138397. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés áttört elektródok előállítására villamos kisütőcsövekhez és elektródok ilyenekhez vagy ilyen kisülőcsövekben
2 * 138397. Az alábbiak a találmány -egy kiviteli módját ismertetik rácsdetetródoklhozi való matraca előállításaira. Egy festéket felvevő*, pl. rézlemezre ellektro-5 lizissel leválasztunk egy, a festéket taszító, például, ólom-, króm-, nikikel-, kobalt-, rozsdamentes acél- vagy más fémiből való réteget. E felső rétegre ezután fényérzékeny fedőréteget viszünk fel, (majd erre rámásolunk 10 egy, az elektródkápet reprezentáló rasztert, pé-ldáül oly nagyszámú, egymást 90°-iban keresztező vonalakkal, hogy cm2 -kiérat 22.000 fénypont finomságot kapunk. Az ilyen rasztert, féinyképésizeti úton, kevésbé finom 15 raazterrőli vélhetjük, esetileg résalieteklben. A raszter rajzolt lelhet és bármilyen más kívánt alakú. A rámásolás után az érzékeny réteget előhívással kifejlesztjük, öblítjük, szárítjuk és 20 keményítjük úgy, hogy a felső fémréteglheiz alkalmazandó maratószerrel szemben, megmaradjon. A képátvitelre egyéb eljárások is alkalmazóiatok, pl. a féhérje-eljárás, az úgynevezett „ieeglue"-elji árás stb. 25 A szükséges előkezelések és esetleges lefedés után a lemezt az előzőleg érzékeny fedőlieraeznek a rezervát oldaláról miaor&tjuk valamely olyan miarósíerrel, amiely a krómot az ezen rezeirvátiban foglalt nyílás Helyén el-30 marja aiz alatta lévő rézrétegig vagy rézrétegbe. Ezután a leimezt, például fluoírhidrogénsiawal vagy más savval való kezelés és vízzel] való megnedvesítés után litqgráfiai tintával látjuk el olykép, hogy az üreges 35 terek kitöltődjenek. A litográfiái tinta az alsó réteg rézffeilületén megtapad, a nedves kiiómfelületen elleniben nem, az utóbbi ugyanis a rátapadt vizet visszatartja, a litográfiái tintát pedig taszítja. Ezután, a szige-40 t elles megerősítésére, aszfalttal való beporozás és esetleg beégetés Ikövetkiezhetik. Litográfiái tinta helyett más célravezető anyag is íhasízinjáliható'. Ha a lleimtezf illyeia módon elkészült, úgy erre, a szigetelt helyek közötti 45 részeken például mikkel választható el elektrolízissel és miután a kívánt rétegvastagság előállott, ez a lemezről lehúzható és leöblíthető, vagy pedig más módon távoílítSható el. Ha eizközífoen a szigeteilés megsérülne, úgy a 50 lemezt litográfiái tintával stib. újból kezelhetjük, miutáni előbb vízzel megnedvesítettük, hogy a litográfiái tinta a villamosan vezető krómfelületen ne tapadjon meg. A találmány szerint a matricának a villa-55 racsán vezető résszel képezett felü'iatét, amelyet az áttört elektródok előállítására haszrá'unk fel, tisztítás után vékony összefüggő (oxid-)réteggel fedhetjük oly módom;, hogy ezt valamely savval, például kénsavval, foszforsawal, fluoirhidrogénsavval, hangya sav- 60 val, amelyek savmaradlÉka a liotróp sorozat nem-duzzadó oldalán (az F—SCU—CL—Br— NO3—J—CNiS sorozatiban a jódtól balra) van,, oilyfkép kezelíjük, hogy a kezelt felület, szemcáézetlenül és/vagy aratogumival való 65 kezelés nélkül is, megnedvesítés uf án litográfiái tintát vagy egyéb hasonló anyagot taszítson. A villamosan vezető rész megtisztított felülete valamely oxidálószerrel, előnyösen (hidragénperoxiddal kezelhető. 70 Az oxidréteg kiképezhető! magától bekövEtkeaS oxidálódással, nevezetesen a levegő oxigénjével, illetve a vízben oldott: oxigénnel történő oxidálás mór elégendő lehet a szándékolt hatás előidézésére. Króm esetén 75 például nam szükséges oxidáló szerrel! való kezelés, és a matrica kénsavval, vagy amint ez imént már említve volt, flüorhidrogénsawaii kezelhető, amikor is a matraca, a levegőnek vagy a mosóvíz Másának kitéve, a SO kívánt, a litográfiái tintákat taszító tulajdonságát meigtartja. Ajánlatos a viUamiosan vezető rész felületét, a savval való kezelés előtt, lúggal1 vagy Tiúgos anyaggal megtisztítani. 85 Krómnak alkalmazása áttört elktródtiknak a találmány szerinti előállítására szükséges matricához azzal a különös előnnyel jár, hogy miután a króm igen sima felületű és kemény, a reá leválasztott elektródok szintén °0 igen sima felületűek. Az elektródok, annak következtéiben, hcigy a matricára, még mir előtt meigfcezdanők az elektródifém leválasztását, nem szükséges elválasztó réteget felvinni, könnyen meglazíthatok. Egyéibként le- !>5 hetséges valamely szokásos anyagot alkalmazni elválasztó rétegként. Hegy minek következtéiben áll be a fent. említett savas kezeléssel járó kedvező hatás, ez idő szerint biztonsággal nem állapítható 100 meg. Feltehető, hogy az alkálirnaizott eljárás révén a matrica felületén jelenlévő idegen iónok ifflnen kiszorulnak és eltaből folyóan a felület a nedvességet felvevő, iletve a litográfiái tintát taszító tulajdonság megtartá- 105 sara szükséges (oxid-)réteg felvételére (jobban) alkalmas. ' ' A matrica céljaira alka'mazott anyagrétegek igen vékonyak lehetnek és elektrolízissel, például katódporlaszitással, vagy egyéb mó- 110 dóin képezhetők ki, vagy vihetők fel. A matrica megnedvesítésére víz helyett esetleg glioeral vagy más, litográfiái tintát, festéket atb. nem oldó folyadék álkaltmazható.
