Himer Zoltán (szerk.): Iparjogvédelem. Módszertani füzetek 1-17. és SZKV mellékletek (Budapest, 1988)

Módszertani füzetek 1. - Módszertani útmutató Iparjogvédelmi kutatások és vizsgálatok végzéséhez az MSZ-16 0001-80 OTH Ágazati Szabvány előírásai szerint

3.3.1.1. találmányok kátegóriájába tartozó műszaki alkotások vizsgálata E vizsgálat Keretében a szabaualomtisztaság megállapi­­tásara irányuló elemzés a következő műveletekből áll:- a találmányi leiras jogi jelentőségű részei alap­ján a szabadalmas jogainak megáliapitása;- a szabaoalmi igénypontok feiepitési rendszerének meghatarozasa;- a szabadalmi igénypontok elemzese az oltalmi do­kumentum áltál biztosított jog hatarainak meg­­állapitása céljából;- a szaoacalmi igénypontok alapjan a találmány egyes jellemzőinek és ezek összességének megál­lapít ása;- az oltalmi dokumentum áltál védett megoldás es a vizsgált alkotás jellemzőinek összehasonlítá­sa /külön-külön az egyes igénypontok szerint/;- az oltalmi dokumentum által véoett találmány és a vizsgált megoldás közös, nagymértékben ha­sonló vagy egyenértékű jellemzőinek meghatáro­zása ;- amennyiben ilyen jellemzőkkel biró igénypont ta­lálható, úgy meg kell vizsgálni, hogy az lénye­gesnek tekinthető-e a találmány megvalósitása szempontjából. na ilyet találunk, vagyis ha a találmány első vagy fő igénypontja, illetve más, az előbbiektől független aligény­­pontjának jellemzői maradéktalanul megvalósulnak a vizsgált megoldásban vagy annak valamely elemében, akkor a szabada­lomtisztaság hiányát áilapithatjuk meg, Ebben az esetben függetlenül attól, hogy az ütközés a vizsgált alkotás egé­szét vagy annak csak valamely elemét érinti, az-adott oltal­mi dokumentum származási országában a teljes műszaki alkotás nem tekinthető szabadalomtisztának mindaddig, amíg a kérdé­­ses oltalmi dokumentum hatályát nem veszti, A fenti esetben a szabadalomtisztaság hiánya fennáll akkor is, na a vizsgált alkotásban az oltalmi dokumentum va­lamely független igénypontjának összes jellemzői mellett még egy sor olyan jellemző is előfordul, amelyek következ­­xében a vizsgált alkotás magasabb szintű, tökéletesebb mű­szaki paraméterekkel rendelkezik, mint az oltalom alatt ál­ló megoldás. 19

Next

/
Thumbnails
Contents