124400. lajstromszámú szabadalom • Eljárás vékony szelénrétegek előállítására, kiváltképpen fotocellákhoz és szárazegyenirányítókhoz

Megjelent 1940. évi augusztus hó 16-án. MÁGIÁÉ KIRÁLYI ^SSJK SZABADALMI BÍRÓSÁG SZABADALMI LEÍRÁS 124400. SZÁM. VH/g (IV/h/1.) OSZTÁLY. — L. 7934. ALAPSZÁM. Eljárás vékony szelénrétegek előállítására, kiváltképpen fotocellákhoz és szárazegyenirányítókhoz. Licentia Patent-Verwaltungrs-Gesellschaft m. b. H., Berlin. A bejelentés napja 1939. évi szeptember hó 30. Kémetországi elsőbbsége 1938. évi október hó 3. Szelénfotocellák vagy szelén szárazegyenirányitók előállításánál gyakran fontos, hogy a szükséges szelénréteget rendkívül vékony és igen egyenletes réteg 5 alakjában vigyük fel. A felvitt szelénmennyiségeknek az adagolása az ismeretes eljárásoknál majdnem legyőzhetetlen nehézségekbe ütközik. A találmány szerinti eljárással, melyet 10 igen kényelmesen alkalmazhatunk, rendkívül vékony és egyenletes vastagságú rétégeket állíthatunk elő. Az eljáráshoz oldószerben oldott szelént használunk. Könnyen szabályozható mechanikai el-15 járással, pl. felöntesse! vagy felfecskendezéssel a szelént oldatban tartalmazó oldószert hordozóra visszük fel, és ezután az oldatot elpárologtatjuk. Ekkor a szelén nemvezető vörös módosulatában lehelet-20 szerűen vékony rétég alakjában csapódik le a hordozóra, majd adott esetben önmagában ismeretes hőkezeléssel a félvezető kristályos módosulatát állítjuk elő. Ezzel az eljárással előállított vékony 25 szelénrétegeknek fotocellák előállításánál az az előnyük, hogy nagymértékben fényáteresztők. Az eljárást előnnyel alkalmazhatjuk szárazegyenirányítók előállítására is, melyektől különösen akkor, ha azokat 80 mérőeszközökben alkalmazzák, rendkívül egyenletességet kívánnak meg. Azokban az esetekben, melyeknél az így előállított félvezetőrétegre még záróréteget is visznek fel, ugyanezt az eljárást 55 rnégegyszer alkalmazhatjuk, azonban ebben az esetben a fentemlített formáló hőkezelés elmarad. A záróréteget tehát a kristályos félvezetőrétegen előállított vékony, nemvezető szelénréteggel alakítjuk ki. Effajta záróréteget, előnyei megtar- 40 tása mellett, másmódon előállított félvezetőrétegekre is felvihetjük. Az így előállított szelénrétegnek előnye, a rendkívül vékony rétegvastagsága és pontosan adagolható anyagmennyisége. 45 Effajta vékony szelénréteget, pl. a következőképen állíthatunk elő: Pl. nikkelből vagy nikkelezett vasból lévő hordozólemezre szelént oldatban tartalmazó folyadékot, kiváltképen szelénbromidot 50 vagy szénkéneget viszünk fel és az így bevont lemezt hevítőlemezen vagy kemencében mintegy 100—120 C°-ra hevítjük. Ezzel az oldószert elpárologtatjuk és az oldott szelént kicsapjuk. Az így 55 kapott, és az oldószer megválasztása szerint amorf vagy kristályos szelénréteget ezután önmagában ismert hőkezeléssel formáljuk, hogy a hatásos módosulatot és az előnyös kristályszerkezetet meg- 60 kapjuk. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás vékony szelénrétegek előállítására fotocellákhoz és szárazegyenirányítókhoz, melyre jellemző, hogy 65 szelént tartalmazó oldószert mechanikai úton hordozóra viszünk fel, az oldatból a szelént kicsapjuk, az oldatot elpárologtatjuk és ezután a kép-