annak alkotó­részeit átmeneti vegyületeinek oldataként keverjük el a ferromágneses porral és a szigetelőréteget a fémszemcséken egy további műveletben alakítjuk ki. Ez a művelet lehet vegyi elbontás, hőkezelés, vagy ezek kombinációja, melynek folyamán a fém­szemcséket a szervetlen szigetelőanyag vagy össze­függő rétegben, vagy kolloidális elosztásban, old­hatatlanul teljesen körülhurkolja. A találmány szerinti eljárás kivitelére egy egy­szerű példa a következő. Finoman elosztott vasport ammóniumkromát vizes oldatával tökéletesen el­keverünk, majd a keveréket kb. 200 C°-ra hevít­jük fel. Ezen a hőmérsékleten az ammóniagáz el­távozik és a kiváló kromoxid igen finom kolloidá­lis elosztásban körülburkolja a fémszemcséket. Egy másik kiviteli példa szerint a fémport nát­riumszilikát vizes oldatával keverjük össze és a nátriumszilikátból a sziliciumdioxidot koloidálisan kicsapjuk, pl. híg ecetsavval. A keletkező nátrium­acetátot kimossuk, majd a port 170 C°-on szárít­juk. Ecetsav helyett más gyenge szerves savat, vagy ammóniumsókat, pl. ammóniumszulfát, am­móniumacetát, is használhatunk. A szigetelt vas­szemcsék összetartására kötőanyagként kevés ter­mészetes, vagy műgyantát is keverhetünk a por­hoz. Egy másik változatban kicsapató közegként olyan vegyületet alkalmazunk, mely maga is kol­loidális szigetelőanyagot választ le magából, mely a sziliciumdioxiddal vegyíthető. Pl. az előbbi pél­dában, ha a kicsapatást ólomacetát vizes oldatával végezzük, kolloidális ólomoxid is rakódik le a fém­szemcsékre és pl. védőgázatmoszférában való izzí­tással ólomszilikát burkolat képezhető ki. Lényegesen kedvezőbb szigetelést nyerünk ak­kor, ha az egyes fémszemcsék körül összefüggő zománcburkolatot képezünk ki. Célszerű alacsony olvadáspontú zománcokkal dolgozni és ebben az esetben az sem fontos, hogy a többi alkotórész kol­loidális állapotból menjen üvegoldatba. Ha pl. az előbb említett sziliciumdioxid-ólomoxid szemcsék­kel burkolt vasrészecskéket bórsav vizes oldatával keverjük és a keveréket besűrítjük, már kb. 400 C°-on való izzítással ólomboroszilikát keletkezik, mely a szemcséket teljesen körülveszi. Keverhetjük a fémszemcséket ólomacetát és bórsav vizes olda­tainak keverékével, majd hevítéssel a szemcséken ólombdrát réteget képezünk ki. Ólomacetát helyett alkalmazhatunk bizmutacetátot is. A hőkezelést végezhetjük laza porral, vagy a kisajtolt formadarabbal. A laza por felhevítésével tökéletesebb szigetelőburkolatot kapunk. Az előre zománcozott porból készült magokat is lehet ké­sőbb a zománc zsugorodási hőmérsékletéig heví­teni, hogy a zománcrészek összeszinterelődjenek, mert ebben az esetben további kötőanyag nélkül, tehát viszonylag igen kevés szigetelőanyaggal is mechanikailag nagyon erős magokat nyerünk. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás masszamagok gyártására, amelyet az jellemez, hogy az alkalmazandó szervetlen szige­telőanyagot vagy annak alkotórészeit átmeneti ve­gyületek oldataként a ferromágneses porral tökéle­tesen elkeverjük és a szigetelőréteget a fémszem­cséken további műveletben úgy alakítjuk ki, hogy az az egyes fémszemcséket összefüggő rétegben, vagy kolloidális elosztásban oldhatatlanul teljesen körülveszi. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, amelyet az jellemez, hogy a szervetlen szi­getelőanyagot vegyületének oldatából vegyi úton, vagy hőkezeléssel, kolloidális állapotban kicsapjuk. 3; A 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, melyet az jellemez, hogy a kicsapató közeg is kolloidális szigetelőréteget szolgáltat. 4. Az 1—3. igénypontok bármelyike szerinti el­járás foganatosítási módja, melyet az jellemez, hogy a szigetelőrétegnek a kialakítása a kolloid-

Next

/
Thumbnails
Contents