140033. lajstromszámú szabadalom • Szenesített fémelem és eljárás előállítására

140033. 3 dukálási hőfoka elég magas ahhoz,, hogy nikkelszivacsok •képződjenek, amikor a porított nikkeloxid szemcséi redukálódnak, de nem elég magas ahhoz, hogy ai f> redukált nikkelt tömör tömeggé olvassza. Az egyes porózus nikkelszivacsok megtartják különállóságukat, jóllehet egymáshoz és a tömör fémaliaphoz vámnak zsugorítva. Végülis a fémiálapon fémes nikkel-10 bőt álló lágy fetl'ületi hordozó réteg keletkezik, mely új struktúrajiú, az alapszalaghoz szorosan kötve van, és a fémszivacsok közti apró üregek, valamint «i szivacsokban levő mikroszkópos méretű 15 pórusok fotylán likacsos. Az új hordozóval bevont fémalap, kellően szenesítve, a szokásosnál kiválóbb, karbonizáll elektródát ad. A hordozóra felvitt, ezt borító bevonat, így különösen olyan szénbevo-2{) nat, amely nagyrészt kolloidális grafitból áll, igen erősen tapad. A szénrészecskék tapadása a hordozóhoz crősehb, rnint kölcsönös kohéziójuk és ezért a szénbevonatot nem lehet lemezek vagy pikket-25 lyek alakjában eltávolítani, hiainem csak szénpor alakjában, melynek szemcséi azonban igen erősen tapadnak az alaphoz. Ily módon szenesílelt elektróda szokatlanul jól tartja meg szénrélegót és hőkísugár-30 zása a fekete testének 98%-a is letol. Az alapszalagot előnyösen folytonos eljárással állítjuk elő, melynél a porított nikkel oxid-réteggel bevont fémalap-szialagot hidrogéhkemencén vezetjük át. Utób-35 bihan az oxidot előnyösen akkora hőmérsékleten és olyan viszonyok között redukáljuk, hogy a redukált, fémes nikkel egymáshoz zsugorított és az alaphoz kötött porózus részecskéket, ill. nikíO kelszivacsokat alkot. Ily módon olyan alaphoz jutunk, amely a kívánt struktúrájú hordozóréteggel borított fémlemezből áll. A szenet különböző módokon vihetjük fel az alapra, még pedig célszerűen t5 olyan szénmáz alakjában, amely híg kötőanyagban szuszpendált, igen finoman elosztott grafitból, lámpakoirombol vagy eg,yéb szénféleségből áll. A szénmázat pl. perm élezéssel, mázolással vagy bemártással .0 célszerűen azonban jar lós merítéssel viszszük fel, melynél az új, porózus hordozóval bevont alapszalagot alkot; utóbbit valamely hordozóanyagban, pl. alkoholban — melyhez némi nilrocellulózál vagy 5 hasonló kötőanyagot adhatunk — híg szuszpenzióvá alakított kolloidális grafiton vezetjük át. Ha nagyon fekete -bevonatot akarunk, akkor igen finoman elosztott lámpakormot is adhatunk hozzá. A szuszpenzió oly csekély viszkozitású, 60 hogy azt a likacsos hordozó majdnem oly gyorsan szívja fel, mint az itatáspapír a tintát. A szuszpenzió tehát a hordozót igen finoman elosztott szénnel telíti és a hordozó felszínét is szénmáz- 65 réteggel borítja. Az alapot megszárítjuk, mire azon a szén-, 'ill. grafitmáz vékony rétege marad vissza, melynek felszíne általában lényegileg ugyanolyan, lailiakú, mint a hordozó durva, szabálytalan felületé- 70 nek felszíne. A széinmáz hordozóanyagának eltávolítása után az alapon visszamaradó szénréteg a fémhez gyakorlatilag kötve van. A találmányt az alábbi leírás jobban 75 megvilágítja. A mellékelt rajzok a találmány egyik kiviteli alakját, ill. módját elektroncső anódjával mint szenesített elemmel kapcsolatban, példaképpen tüntetik fel. Az 80 1. ábra a likacsos hordozó felületének ezerszeres átmérő-nagyítású fotomikrografikus képe. A 2- ábra a hordozó anyagstruktúrájának ezerszeres átmérő-nagyítású fotomikrúgra- 85 fikus képét keresztmetszetben mutatja. A 3. ábra a hordozó felületét, mely egymáshoz zsugorított fémszivacsokból és ezek közti üregekből, ill. apró likacsokból áll, erősen felnagyítva mutatja. A 90 4. ábra a 3. ábrán feltüntetett hordozÓHstruktúra erősen .nagyított keresztmetszete. Az 5. ábra - a nikkeloxiddal bevont alap egy részét fotomikrografikus keresztinél- 95 szetben szemlélteti. A 6. ábra az alapnak és az -5. ábra szerinti inikkeloxid-bevanatból alkotott hordozónak fotomikrografikus keresztmetszetét mutatja, a kész elemnek csupán példa- 100 kép pen feltüntetett szénbevonatával. A • 7. ábra szenesített anódlemez távlati képé, két mélyrehúzott nyúlvánnyal és négy derékszögű hajlattal; ezt az anódlemezt tömeggyártásban sikerrel állítót- íoft luk elő. A 8. ábra a szénmázzál bevont csík egy részének keresztmetszete, miután a csík a berendezést 'elhagyta. Á 9. ábra a folytonos eljáráshoz alkalmas no berendezésnek részben vázlatos képe. x\ 10. ábra e berendezés egy részlete. A találmány egyik kiviteli alakja az ábrázolt, szenesített anód, melynek nemporózus (10) fémalapja előnyösen vasfém- H5 lemezből, pl, kb. 0.13 min vastag, hidegen hengerelt, ill. lágy acélból áll; az utóbbira felvitt porózus, fémes (11) hor-