127003. lajstromszámú szabadalom • Eljárás kis wattveszteségű és nagy mágneses indukciójú lemezek, szalagok és más tárgyak előállítására villamossági célokra
2 127003. 25 30 A vastaqságcsökkenés IcriHkus százalékértéke'. 8 -- 120/0 6 --lOo/o 3 -2 -- 8 o/o - 6 o/o 1 -- 4 o/o 0,3-- 3 o/o lelően kell választani, mikoris a százalékos vastagságcsökkentés oly mértékben fogy, amily mértékben a szilícium tartalom növekedik. Ezekben az 5 áleresztésekben, amelyeket bevezetővagy íő-álcresztéseknek lehet nevezni, a százalékos vastagságcsökkentés értékének kb. 35—50/0 közölt kell lenni és pedig a szerint, amint a szilicium-10 larlalom 0,5 5o/0 között változik. A végső áteresztésben ezzel szemben a százalékos vaslagságcsökkenlés a kritikus százalékértékkel legyen egyenlő, amely ugyancsak a sziliciumlartalom-15 lói függ és — általánosan meghatározva — kb. 0,5 és 15 o/o közölt fekszik. A kritikus százalékértékeket a következő láblázai tartalmazza: 20 Sziliciumtarlalom: 0,5o/o 1 o/o 2 O/o 3 o/o 3.50/0 i.5°/o és c fölölt A különleges szilícium tartalom miatt a százalékos vaslagságcsökkenésnek minden bevezelő álereszLésben nagyobbnak kell lenni, a kritikus százalékértéknél. Ha pl. a szilieiumlarlalom 2 0/0 (amely cselben a vas tagságcsökkenés kritikus százalékértéke 3—80/0 között fekszik, mini fentebb megadtuk), a százalékos 35 vastagságcsökkenés minden bevezelő átereszlésben pl. 33o/0 . Nagyobb sziliciumlarlalom mellett (amikoris a vaslagságcsökkenés kritikus százalékértéke egészen kicsi) a százalékos vastagságcsökkenési minden bevezető áteresztésben a megfelelő mértékben csökkenleni kellene, azonban még mindig nagyobbnak kell lennie, mini az illető különleges szilícium larl alomnak megfelelő kritikus százalékérték. Átereszlésenkénl 50 0/0-os vaslagságcsökkenéssel az egyes bevezelő átercszléseknél (vagyis ha a lemezt 2 mm vastagságról 1 mm vastagságúra és ez utóbbit pedig 1 mm-ről 0,5 mm-re csökkentjük) csak 50 rosszabb eredményeket érünk cl. A találmány szerint tökéletesített eljárással eléri eredménvek azonban sokkal jobbak. Ha az anyag 0,5—3,5% menny iség-55 ben tartalmaz szilíciumot, a vaslagságesökkenés a bevezelő vagv főáleresz-40 45 tések közül legalább az utolsóban —• előnyösen azonban az említett átereszlések mindegyikében —35 200/0 legyen. Ha a szilicmmlarlalom 3.5 50/0 közölt 60 van, a vaslagságcsökkenés a bevezelő vagv fő áteresztések közül legalább az utolsóban, előnyösen az említelt áteresztések mindegyikében, 20—50/0 legyen. 65 Oly 20/o-os sziliciumlemeznél, melynek kezdeti vastagsága 2 mm és kívánt végleges vastagsága 0,5 mm, pl. négy áteresztési vagy hengerlési eljárást alkalmazunk, mikoris az első áteresztés- 70 ben a 1 emezvastagságol 2 mm-ről 1,4 mm-re, a másodikban 1,1 mm-ről 1 mm-re, a harmadikban 1 mm-ről 0,7 mm-re és a negyedikben 0,7 mm-ről 0,5 mm-re csökkentjük. Ezekből a 75 számadatokból kitűnik, hogy a lemezvastagság minden menetben vagy álereszLésben mintegy 3()o/0 -kal csökken. Némely esetben az is elegendő, ha a 30 vagy 35o/0 -os vaslagságcsökkentést 80 a bevezelő álercsztések közül csak a két utolsóban alkalmazzuk. Az egymás után következő bevezelő áteresztések között az anyagot általában megfelelő hőmérséklelre, előnyö- 85 sen 800—850 C° hőmérsékletre hevítjük. Különösen kedvező elektromágneses tulajdonságuk elérése végett előnyösnek . mutatkozott, ha az anyagot az említett 90 hevítés után, amelyet az egyes bevezelő vagy közbenső áteresztések után végeztünk,, edzési kezelésnek vetettük alá, mikoris a víz hőmérséklele 0 C° volt. Víz helyeit természetesen más hülőfo- 95 Ivadékot is használhatunk, amelynek hőmérséklele 0 C°. Ezt követő leg az anyagot 500 800 C° közölt fekvő" hőmérsékletre hevíljük. Ezzel az eljárással a szén egyenletes eloszlását bizto- 100 sítjuk, ami a szénnek grafittá való átalakulására kedvező hálással van. Az utolsó bevezető áteresz lés után az anyagot az A3 pont fölölL vagy annak közelében fekvő hőmérséklelre he- 105 vítjük. Az alkalmazandó hőmérséklet az anyag sziliciumlarlalmálól függ és 900—i250 C° között van és pedig a 0,5- 5o/o közölt levő sziliciumtarlalomnak megfelelően. így pl. 20/0 szilícium- 110 tartalom melleit a hevítésre a legjobban megfelelő hőmérséklet 900 C° fölött van.
