115796. lajstromszámú szabadalom • Eljárás lumineszkáló anyag előállítására
Megállapítottuk, hogy a részecskék e külső (12) rétegének fényhatásfoka sokkal kisebb, mint a «torzítatlan» belső (14) részé. A találmány értelmében mármost a fíno-6 man elosztott lumineszkáló anyagot a (16) alkalikus fürdőbe visszük. Ajánlatos valamely könnyen illanó lúg vagy erősen lúgos só, mint pl. ammondumhidroxid. NH4 OH, vagy ammoniumkarbonat. (XH"4 )2 C03 , gyento gén alkalikus oldatának alkalmazása. Jó eredményeket érünk el, ha 5-ször • normál ammoniumhidroxidot használunk és a lumineszkáló anyag parányi részecskéit ebben kb. 24 óráig állni hagyjuk. 15 Azonban az alkalikus oldat töménysége tág határok között változhat, aszerint, hogy milyen különleges szilikátot vagy más lumineszkáló anyagot kívánunk kezelni. A kívánt hatás létrejöttéhez szükséges idő in-20 kább kísérletileg állapítandó meg és az alkalikus oldat töménységétől, valamint az alkalmazásra kerülő anyag jellegétől függ. Ha a finoman elosztott lumineszkáló anyag kellő ideig az alkalikus oldatban 25 volt, a műveletet az oldat dekantálásával és/vagy elpárologtatásával fejezzük be, mikor is «torzítatlan» kristályok vagy részecskék maradnak vissza. Ilyen módon az egyes részecskék «torzított» felületét el-30 távolitottuk. Ha mármost e «torzítatIan» részecskéket, ernyő kialakítása céljából a cső végére felvisszük, akkor a kapott ernyőnek az ellenállása a katódasugár elégető hatásával szemben, valamint fény-35 hatásfoka nagyobb, mint az olyan ernyőké, amelyek finomra őrölt lumineszkáló anyagból a fent részletezetL járulékos kezelés nélkül készültek. A jelzett tökéletesítéseket vagy előnyöket 40 eredményező hatás többféleképen magyarázható. Néhány magyarázatot az alábbiakban közlünk. Az egyes részecskék az alkalikus oldatban felületig hidrolizálódhatnak, mimellett 45 a reakció a következő (A) egyenlet szerint mehet végbe: (A) 4 H2 0 + Zns SiO,. Mn + 2 (OH-)^Z* 2 Zn (OH), + H4 Si04 + Mn (OH)s 50 Más magyarázat szerint e reakció reverzibilis, amint az (A) egyenlet mutatja, úgyhogy, miután az egyes részecskék egész «torzított» külső rétegének hidrolízise végbement, a lumineszkáló anyag különböző 55 molekuláris alkatrészei a most már «torzítatlan» részecskék felületén újra kristályosodnak és így a részecskék felületén új «torzítatlan» kristályos réteget alkotnak. A létrejövő hatás további magyarázata szerint a "kovasav a következő (B) egyen- 60 let szerint az oldatból az egyes részecskék felületére újra lerakódik vagy kicsapódik, úgyhogy mindegyik részecske körül erős burkolóréteget alkot. (B) 65 H4 Si04 Si03 1 + 2 Hs 0 Az előzőkből láthatjuk, hogy a találmány szerinti eljárással kiküszöböljük azokat a hátrányos jelenségeket, amelyek a fenti jellegű lumineszkáló anyagnak parányi ré- 70 szecskékre való felaprításánál vagy őrlésénél léphetnek fel és így a találmány szerint kezelt anyagnak a katódasugár elégető hatásával szembeni ellenállóképessége és/ vagy fényhatásfoka lényegesen nagyobb, 75 mint a találmány szerinti kezelésnek alá nem vetett anyagé. Szabadalmi igények: 1. Eljárás lumineszkáló anyag előállítására, azzal jellemezve, hogy az anyag 80 részecskéit alkalikus oldatban kezeljük és azután az oldatot eltávolítjuk. 2. Az 1. igény szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a lumineszkáló anyagot olyan tömény- 8t ségű alkalikus oldatban annyi ideig hidrolizáljuk, hogy a hidrolízis a felülettől számítva olyan mélységig következzék be, amely a hidrolízis előtt jelenlévő, viszonylag nem aktív felületi réteg vas- 9( tagságával gyakorlatilag egyenlő. 3. Az 1. igény szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az anyag részecskéiről azoknak teljes felületi rétegét leoldjuk és azután az oldó- 9; szert eltávolítjuk, úgyhogy az anyag olyan részecskék alakjában marad viszsza, amelyek mindegyike teljes egészében normális alkatú. 4. Az 1. igény szerinti eljárás loganatosí- 11 tási módja, azzal jellemezve, hogy fémmel aktivált fémszilikát részecskéit alkalikus oldatba helyezzük, hogy a részecskéknek elektronbombázás hatására fellépő lumineszkáló sajátságát növel- 1 jük, majd az oldatot eltávolítjuk. 5. Az előző igények egyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a részecskéket aprított szintétikus «willemite»4)ől készítjük és azokat am- 1 moniumhidroxid vagy ammoniumkarbonat oldatával kezeljük. t rajzlap melléklettel.
